JPS6236214B2 - - Google Patents
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- JPS6236214B2 JPS6236214B2 JP53099601A JP9960178A JPS6236214B2 JP S6236214 B2 JPS6236214 B2 JP S6236214B2 JP 53099601 A JP53099601 A JP 53099601A JP 9960178 A JP9960178 A JP 9960178A JP S6236214 B2 JPS6236214 B2 JP S6236214B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
- G03D13/006—Temperature control of the developer
-
- G—PHYSICS
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- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基板上に感光被膜を具える感光部材の
処理装置に関するものであり、特に現像液用容器
と感光部材を現像液と接触させる手段とを具える
感光部材の処理装置に関するものである。
処理装置に関するものであり、特に現像液用容器
と感光部材を現像液と接触させる手段とを具える
感光部材の処理装置に関するものである。
斯る感光部材は例えば印刷板(特に石版印刷
板)印刷回路及び集積回路の製造に使用される。
石版印刷板の製造に使用される感光部材は、通
常、適当な加工表面が得られるように機械的及
び/又は化学的に処理されその表面上に感光被膜
が設けられた金属支持シートの基板より成る。使
用に当り、この感光部材を、適当なマスター透明
陰画又は透明陽画を用いて化学線で像露光する。
化学線は感光被膜の溶解度を変化させる。像露光
済感光部材を次いで処理する。この処理工程は像
露光済感光部材を現像液と接触させて、支持シー
トから感光被膜の不要部分を選択的に除去して支
持シート上に残存する感光被膜部分から成る像を
残存させる。他の種類の印刷版、印刷回路及び集
積回路も同様に製造される。
板)印刷回路及び集積回路の製造に使用される。
石版印刷板の製造に使用される感光部材は、通
常、適当な加工表面が得られるように機械的及
び/又は化学的に処理されその表面上に感光被膜
が設けられた金属支持シートの基板より成る。使
用に当り、この感光部材を、適当なマスター透明
陰画又は透明陽画を用いて化学線で像露光する。
化学線は感光被膜の溶解度を変化させる。像露光
済感光部材を次いで処理する。この処理工程は像
露光済感光部材を現像液と接触させて、支持シー
トから感光被膜の不要部分を選択的に除去して支
持シート上に残存する感光被膜部分から成る像を
残存させる。他の種類の印刷版、印刷回路及び集
積回路も同様に製造される。
透明陰画又は陽画は線像、中間調像、連続階調
像又はこれらの像の組合せを形成するハロゲン化
銀層を一般に有する。上述の感光部材に使用し得
る種々の感光被膜のうち、ポリケイ皮酸ビニル及
びジアゾ樹脂が透明陰画と関連して使用し得る感
光被膜の代表的なものであり、ノボラツ樹脂と任
意に組合せた重クロム酸塩添加ゴム及びキノンジ
アジドは露光を適当な透明陽画の下方で行なうと
きに使用することができる。
像又はこれらの像の組合せを形成するハロゲン化
銀層を一般に有する。上述の感光部材に使用し得
る種々の感光被膜のうち、ポリケイ皮酸ビニル及
びジアゾ樹脂が透明陰画と関連して使用し得る感
光被膜の代表的なものであり、ノボラツ樹脂と任
意に組合せた重クロム酸塩添加ゴム及びキノンジ
アジドは露光を適当な透明陽画の下方で行なうと
きに使用することができる。
精密な処理ルーチン及び使用する現像液は処理
する感光被膜の溶解度及び化学的特性により決め
る。処理は手動により行なうことができるが、英
国特許第1253026号及び同1299864号明細書及び米
国特許第3552293号、及び同第4001854号明細書に
開示されているような装置により自動的に行なう
