JPS6252019B2 - - Google Patents
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- JPS6252019B2 JPS6252019B2 JP4800783A JP4800783A JPS6252019B2 JP S6252019 B2 JPS6252019 B2 JP S6252019B2 JP 4800783 A JP4800783 A JP 4800783A JP 4800783 A JP4800783 A JP 4800783A JP S6252019 B2 JPS6252019 B2 JP S6252019B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- bottom chamber
- base plate
- temperature
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2281/00—Making use of special physico-chemical means
- C21D2281/02—Making use of special physico-chemical means temperature gradient
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金属コイルのバツチ焼鈍炉、特に金
属コイルの幅または長さ方向にわたる各部位が特
定の温度勾配で特定温度域を通過するようにして
金属コイルを加熱するバツチ焼鈍炉に関する。
属コイルの幅または長さ方向にわたる各部位が特
定の温度勾配で特定温度域を通過するようにして
金属コイルを加熱するバツチ焼鈍炉に関する。
従来、一般に用いられる金属コイルの焼鈍炉は
金属コイルをベースプレート上に載せ、金属コイ
ルを静止させた状態で所定のヒートパターンを与
えて焼鈍していた。たとえば、一方向性電磁鋼板
の製造工程において、最終仕上焼鈍(二次再結晶
焼鈍)は第1図に示すようなバツチ焼鈍炉により
広く行われていた。
金属コイルをベースプレート上に載せ、金属コイ
ルを静止させた状態で所定のヒートパターンを与
えて焼鈍していた。たとえば、一方向性電磁鋼板
の製造工程において、最終仕上焼鈍(二次再結晶
焼鈍)は第1図に示すようなバツチ焼鈍炉により
広く行われていた。
すなわち、第1図に示すように電磁鋼板コイル
Cをコイル軸に垂直にしてベースプレート3上に
載置し、インナカバー2をこれに被ぶせる。そし
て、更にインナーカバー2をベル形炉体1により
覆い、インナカバー2内に給気管4によりN2、
AX、H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そし
て、炉体1内側に取り付けられた電熱ヒーター5
およびベースプレート3下方に配置された電熱ヒ
ーター6によりコイルC全体を同時に、比較的均
一に加熱、昇温する。コイルCを所要温度(1150
〜1200℃)まで昇温し、均熱保持したのち、炉体
1内にこれの頂部に接続された冷却ガス吹込管7
から冷却ガスを吹き込み、所定温度まで冷却し、
焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷却装置8
で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれる。
Cをコイル軸に垂直にしてベースプレート3上に
載置し、インナカバー2をこれに被ぶせる。そし
て、更にインナーカバー2をベル形炉体1により
覆い、インナカバー2内に給気管4によりN2、
AX、H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そし
て、炉体1内側に取り付けられた電熱ヒーター5
およびベースプレート3下方に配置された電熱ヒ
ーター6によりコイルC全体を同時に、比較的均
一に加熱、昇温する。コイルCを所要温度(1150
〜1200℃)まで昇温し、均熱保持したのち、炉体
1内にこれの頂部に接続された冷却ガス吹込管7
から冷却ガスを吹き込み、所定温度まで冷却し、
焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷却装置8
で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれる。
ところで、最近、一方向性電磁鋼板を使用した
変圧器等の電気機器の小型化が重要な問題となり
つつある。これら電気機器の鉄心重量の軽減化の
ためには励磁特性(B8特性)および鉄損特性が
更に改良された一方向性電磁鋼板が必要となつて
来た。
変圧器等の電気機器の小型化が重要な問題となり
つつある。これら電気機器の鉄心重量の軽減化の
ためには励磁特性(B8特性)および鉄損特性が
更に改良された一方向性電磁鋼板が必要となつて
来た。
本出願人が先に出願した熱処理方法(特願昭55
−75033、56−20154、56−198443、56−96740)
は一次再結晶領域と二次結晶領域との境界領域に