ことが増大してきている。
する感光被膜の溶解度及び化学的特性により決め
る。処理は手動により行なうことができるが、英
国特許第1253026号及び同1299864号明細書及び米
国特許第3552293号、及び同第4001854号明細書に
開示されているような装置により自動的に行なう
ことが増大してきている。
ある感光被膜と現像液の組合せは現像液の温度
により著しく影響され、予定の温度からの変化は
不適正な現像及び不満足な透明原画の再生を生ず
る。これがため、英国特許第1253026号から現像
液浴の温度を均一な現像が得られるように加熱し
たり冷却したりして調整することが既知である。
また、ベルギー国特許第771221号から、現像液浴
の温度をサーミスタにより測定し、写真フイルム
の浴中のドエルタイムをその温度に応じて変化さ
せることが既知である。更にドイツ国特許第
1271545号明細書に、浴温度をその粘度を測定し
て決定することが開示されている。既知のよう
に、感光板の透明原画を再生する能力はこの版を
“グレースケール”又は“ステツプウエツジ”と
して既知の露光ガイドを通して露光することによ
り測定することができる。斯る露光ガイドの代表
的な例は光学濃度を増大する複数個のステツプか
ら成り、その第1ステツプは透明である。感光板
上に再生される実際のステツプは特定の組合わせ
の感光被膜/現像液、現像条件及び露光条件によ
り決まる。しかし、与えられた条件に対しステツ
プウエツジの再生は常に同一となるようにするの
が好適である。現像液の温度の変化はこのような
結果の達成を妨害する。
により著しく影響され、予定の温度からの変化は
不適正な現像及び不満足な透明原画の再生を生ず
る。これがため、英国特許第1253026号から現像
液浴の温度を均一な現像が得られるように加熱し
たり冷却したりして調整することが既知である。
また、ベルギー国特許第771221号から、現像液浴
の温度をサーミスタにより測定し、写真フイルム
の浴中のドエルタイムをその温度に応じて変化さ
せることが既知である。更にドイツ国特許第
1271545号明細書に、浴温度をその粘度を測定し
て決定することが開示されている。既知のよう
に、感光板の透明原画を再生する能力はこの版を
“グレースケール”又は“ステツプウエツジ”と
して既知の露光ガイドを通して露光することによ
り測定することができる。斯る露光ガイドの代表
的な例は光学濃度を増大する複数個のステツプか
ら成り、その第1ステツプは透明である。感光板
上に再生される実際のステツプは特定の組合わせ
の感光被膜/現像液、現像条件及び露光条件によ
り決まる。しかし、与えられた条件に対しステツ
プウエツジの再生は常に同一となるようにするの
が好適である。現像液の温度の変化はこのような
結果の達成を妨害する。
本発明の目的は現像液の温度の変化を補償する
ようにした像露光済感光部材を処理する装置を提
供せんとするにある。
ようにした像露光済感光部材を処理する装置を提
供せんとするにある。
種々の感光部材を処理し得る装置を提供するに
は処理ルーチンの変化のために問題がある。例え
ば12インチ(約31cm)の現像浴長を有する処理装
置は、有機溶剤現像液でネガテイブ感光板を現像
するとき、35インチ(約90cm)/分の最適板速度
を有し、アルカリ現像液でポシテイブ感光板を現
像するとき、20インチ(約51cm)/分の最適板速
度を有する。
は処理ルーチンの変化のために問題がある。例え
ば12インチ(約31cm)の現像浴長を有する処理装
置は、有機溶剤現像液でネガテイブ感光板を現像
するとき、35インチ(約90cm)/分の最適板速度
を有し、アルカリ現像液でポシテイブ感光板を現
像するとき、20インチ(約51cm)/分の最適板速
度を有する。
露光済ポシテイブ感光部材を現像前又は現像中
に化学線(紫外線)で短時間全面均一露光するこ
とにより現像時間を減少させることができること
が確かめられている。この露光を手動的に与える
ときは、露光条件を制御することが難しいために
予想可能で反復可能な結果を得ることは困難であ
る。この問題は、感光部材を化学線源を通る通路
に沿つて動かして、比較的低強度の化学線に比較
的長時間さらして全面均一露光することにより解