おいて電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与えな
がら二次再結晶を進行させる。すなわち、一次再
結晶焼鈍の終つた電磁鋼板コイルの一端から他端
に向つて加熱を進めて行き、コイル全幅にわたり
二次再結晶させる。このとき、930〜1050℃の温
度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5℃/cm以上の温度勾配を与
えるように加熱する。この方法によれば、従来得
られなかつた、画期的に優れたB8特性および鉄
損特性をもつた電磁鋼板を製造できるようになつ
た。
−75033、56−20154、56−198443、56−96740)
は一次再結晶領域と二次結晶領域との境界領域に
おいて電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与えな
がら二次再結晶を進行させる。すなわち、一次再
結晶焼鈍の終つた電磁鋼板コイルの一端から他端
に向つて加熱を進めて行き、コイル全幅にわたり
二次再結晶させる。このとき、930〜1050℃の温
度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5℃/cm以上の温度勾配を与
えるように加熱する。この方法によれば、従来得
られなかつた、画期的に優れたB8特性および鉄
損特性をもつた電磁鋼板を製造できるようになつ
た。
しかし、従来のバツチ焼鈍炉では前述のように
コイル全体をほぼ均一に加熱しながら昇温して行
く。したがつて、上記境界領域において金属コイ
ルに所要の温度勾配を与えることはできない。
コイル全体をほぼ均一に加熱しながら昇温して行
く。したがつて、上記境界領域において金属コイ
ルに所要の温度勾配を与えることはできない。
そこで、この発明は金属コイルの焼鈍におい
て、特定の領域に所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱、昇温することができるバツチ焼
鈍炉を提供しようとするものである。
て、特定の領域に所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱、昇温することができるバツチ焼
鈍炉を提供しようとするものである。
この発明のバツチ焼鈍炉ではベル形炉体、ベー
スプレートおよびインナカバーを備えた炉におい
て、上方に向つて開口し、内径が金属コイルの外
径よりやや大きく、金属コイルの収納可能なボト
ムチヤンバーが炉体の下方に設けられている。ボ
トムチヤンバー内にはこれと同軸に、ボトムチヤ
ンバー底部から上方に延びる柱状の固定ベースが
設けられている。固定ベースは外径が金属コイル
の内径よりやや小さく、ボトムチヤンバーの開口
部に位置する仕切部をもつている。上記ボトムチ
ヤンバー内および固定ベースの仕切部より上の部
分にヒーターが設けられている。また、前記ベー
スプレートは環状をしており、冷却手段を備えて
いる。そして、ベースプレートはボトムチヤンバ
ーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に支持され
ている。支持部材の下端部には昇降駆動装置に連
結されている。
スプレートおよびインナカバーを備えた炉におい
て、上方に向つて開口し、内径が金属コイルの外
径よりやや大きく、金属コイルの収納可能なボト
ムチヤンバーが炉体の下方に設けられている。ボ
トムチヤンバー内にはこれと同軸に、ボトムチヤ
ンバー底部から上方に延びる柱状の固定ベースが
設けられている。固定ベースは外径が金属コイル
の内径よりやや小さく、ボトムチヤンバーの開口
部に位置する仕切部をもつている。上記ボトムチ
ヤンバー内および固定ベースの仕切部より上の部
分にヒーターが設けられている。また、前記ベー
スプレートは環状をしており、冷却手段を備えて
いる。そして、ベースプレートはボトムチヤンバ
ーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に支持され
ている。支持部材の下端部には昇降駆動装置に連
結されている。
上記のように構成されたバツチ焼鈍炉におい
て、特定の領域で所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱するには、まず金属コイルを載置
したベースプレートを下降させて、金属コイルを
ボトムチヤンバー内に収納する。ついで、ベース
プレートを徐々に上昇させる。このとき、金属コ
イルのボトムチヤンバーから上方に突出した部
分、すなわちインナカバー内に入つた部分は上記
加熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属
コイルのボトムチヤンバー内の部分は一次再結晶
のままの状態である。この二次再結晶領域と一次
再結晶領域との境界領域、すなわち金属コイルの
ボトムチヤンバー開口部付近に位置する部分が所
定の温度勾配となるように上記加熱手段、金属コ
イルの上昇速度、さらにこれらに加えてベースプ
レートの冷却手段をそれぞれ調整する。
て、特定の領域で所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱するには、まず金属コイルを載置
したベースプレートを下降させて、金属コイルを
ボトムチヤンバー内に収納する。ついで、ベース
プレートを徐々に上昇させる。このとき、金属コ
イルのボトムチヤンバーから上方に突出した部
分、すなわちインナカバー内に入つた部分は上記
加熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属
コイルのボトムチヤンバー内の部分は一次再結晶
のままの状態である。この二次再結晶領域と一次
再結晶領域との境界領域、すなわち金属コイルの
ボトムチヤンバー開口部付近に位置する部分が所
定の温度勾配となるように上記加熱手段、金属コ
イルの上昇速度、さらにこれらに加えてベースプ
レートの冷却手段をそれぞれ調整する。
この発明のバツチ焼鈍炉は上記のようにボトム
チヤンバーを設け、ボトムチヤンバーの内径を金
属コイルの外径よりやや大きくすると共に、外径
が金属コイル内径よりやや小さい仕切部をもつた
円柱状固定ベースをボトムチヤンバー内に設けて
いる。したがつて、ボトムチヤンバーは高温のイ
ンナカバーとは金属コイルおよび固定ベースの仕
切部によつて仕切られることになるので、ボトム
チヤンバー内はインナカバー内に比べてかなり低
温に保持することが出来る。これにより、金属コ
イルをボトムチヤンバーからインナカバー内に送
り出すとき、前記境界領域に所望の温度勾配を与
えることができる。
チヤンバーを設け、ボトムチヤンバーの内径を金
属コイルの外径よりやや大きくすると共に、外径
が金属コイル内径よりやや小さい仕切部をもつた
円柱状固定ベースをボトムチヤンバー内に設けて
いる。したがつて、ボトムチヤンバーは高温のイ
ンナカバーとは金属コイルおよび固定ベースの仕
切部によつて仕切られることになるので、ボトム
チヤンバー内はインナカバー内に比べてかなり低
温に保持することが出来る。これにより、金属コ
イルをボトムチヤンバーからインナカバー内に送
り出すとき、前記境界領域に所望の温度勾配を与
えることができる。
また、この発明の炉ではベースプレートに冷却
手段を設けているので、ボトムチヤンバー内にと
どまつている金属コイルの部分を低い温度に保持
することができる。この結果、上記境界領域に大
きな温度勾配を与えることができる。さらに、冷
却を制御することにより温度勾配を所要の値に調
節することもできる。
手段を設けているので、ボトムチヤンバー内にと
どまつている金属コイルの部分を低い温度に保持
することができる。この結果、上記境界領域に大
きな温度勾配を与えることができる。さらに、冷
却を制御することにより温度勾配を所要の値に調
節することもできる。
さらに、ボトムチヤンバー内にヒーターを設け
ているので、コイルを所要の温度に加熱して均熱
保持する際、ベースプレートからの熱の放散が抑
制される。そして、このヒーターはボトムチヤン
バー内のライニング材(耐火材)に含まれている
水分を乾燥させる。また、固定ベースの仕切部よ
り上の部分に設けられたヒーターは、コイル加熱
時に炉内温度と関連しながらコイルを内周面から
加熱する。したがつて、コイルをこれの半径方向
に均一に加熱することができるので、コイルがた
とえば10トン以上の大型のものであつても、全体
にわたつて均一な品質のコイルを得ることが可能
となつた。
ているので、コイルを所要の温度に加熱して均熱
保持する際、ベースプレートからの熱の放散が抑
制される。そして、このヒーターはボトムチヤン
バー内のライニング材(耐火材)に含まれている
水分を乾燥させる。また、固定ベースの仕切部よ
り上の部分に設けられたヒーターは、コイル加熱
時に炉内温度と関連しながらコイルを内周面から
加熱する。したがつて、コイルをこれの半径方向
に均一に加熱することができるので、コイルがた
とえば10トン以上の大型のものであつても、全体
にわたつて均一な品質のコイルを得ることが可能
となつた。
以下、この発明の実施例について説明する。
第2図はこの発明のバツチ焼鈍炉の一例を示す
縦断面図である。なお、第2図において第1図に
示す従来炉の部材と同一の部材には同一の参照符
号を付け、以下これら部材の説明は省略する。
縦断面図である。なお、第2図において第1図に
示す従来炉の部材と同一の部材には同一の参照符
号を付け、以下これら部材の説明は省略する。
ボトムチヤンバー11は上端にフランジ13を
有する円筒状胴体12と底部材14よりなつてお
り、耐火レンガにより構築されている。胴体12
はフランジ13部で支持されるようにして支持構
造21の頂部に載置されている。第2図に示すよ
うに、底部材14は支持構造21の下方寄りに載
置されている。胴体12と底部材14との間にサ
ンドシール15が設けられている。胴体12内周
面には柔軟で弾力性をもつた断熱材16(たとえ
ばセラミツクフアイバーブロツク)で内張りされ
ている。断熱材16で内張りされた胴体12の内
径は金属コイルCの外径より僅かに小さく、コイ
ルC外周面が断熱材16に摺動するようにしてい
る。
有する円筒状胴体12と底部材14よりなつてお
り、耐火レンガにより構築されている。胴体12