決することができる。しかし、所定の結果を得る
ために所定の感光部材に与えるべき全面均一露光
の程度は現像液の温度に左右される。
に化学線(紫外線)で短時間全面均一露光するこ
とにより現像時間を減少させることができること
が確かめられている。この露光を手動的に与える
ときは、露光条件を制御することが難しいために
予想可能で反復可能な結果を得ることは困難であ
る。この問題は、感光部材を化学線源を通る通路
に沿つて動かして、比較的低強度の化学線に比較
的長時間さらして全面均一露光することにより解
決することができる。しかし、所定の結果を得る
ために所定の感光部材に与えるべき全面均一露光
の程度は現像液の温度に左右される。
本発明の他の目的は像露光済感光部材を現像前
又は中に全面均一露光し、この全面均一露光を現
像液の温度に応じて制御するようにした処理装置
を提供せんとするにある。
又は中に全面均一露光し、この全面均一露光を現
像液の温度に応じて制御するようにした処理装置
を提供せんとするにある。
本発明は、現像液容器と、感光部材を現像液と
接触させる装置と、現像液の温度を感知し、その
温度に応じた出力信号を発生する温度感知部材と
を具える像露光済感光部材の処理装置において、
本装置は更に感光部材と接触する現像液をかく拌
させるローラと、該ローラを駆動するモータとを
具え、前記温度感知部材を前記かく拌ローラを駆
動するモータに接続して感光部材と接触する現像
液がかく拌される程度が現像液の温度に依存する
ようにしたことを特徴とする。
接触させる装置と、現像液の温度を感知し、その
温度に応じた出力信号を発生する温度感知部材と
を具える像露光済感光部材の処理装置において、
本装置は更に感光部材と接触する現像液をかく拌
させるローラと、該ローラを駆動するモータとを
具え、前記温度感知部材を前記かく拌ローラを駆
動するモータに接続して感光部材と接触する現像
液がかく拌される程度が現像液の温度に依存する
ようにしたことを特徴とする。
本発明の一実施例では、感光部材を現像液に対
し移動させる装置を設け、前記出力信号を用いて
かく拌ローラ駆動モータを制御するのに加えてこ
の感光部材移動装置も制御するようにする。この
実施例の一例では、この感光部材移動装置を、感
光部材を現像液を通る通路に沿つて適当な速度で
送給する1対のローラで構成する。他の例では、
この移動装置を、感光部材を容器内に現像液内に
浸し、適当時間後これを取り出す機構で構成す
る。何れの場合にもかく拌の程度のみならず感光
部材が装置内に存在する時間も前記出力信号、即
ち現像液の温度に依存するようにする。本発明の
他の実施例では、前記出力信号を用いてかく拌ロ
ーラ駆動モータの速度を制御するのに加えて、現
像液を感光部材に、前記出力信号に応じた時間中
供給するようにする。この場合にも、感光部材と
現像液とが現像液の温度に応じた時間中接触す
る。
し移動させる装置を設け、前記出力信号を用いて
かく拌ローラ駆動モータを制御するのに加えてこ
の感光部材移動装置も制御するようにする。この
実施例の一例では、この感光部材移動装置を、感
光部材を現像液を通る通路に沿つて適当な速度で
送給する1対のローラで構成する。他の例では、
この移動装置を、感光部材を容器内に現像液内に
浸し、適当時間後これを取り出す機構で構成す
る。何れの場合にもかく拌の程度のみならず感光
部材が装置内に存在する時間も前記出力信号、即
ち現像液の温度に依存するようにする。本発明の
他の実施例では、前記出力信号を用いてかく拌ロ
ーラ駆動モータの速度を制御するのに加えて、現
像液を感光部材に、前記出力信号に応じた時間中
供給するようにする。この場合にも、感光部材と
現像液とが現像液の温度に応じた時間中接触す
る。
更に他の例では、化学線源を設けて、感光部材
に、これが現像液と接触する前又は中に全面均一
露光が与えられるようにする。この場合には、か
く拌程度に加えて感光部材が受ける化学線の量を
前記出力信号に応じて制御することができる。こ
の制御は、化学線源と感光部材との間に可変アパ
ーチヤを介挿し、そのアパーチヤの大きさを前記
出力信号に応じて制御することにより有利に達成
することができる。
に、これが現像液と接触する前又は中に全面均一