はフランジ13部で支持されるようにして支持構
造21の頂部に載置されている。第2図に示すよ
うに、底部材14は支持構造21の下方寄りに載
置されている。胴体12と底部材14との間にサ
ンドシール15が設けられている。胴体12内周
面には柔軟で弾力性をもつた断熱材16(たとえ
ばセラミツクフアイバーブロツク)で内張りされ
ている。断熱材16で内張りされた胴体12の内
径は金属コイルCの外径より僅かに小さく、コイ
ルC外周面が断熱材16に摺動するようにしてい
る。
なお、炉体1はフランジ13上に載置され、炉
体1とボトムチヤンバー11との間はサンドシー
ル25および液体シール26により気密が保たれ
る。また、インナカバー2もフランジ13上に載
置され、サンドシール28によりシールされる。
体1とボトムチヤンバー11との間はサンドシー
ル25および液体シール26により気密が保たれ
る。また、インナカバー2もフランジ13上に載
置され、サンドシール28によりシールされる。
第3図に示すようにボトムチヤンバー11内に
は胴体12と同軸にして底部材14より上方に突
出するようにして円柱状の固定ベース31が設け
られている。固定ベース31は耐火レンガ製であ
つて、中心に雰囲気ガス供給孔32が貫通してい
る。固定ベース31の、ボトムチヤンバー11の
開口部17に位置する部分は仕切部33となつて
いる。仕切部33の外周面には胴体12内周面に
内張りされた断熱材16と同じ断熱材34が張り
付けられている。仕切部33の外径はコイルCの
内径より僅かに大きく、コイルC内周面が仕切部
33外周面を摺動するようになつている。また、
仕切部33の上端はボトムチヤンバー11の上面
と同じ高さに位置している。仕切部33の上、下
はそれぞれ若干直径が小さく、それぞれ第1加熱
部34および第2加熱部36となつている。各加
熱部34,36には円周に沿つて多数の溝38が
設けられており、ここに電熱ヒーター35,37
が埋め込まれるようにして取り付けられている。
第2加熱部36の下端から底部材14の間は基部
39であり、上記仕切部33と同径であり、断熱
材40が張り付けられている。
は胴体12と同軸にして底部材14より上方に突
出するようにして円柱状の固定ベース31が設け
られている。固定ベース31は耐火レンガ製であ
つて、中心に雰囲気ガス供給孔32が貫通してい
る。固定ベース31の、ボトムチヤンバー11の
開口部17に位置する部分は仕切部33となつて
いる。仕切部33の外周面には胴体12内周面に
内張りされた断熱材16と同じ断熱材34が張り
付けられている。仕切部33の外径はコイルCの
内径より僅かに大きく、コイルC内周面が仕切部
33外周面を摺動するようになつている。また、
仕切部33の上端はボトムチヤンバー11の上面
と同じ高さに位置している。仕切部33の上、下
はそれぞれ若干直径が小さく、それぞれ第1加熱
部34および第2加熱部36となつている。各加
熱部34,36には円周に沿つて多数の溝38が
設けられており、ここに電熱ヒーター35,37
が埋め込まれるようにして取り付けられている。
第2加熱部36の下端から底部材14の間は基部
39であり、上記仕切部33と同径であり、断熱
材40が張り付けられている。
ベースプレート41は環状をしており、内径は
コイルC内径と等しいか、これよりやや小さく、
外径はコイルC外径と等しいか、これよりやや大
きい。ベースプレート41内部には円周に沿つて
冷却ガス流路42が設けられている。冷却ガス流
路42には冷却ガス供給管45およびこれより円
周方向に180゜離れた位置にある冷却ガス排出管
(第4図に符号46として示す)が連通してい
る。両管45,46はボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通し、たわみ管47を介して次に述
べる冷却ガス循環装置51に接続されている。な
お、両管45,46がボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通する部分にはダイナミツクベロー
ズ48が取り付けられており、ボトムチヤンバー
11内の気密を図つている。また、両管45,4
6の途中にベローズ49を設け、装置運転中に生
ずる熱膨脹を吸収するようにしている。
コイルC内径と等しいか、これよりやや小さく、
外径はコイルC外径と等しいか、これよりやや大
きい。ベースプレート41内部には円周に沿つて
冷却ガス流路42が設けられている。冷却ガス流
路42には冷却ガス供給管45およびこれより円
周方向に180゜離れた位置にある冷却ガス排出管
(第4図に符号46として示す)が連通してい
る。両管45,46はボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通し、たわみ管47を介して次に述
べる冷却ガス循環装置51に接続されている。な
お、両管45,46がボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通する部分にはダイナミツクベロー
ズ48が取り付けられており、ボトムチヤンバー
11内の気密を図つている。また、両管45,4
6の途中にベローズ49を設け、装置運転中に生
ずる熱膨脹を吸収するようにしている。
第4図は上記冷却ガス循環装置51の系統図で
ある。
ある。
冷却ガス循環装置51は冷却ガス溜52に供給
元弁53および遮断弁54を介してブロアー55
が接続されている。ブロアー55は温度調節弁5
6を介して上記冷却ガス供給管45に接続されて
いる。一方、冷却ガス排出管46は冷却器57を
介してブロアー55入側に接続されている。
元弁53および遮断弁54を介してブロアー55
が接続されている。ブロアー55は温度調節弁5
6を介して上記冷却ガス供給管45に接続されて
いる。一方、冷却ガス排出管46は冷却器57を
介してブロアー55入側に接続されている。
前記ベースプレート41は環状の断熱材61お
よび中間部材63を介して支柱67により支持さ
れている。熱膨脹を吸収するために、中間部材6
3に設けられたピン64および支柱67頂部に設
けられたピン孔(図示しない)に挿入されたピン
65を介して中間部材63と支柱67とが連結さ
れている。支柱67の下部はボトムチヤンバー1
1の底部材14を貫通している。この貫通部分に
はダイナミツクベローズ69が取り付けられてお
り、ボトムチヤンバー11内の気密を保つてい
る。
よび中間部材63を介して支柱67により支持さ
れている。熱膨脹を吸収するために、中間部材6
3に設けられたピン64および支柱67頂部に設
けられたピン孔(図示しない)に挿入されたピン
65を介して中間部材63と支柱67とが連結さ
れている。支柱67の下部はボトムチヤンバー1
1の底部材14を貫通している。この貫通部分に
はダイナミツクベローズ69が取り付けられてお
り、ボトムチヤンバー11内の気密を保つてい
る。
上記支柱67の基部は昇降駆動装置71に連結
されている。昇降駆動装置71は減速機付きモー
ター72およびこれに駆動されるスクリユージヤ
ツキ73を備えている。スクリユージヤツキ73
は垂直に延びる連結棒74を介してガイドプレー
ト76に連結されている。ガイドプレート76の
両端は床23に固定されたガイドポスト77に案
内されている。そして、ガイドプレート76は前
記支柱67の基部を支持している。
されている。昇降駆動装置71は減速機付きモー
ター72およびこれに駆動されるスクリユージヤ
ツキ73を備えている。スクリユージヤツキ73
は垂直に延びる連結棒74を介してガイドプレー
ト76に連結されている。ガイドプレート76の
両端は床23に固定されたガイドポスト77に案
内されている。そして、ガイドプレート76は前
記支柱67の基部を支持している。
なお、前記ボトムチヤンバー11の底部材14
にはパージガス給気管81およびパージガス排気
管82が取り付けられている。
にはパージガス給気管81およびパージガス排気
管82が取り付けられている。
つぎに、以上のように構成されたバツチ焼鈍炉
により電磁鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方法
について説明する。
により電磁鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する方法
について説明する。
まず、炉体1およびインナカバー2を取り除い
た状態でベースプレート41を第2図に示す上限
位置にセツトする。そして、ベースプレート41
上に一次再結晶焼鈍を終えた電磁鋼板コイルCを
載置する。続いて、コイルCをインナカバー2で
覆い、更にインナカバー2を炉体1で覆う。炉体
1内は冷却ガス吹込み管7から、またインナカバ
ー2内は雰囲気ガス供給孔32からそれぞれN2
ガスを供給し、これらの内部をパージする。ボト
ムチヤンバー11内はパージガス給気管81およ
び排気管82によりN2ガスを給、排気してパー
ジされる。
た状態でベースプレート41を第2図に示す上限
位置にセツトする。そして、ベースプレート41
上に一次再結晶焼鈍を終えた電磁鋼板コイルCを
載置する。続いて、コイルCをインナカバー2で
覆い、更にインナカバー2を炉体1で覆う。炉体
1内は冷却ガス吹込み管7から、またインナカバ
ー2内は雰囲気ガス供給孔32からそれぞれN2
ガスを供給し、これらの内部をパージする。ボト
ムチヤンバー11内はパージガス給気管81およ
び排気管82によりN2ガスを給、排気してパー
ジされる。
上記パージが終つたならば、炉体1内側に取り
付けた電熱ヒーター5により、たとえば10〜70
℃/Hの加熱速度でインナカバー2内の雰囲気ガ
スN2を加熱する。このとき固定ベース31の第
1電熱ヒーター35を併用してもよい。インナカ
バー2内の雰囲気ガスの温度が第5図に示すよう
に室温T0から所定温度T1(600〜650℃)まで上
昇したならば、期間A(10〜20時間)の間、炉内
を均熱保持する。炉内均熱開始時に雰囲気ガス
N2をAXガスに切換える。この炉内均熱により雰
囲気ガスは所定の露点(−5〜−10℃以下)に保
持され、コイルCに塗布された焼鈍分離剤から放
出される水分がコイルCの冷却時に結露すること
はない。
付けた電熱ヒーター5により、たとえば10〜70
℃/Hの加熱速度でインナカバー2内の雰囲気ガ
スN2を加熱する。このとき固定ベース31の第