露光が与えられるようにする。この場合には、か
く拌程度に加えて感光部材が受ける化学線の量を
前記出力信号に応じて制御することができる。こ
の制御は、化学線源と感光部材との間に可変アパ
ーチヤを介挿し、そのアパーチヤの大きさを前記
出力信号に応じて制御することにより有利に達成
することができる。
キノンジアジド感光部材で代表されるポシテイ
ブ感光部材は“スクリーレスリングラフイー”と
して既知の技術、即ち感光部材を通常のハーフト
ーンスクリーンを用いないで連続階調マスターを
通して直接露光する技術に使用される。感光板に
全面均一露光を現像前に施こす技術は得られる階
調範囲を増大する。しかし、これを手動的に行な
うときは予想可能且つ反復可能な結果を得ること
は困難である。上述の如き化学線源を具える本発
明装置はこれら感光板の処理に使用することがで
き、階調範囲の変化を全面均一露光の強度又は持
続時間を変えることにより発生させる。或は又、
これらパラメータを一定に維持する必要がある場
合には、階調範囲を感光板が化学線源を通過する
速度を変えることにより変えることができる。露
光時間及び強度の変化及び感光板速度の変化を階
調範囲の良好な制御が得られるように組み合わせ
ることもできること明らかである。
ブ感光部材は“スクリーレスリングラフイー”と
して既知の技術、即ち感光部材を通常のハーフト
ーンスクリーンを用いないで連続階調マスターを
通して直接露光する技術に使用される。感光板に
全面均一露光を現像前に施こす技術は得られる階
調範囲を増大する。しかし、これを手動的に行な
うときは予想可能且つ反復可能な結果を得ること
は困難である。上述の如き化学線源を具える本発
明装置はこれら感光板の処理に使用することがで
き、階調範囲の変化を全面均一露光の強度又は持
続時間を変えることにより発生させる。或は又、
これらパラメータを一定に維持する必要がある場
合には、階調範囲を感光板が化学線源を通過する
速度を変えることにより変えることができる。露
光時間及び強度の変化及び感光板速度の変化を階
調範囲の良好な制御が得られるように組み合わせ
ることもできること明らかである。
図面につき本発明を説明する。
第1図は本発明処理装置の一実施例を示し、こ
の装置は1対のゴム被覆入力ローラ20及び20
aと、1対のゴム被覆出力ローラ30及び30a
と、ローラ20及び20aを駆動する直流電気モ
ータ40とを具える。本例装置には更に現像液を
収納する貯蔵器21と、現像液を別のモータ24
で駆動される1対のフラシ天(プラツシユ)被覆
ローラ23及び23a間に配置されたスプレーバ
ー26に送給するポンプ25を設け、ローラ23
及び23a及びバー26の下方には平板部材22
を配置すると共に、受皿27を設けて処理液を貯
蔵器21に戻すようにする。本例装置は更にサー
ミスタを含むプローブの形態の温度感知部材28
を具え、これは図示のように貯蔵器21内に配置
するのが好適である。本例装置は更に第2及び第
3図に示すような電気制御回路を具え、この制御
回路のサーボ装置からの出力をモータ24及び必
要に応じモータ40に供給する。
の装置は1対のゴム被覆入力ローラ20及び20
aと、1対のゴム被覆出力ローラ30及び30a
と、ローラ20及び20aを駆動する直流電気モ
ータ40とを具える。本例装置には更に現像液を
収納する貯蔵器21と、現像液を別のモータ24
で駆動される1対のフラシ天(プラツシユ)被覆
ローラ23及び23a間に配置されたスプレーバ
ー26に送給するポンプ25を設け、ローラ23
及び23a及びバー26の下方には平板部材22
を配置すると共に、受皿27を設けて処理液を貯
蔵器21に戻すようにする。本例装置は更にサー
ミスタを含むプローブの形態の温度感知部材28
を具え、これは図示のように貯蔵器21内に配置
するのが好適である。本例装置は更に第2及び第
3図に示すような電気制御回路を具え、この制御
回路のサーボ装置からの出力をモータ24及び必
要に応じモータ40に供給する。
第2図に示すように、この電気制御回路は集積
回路電圧調整器の形態の定電圧源9とサーミスタ
を含む温度電圧変換器10と、直流サイリスタ制
御形のサーボ装置とを具え、このサーボ装置の出
力でモータ24の速度を制御するようにしてあ
る。