1電熱ヒーター35を併用してもよい。インナカ
バー2内の雰囲気ガスの温度が第5図に示すよう
に室温T0から所定温度T1(600〜650℃)まで上
昇したならば、期間A(10〜20時間)の間、炉内
を均熱保持する。炉内均熱開始時に雰囲気ガス
N2をAXガスに切換える。この炉内均熱により雰
囲気ガスは所定の露点(−5〜−10℃以下)に保
持され、コイルCに塗布された焼鈍分離剤から放
出される水分がコイルCの冷却時に結露すること
はない。
炉内均熱が終つたならば、昇降駆動装置71に
よりコイルCを下限まで下げ、ボトムチヤンバー
11内に収納する。このとき、コイルCの上端は
ボトムチヤンバー11の上端および固定ベース3
1の仕切部33の上端と同じ高さに並んでいる。
そして、コイルCはこれの上端部の温度が930℃
以上になるまで期間B、ボトムチヤンバー11内
で待機される。この間、炉内温度およびコイルC
上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部3
3とによりインナカバー2と仕切られたボトムチ
ヤンバー11内は温度が低いためコイルCの下部
は若干温度が下る。
よりコイルCを下限まで下げ、ボトムチヤンバー
11内に収納する。このとき、コイルCの上端は
ボトムチヤンバー11の上端および固定ベース3
1の仕切部33の上端と同じ高さに並んでいる。
そして、コイルCはこれの上端部の温度が930℃
以上になるまで期間B、ボトムチヤンバー11内
で待機される。この間、炉内温度およびコイルC
上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部3
3とによりインナカバー2と仕切られたボトムチ
ヤンバー11内は温度が低いためコイルCの下部
は若干温度が下る。
待機期間Bが経過してコイルC上端の温度が
930℃以上になると、再び昇降駆動装置71を駆
動して20〜600mm/Hの速度でコイルCを上昇す
る。コイルCは徐々にボトムチヤンバー11から
インナカバー2内に送り出され、コイルCのイン
ナカバー2内に露出する部分とボトムチヤンバー
11内にある部分との境界領域に温度勾配が生じ
る。炉内加熱速度およびコイル上昇速度は上記温
度勾配が2℃/cm以上となるように調整される。
このとき、固定ベース31の第1電熱ヒーター3
5でコイルCをこれの内周面より補助加熱する。
したがつて、コイルCのインナカバー2内に突出
した部分は内、外周の両面から加熱されることに
なり、半径方向に均一に加熱される。コイルCが
ある程度インナカバー2内に入り込むと、コイル
Cのボトムチヤンバー11内にある部分もかなり
昇温し、所定の温度勾配がとれなくなる。この時
点より若干前の時点aよりベースプレート41の
冷却を開始する。
930℃以上になると、再び昇降駆動装置71を駆
動して20〜600mm/Hの速度でコイルCを上昇す
る。コイルCは徐々にボトムチヤンバー11から
インナカバー2内に送り出され、コイルCのイン
ナカバー2内に露出する部分とボトムチヤンバー
11内にある部分との境界領域に温度勾配が生じ
る。炉内加熱速度およびコイル上昇速度は上記温
度勾配が2℃/cm以上となるように調整される。
このとき、固定ベース31の第1電熱ヒーター3
5でコイルCをこれの内周面より補助加熱する。
したがつて、コイルCのインナカバー2内に突出
した部分は内、外周の両面から加熱されることに
なり、半径方向に均一に加熱される。コイルCが
ある程度インナカバー2内に入り込むと、コイル
Cのボトムチヤンバー11内にある部分もかなり
昇温し、所定の温度勾配がとれなくなる。この時
点より若干前の時点aよりベースプレート41の
冷却を開始する。
ベースプレート41の冷却は冷却ガス供給管4
5を介して冷却ガス循環装置51よりインナカバ
ー2内の雰囲気ガスと同じガスをベースプレート
41内の冷却ガス流路42に供給する。(N2ガス
でもよい。)冷却ガス流路42に送られたガスは
ベースプレート41を冷却して昇温し、冷却ガス
排出管46を経て、冷却器57に至る。冷却器5
7で冷却された冷却ガスはブロアー55により再
びベースプレート41に圧送される。冷却ガス流
量は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により
調節される。
5を介して冷却ガス循環装置51よりインナカバ
ー2内の雰囲気ガスと同じガスをベースプレート
41内の冷却ガス流路42に供給する。(N2ガス
でもよい。)冷却ガス流路42に送られたガスは
ベースプレート41を冷却して昇温し、冷却ガス
排出管46を経て、冷却器57に至る。冷却器5
7で冷却された冷却ガスはブロアー55により再
びベースプレート41に圧送される。冷却ガス流
量は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により
調節される。
このようにして、コイルCを上端から徐々に下
端に向つて加熱して行き、コイルCの下端がボト
ムチヤンバー11を出た時点bでベースプレート
41の上昇を一時停止する。このとき、コイルC
の上端部はほぼ所定温度T2(1150〜1200℃)に