回路電圧調整器の形態の定電圧源9とサーミスタ
を含む温度電圧変換器10と、直流サイリスタ制
御形のサーボ装置とを具え、このサーボ装置の出
力でモータ24の速度を制御するようにしてあ
る。
第3図に示すように、定電圧源9からの調整電
圧はサーミスタ12を経て1対の直流増幅器13
及び14に供給される。サーミスタ12の温度変
化によりその抵抗値が変化し、この抵抗値変化に
より増幅器13への入力電圧に変化が生ずる。増
幅器14の出力端子はサーボ装置11(第2図)
に接続される。可変抵抗15を設けて増幅器13
の利得を変え得るようにする。
圧はサーミスタ12を経て1対の直流増幅器13
及び14に供給される。サーミスタ12の温度変
化によりその抵抗値が変化し、この抵抗値変化に
より増幅器13への入力電圧に変化が生ずる。増
幅器14の出力端子はサーボ装置11(第2図)
に接続される。可変抵抗15を設けて増幅器13
の利得を変え得るようにする。
本例装置の使用に当つては像露光済感光部材を
その面を上に向けて入力ローラ20及び20a
間、ローラ23及び23aと部材22との間及び
出力ローラ30及び30a間に通路に沿つて供給
する。感光部材の露光済感光被膜はローラ23及
び23aと接触し、現像即ち露光済感光被膜の溶
解し易い部分の除去がスクラビング(洗い落
し)/溶解作用により行なわれる。図示の装置で
は現像液の温度が高くなるにつれて、(i)モータ2
4(つてローラ23及び23a)の回転がゆつく
りになり、従つて露光済感光被膜上の現像液が受
けるかく拌が減少すると共に、(ii)モータ40(従
つてローラ20及び20a)の回転が速くなり、
従つて感光部材が装置内に存在する時間が短かく
なる。これがため、感光部材が処理される程度は
現像液の温度に依存し、この関係は所望の如く調
整することができる。
その面を上に向けて入力ローラ20及び20a
間、ローラ23及び23aと部材22との間及び
出力ローラ30及び30a間に通路に沿つて供給
する。感光部材の露光済感光被膜はローラ23及
び23aと接触し、現像即ち露光済感光被膜の溶
解し易い部分の除去がスクラビング(洗い落
し)/溶解作用により行なわれる。図示の装置で
は現像液の温度が高くなるにつれて、(i)モータ2
4(つてローラ23及び23a)の回転がゆつく
りになり、従つて露光済感光被膜上の現像液が受
けるかく拌が減少すると共に、(ii)モータ40(従
つてローラ20及び20a)の回転が速くなり、
従つて感光部材が装置内に存在する時間が短かく
なる。これがため、感光部材が処理される程度は
現像液の温度に依存し、この関係は所望の如く調
整することができる。
ある組合わせの感光部材と現像液に対し好適な
温度補償は他の組合わせには必ずしも好適でない
こと明らかである。温度に応じたモータ速度の好
適な変化はポテンシオメータ15を調整すること
により得ることができる。更に、所定の組合わせ
の感光部材/現像液の場合には、ポテンシオメー
タ15を調整して現像された感光部材のコントラ
ストを変えることができる。またポテンシオメー
タの設定を変えて部分的被労による現像液の活性
の変化を考慮することもできる。
温度補償は他の組合わせには必ずしも好適でない
こと明らかである。温度に応じたモータ速度の好
適な変化はポテンシオメータ15を調整すること
により得ることができる。更に、所定の組合わせ
の感光部材/現像液の場合には、ポテンシオメー
タ15を調整して現像された感光部材のコントラ
ストを変えることができる。またポテンシオメー
タの設定を変えて部分的被労による現像液の活性
の変化を考慮することもできる。
本発明の装置で処理し得る特定の現像液を使用
する感光部材の例としては、現像液としてメタ珪
酸ナトリウム水溶液を必要に応じポリエチレング
リコールとともに使用する、ナフトキノンとアジ
ドスルホン酸エステルとノボラツク樹脂の感光性
混合物が被覆された粒状化及び陽極処理されたア
ルミニウム基板から成るポシテイブPS板;現像
液として塩化カルシウム水溶液を使用する、重ク
ロム酸塩添加アラビアゴムを基材とする感光被膜
を有する陽極処理された基板から成るデイープエ
ツチ感光板;現像液として珪酸ナトリウム水溶液
を使用する、ポリ(2,3エポキシプロピルメタ
クリレート)のシンナミリデンマロン酸半エステ
ル含有感光被膜を有する粒状化及び陽極処理され
た基板から成るネガテイブPS板;現像液として
“Microdol X”(コダツク社製)を使用する
“Plus X”パンクロフイルム(コダツク社製)の
ようなフイルム;及びADT―浴現像/定着液
(ビツカース社のホーソン―アルグラフイーグル
ープ製)を使用する、ADTアルミニウムリス板
(ビツカース社のホーソンアルグラフイーグルー
プ製)の形態のポシテイブ受像シートと併用され
るハロゲン化銀拡散転写ネガ紙のようなハロゲン
化銀拡散転写材料がある。
する感光部材の例としては、現像液としてメタ珪
酸ナトリウム水溶液を必要に応じポリエチレング
リコールとともに使用する、ナフトキノンとアジ
ドスルホン酸エステルとノボラツク樹脂の感光性
混合物が被覆された粒状化及び陽極処理されたア
ルミニウム基板から成るポシテイブPS板;現像
液として塩化カルシウム水溶液を使用する、重ク
ロム酸塩添加アラビアゴムを基材とする感光被膜
を有する陽極処理された基板から成るデイープエ
ツチ感光板;現像液として珪酸ナトリウム水溶液
を使用する、ポリ(2,3エポキシプロピルメタ
クリレート)のシンナミリデンマロン酸半エステ
ル含有感光被膜を有する粒状化及び陽極処理され
た基板から成るネガテイブPS板;現像液として
“Microdol X”(コダツク社製)を使用する
“Plus X”パンクロフイルム(コダツク社製)の
ようなフイルム;及びADT―浴現像/定着液
(ビツカース社のホーソン―アルグラフイーグル
ープ製)を使用する、ADTアルミニウムリス板
(ビツカース社のホーソンアルグラフイーグルー
プ製)の形態のポシテイブ受像シートと併用され
るハロゲン化銀拡散転写ネガ紙のようなハロゲン
化銀拡散転写材料がある。
本発明装置は慣例の処理装置に比べいくつかの
利点を提供する。即ち、現像液の処理温度をモニ
ターし調整してその温度を常に周囲温度にする必
要なしに感光板の処理を精密に反復することがで
きる。更に現像液温度が例えば処理開始時に低気
温のために低い場合に、現像液が常に常規処理温
度に加熱されるまで待つ必要がないため時間を節
約できる。また、周囲温度が常規処理温度より高
い場合に、現像液を冷却する装置を設ける必要が
ない。これは30〜40リツトルの現像液を有する多
量処理装置の場合に特に重要である。
利点を提供する。即ち、現像液の処理温度をモニ
ターし調整してその温度を常に周囲温度にする必
要なしに感光板の処理を精密に反復することがで
きる。更に現像液温度が例えば処理開始時に低気
温のために低い場合に、現像液が常に常規処理温
度に加熱されるまで待つ必要がないため時間を節
約できる。また、周囲温度が常規処理温度より高
い場合に、現像液を冷却する装置を設ける必要が
ない。これは30〜40リツトルの現像液を有する多
量処理装置の場合に特に重要である。
第1図は本発明処理装置の一実施例を示す線
図、第2図は第1図の装置の制御回路のブロツク
図、第3図は第2図の制御回路の1部の回路図で
ある。 9…定電圧源、10…温度電圧変換器、11…
サーボ装置、12…サーミスタ、13,14…直
流増幅器、15…可変抵抗、21…現像液タン
ク、20,20a…入力ローラ、30,30a…
出力ローラ、24,40…モータ、28…温度感
知部材、22…平板部材、23,23a…プラシ
天被覆ローラ、25…ポンプ、26…スプレーバ
ー、27…受皿。
図、第2図は第1図の装置の制御回路のブロツク
図、第3図は第2図の制御回路の1部の回路図で
ある。 9…定電圧源、10…温度電圧変換器、11…
サーボ装置、12…サーミスタ、13,14…直
流増幅器、15…可変抵抗、21…現像液タン
ク、20,20a…入力ローラ、30,30a…
出力ローラ、24,40…モータ、28…温度感
知部材、22…平板部材、23,23a…プラシ
天被覆ローラ、25…ポンプ、26…スプレーバ
ー、27…受皿。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 現像液用容器21と、像露光済感光部材を前
記現像液と接触させる装置20,20a,25,
26と、前記現像液の温度を感知し、該温度に応