達している。また、ベースプレート41の冷却は
コイルC下端部の温度が930℃以上になるまで
(期間C)続けられる。なお、炉内温度が所定温
度T2に達したとき、インナカバー2内の雰囲気
ガスはAXガスからH2ガスに切り換えられる。
端に向つて加熱して行き、コイルCの下端がボト
ムチヤンバー11を出た時点bでベースプレート
41の上昇を一時停止する。このとき、コイルC
の上端部はほぼ所定温度T2(1150〜1200℃)に
達している。また、ベースプレート41の冷却は
コイルC下端部の温度が930℃以上になるまで
(期間C)続けられる。なお、炉内温度が所定温
度T2に達したとき、インナカバー2内の雰囲気
ガスはAXガスからH2ガスに切り換えられる。
コイルCは下端が1150℃以上になるまで均熱保
持される。均熱保持中、コイルC下端部からベー
スプレート41を経て熱が放散される。このと
き、ベースプレート41は冷却されておらず、ま
た断熱材61によつて熱の放散が抑制されている
が、コイルC下端部を所定の温度に保持すること
は困難である。したがつて、固定ベース31の第
2電熱ヒーター37により補助加熱を行う。
持される。均熱保持中、コイルC下端部からベー
スプレート41を経て熱が放散される。このと
き、ベースプレート41は冷却されておらず、ま
た断熱材61によつて熱の放散が抑制されている
が、コイルC下端部を所定の温度に保持すること
は困難である。したがつて、固定ベース31の第
2電熱ヒーター37により補助加熱を行う。
この均熱が終了(時点C)すると炉体1内に冷
却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、インナ
カバー2と共にコイルCを冷却する。コイルCが
所定温度まで下ると、炉体1を取り去り、更にイ
ンナカバー2とコイルCとを大気中で冷却する。
そして、冷却完了後、インナカバー2を取り去つ
て一連の焼鈍作業が完了する。
却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込み、インナ
カバー2と共にコイルCを冷却する。コイルCが
所定温度まで下ると、炉体1を取り去り、更にイ
ンナカバー2とコイルCとを大気中で冷却する。
そして、冷却完了後、インナカバー2を取り去つ
て一連の焼鈍作業が完了する。
この発明は上記実施例に限られるものではな
い。
い。
たとえば、加熱手段として電熱ヒーター5に代
えて直火式バーナーを用いてもよく、炉体1の周
壁のみならず天井にも加熱手段を配設してもよ
い。ボトムチヤンバー11内の加熱も固定ベース
31に取り付けられたヒーター35,37に代え
て、胴体12の内周面に取り付けたヒーターある
いはこれら両者で行つてもよい。
えて直火式バーナーを用いてもよく、炉体1の周
壁のみならず天井にも加熱手段を配設してもよ
い。ボトムチヤンバー11内の加熱も固定ベース
31に取り付けられたヒーター35,37に代え
て、胴体12の内周面に取り付けたヒーターある
いはこれら両者で行つてもよい。
ベースプレート41の冷却手段としては冷却ガ
ス流路42の代りに断熱材61の上面に配設され
た冷却管であつてもよい。ボトムチヤンバー11
の底部材14は円盤状であつたが、ボトムチヤン
バー11の中間部分で分割してもよい。この場合
底部材は椀型となる。また、サンドシール15に
代えてセラミツクフアイバー等を用いた押付けシ
ール装置やガスケツトを使用した締付けシール装
置、あるいはこれらと液体シール装置とを組み合
わせたものを使用することもできる。さらに、ボ
トムチヤンバー11および固定ベース31にそれ
ぞれ張り付けられた断熱材16,34,40は必
須のものではない。断熱材16,34を設けない
場合には、ボトムチヤンバー11内周面とコイル
C外周面との間の間隙および仕切部33外周面と
コイルC内周面との間の間隙は、インナカバー2
内の高温雰囲気ガスがボトムチヤンバー11内に
流入してボトムチヤンバー11内を許容温度以上
としない程度(たとえば1〜5mm)にとられる。
さらに、昇降駆動装置71の減速機付モーター7
2およびスクリユージヤツキ73に代えて油圧ジ
ヤツキを用いてもよい。
ス流路42の代りに断熱材61の上面に配設され
た冷却管であつてもよい。ボトムチヤンバー11
の底部材14は円盤状であつたが、ボトムチヤン
バー11の中間部分で分割してもよい。この場合
底部材は椀型となる。また、サンドシール15に
代えてセラミツクフアイバー等を用いた押付けシ
ール装置やガスケツトを使用した締付けシール装
置、あるいはこれらと液体シール装置とを組み合
わせたものを使用することもできる。さらに、ボ
トムチヤンバー11および固定ベース31にそれ
ぞれ張り付けられた断熱材16,34,40は必
須のものではない。断熱材16,34を設けない
場合には、ボトムチヤンバー11内周面とコイル
C外周面との間の間隙および仕切部33外周面と
コイルC内周面との間の間隙は、インナカバー2
内の高温雰囲気ガスがボトムチヤンバー11内に
流入してボトムチヤンバー11内を許容温度以上
としない程度(たとえば1〜5mm)にとられる。
さらに、昇降駆動装置71の減速機付モーター7
2およびスクリユージヤツキ73に代えて油圧ジ
ヤツキを用いてもよい。
第1図は従来のバツチ焼鈍炉の一例を示す縦断
面図、第2図はこの発明のバツチ焼鈍炉の一例を
示す縦断面図、第3図は第2図に示す炉のボトム
チヤンバーの詳細断面図、第4図は第2図に示す
炉に用いられる冷却ガス循環装置の系統図および
第5図は炉内温度、コイル温度、コイル位置の時
間による変化を示す線図である。 1……炉体、2……インナカバー、3……ベー
スプレート、11……ボトムチヤンバー、12…
…チヤンバー胴体、14……チヤンバー底部材、
15……シール装置、31……固定ベース、33
……仕切部、34,36……加熱部、35,37
……電熱ヒーター、41……ベースプレート、4
2……冷却ガス流路、51……冷却ガス循環装
置、71……昇降駆動装置。
面図、第2図はこの発明のバツチ焼鈍炉の一例を
示す縦断面図、第3図は第2図に示す炉のボトム
チヤンバーの詳細断面図、第4図は第2図に示す
炉に用いられる冷却ガス循環装置の系統図および
第5図は炉内温度、コイル温度、コイル位置の時
間による変化を示す線図である。 1……炉体、2……インナカバー、3……ベー
スプレート、11……ボトムチヤンバー、12…
…チヤンバー胴体、14……チヤンバー底部材、
15……シール装置、31……固定ベース、33
……仕切部、34,36……加熱部、35,37
……電熱ヒーター、41……ベースプレート、4
2……冷却ガス流路、51……冷却ガス循環装
置、71……昇降駆動装置。
Claims (1)
- 1 内側に加熱手段を備えた着脱自在なベル形炉
体、炉体内に設けられたベースプレート、および
ベースプレート上にコイル軸を垂直にして載置さ
れた金属コイルを覆う着脱自在なインナカバーを
備えた炉において、上方に向つて開口し、内径が
金属コイルの外径よりやや大きく、金属コイルの
収納可能なボトムチヤンバーが前記炉体の下方に
設けられており、ボトムチヤンバー内にはこれと
同軸に、ボトムチヤンバー底部から上方に延びる
柱状の固定ベースが設けられており、固定ベース
は外径が金属コイルの内径よりやや小さく、ボト
ムチヤンバーの開口部に位置する仕切部を有し、
ボトムチヤンバー内および固定ベースの仕切部よ
り上の部分にヒーターが設けられており、前記ベ
ースプレートは環状をなし、冷却手段を備えてお
り、前記ボトムチヤンバーの底部を貫通し昇降自
在な支持部材に支持されており、支持部材の下端
部は昇降駆動装置に連結されていることを特徴と
するバツチ焼鈍炉。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4800783A JPS59173227A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | バツチ焼鈍炉 |
| US06/542,193 US4502671A (en) | 1982-10-30 | 1983-10-14 | Batch annealing apparatus |
| EP83110817A EP0108357B1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
| DE8383110817T DE3369703D1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4800783A JPS59173227A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | バツチ焼鈍炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59173227A JPS59173227A (ja) | 1984-10-01 |
| JPS6252019B2 true JPS6252019B2 (ja) | 1987-11-02 |
Family
ID=12791236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4800783A Granted JPS59173227A (ja) | 1982-10-30 | 1983-03-24 | バツチ焼鈍炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59173227A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100560809B1 (ko) * | 2001-09-11 | 2006-03-14 | 주식회사 포스코 | 소둔로의 외부커버 지지장치 |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP4800783A patent/JPS59173227A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59173227A (ja) | 1984-10-01 |
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