じた出力信号を発生する温度感知部材28とを具
える像露光済感光部材を処理する装置において、
本装置は更に像露光済感光部材と接触する現像液
をかく拌するローラ23,23aと、該かく拌ロ
ーラ23,23aを駆動するモータ24とを具
え、前記温度感知部材を前記かく拌ローラ23,
23aを駆動するモータ24に作動的に接続し
て、像露光済感光部材と接触する現像液がかく拌
される程度が現像液の温度に依存するようにして
あることを特徴とする像露光済感光部材の処理装
置。 2 特許請求の範囲1記載の装置において、感光
部材を現像液と接触させる前記装置は、感光部材
をその通路に沿つて現像液中を移動させる装置2
0,20aで構成してあることを特徴とする像露
光済感光部材の処理装置。 3 前記感光部材移動装置20,20aを駆動す
るモータ40を具える特許請求の範囲2に記載の
装置において、前記かく拌ローラ23,23aを
駆動するモータ24に作動的に接続されている前
記温度感知部材28を前記感光部材移動装置2
0,20aを駆動するモータ40にも作動的に接
続して、前記出力信号が前記モータの速度も制御
するようにして、感光部材の処理装置内存在時間
も現像液の温度に依存するようにしてあることを
特徴とする像露光済感光部材の処理装置。 4 特許請求の範囲1〜3の何れかに記載の装置
において、本装置は化学線源を具え、本装置がな
す処理は感光部材が現像液と接触する前又は間に
これに全面均一露光を施こす処理も含み、前記か
く拌ローラ23,23aを駆動するモータ24に
作動的に接続された前記温度感知部材28を前記
化学線源にも作動的に接続して前記出力信号が前
記化学線源も制御するようにして、感光部材が受
ける前記全面均一露光量も現像液の温度に依存す
るようにしてあることを特徴とする像露光済感光
部材の処理装置。 5 特許請求の範囲4記載の装置において、本装
置は前記化学線源と感光部材通路との間に可変ア
パーチヤを含み、前記かく拌ローラ23,23a
を駆動するモータ24に作動的に接続された前記
温度感知部材28を前記アパーチヤを開閉する装
置にも接続して、前記出力信号が前記アパーチヤ
の大きさを制御するようにして、感光部材が受け
る前記全面均一露光量が現像液の温度に依存する
ようにしてあることを特徴とする像露光済感光部
材の処理装置。 6 感光部材を現像液と接触させる装置として現
像液を感光部材に送給する装置を具える特許請求
の範囲1に記載の装置において、本装置は前記送
給装置を調整する装置を含み、前記かく拌ローラ
23,23aを駆動するモータ24に作動的に接
続された前記温度感知部材28を前記送給装置を
制御する装置にも作動的に接続して前記出力信号
が前記送給装置も制御するようにして、現像液が
感光部材に現像液の温度に応じた時間中供給され
るようにしてあることを特徴とする像露光済感光
部材の処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB34796/77A GB1599301A (en) | 1977-08-18 | 1977-08-18 | Processing of radiation sensitive devices |
| GB840278 | 1978-03-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5456431A JPS5456431A (en) | 1979-05-07 |
| JPS6236214B2 true JPS6236214B2 (ja) | 1987-08-06 |
Family
ID=26242148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9960178A Granted JPS5456431A (en) | 1977-08-18 | 1978-08-17 | Device for and method of treating image exposure photosensitive member |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4240737A (ja) |
| EP (1) | EP0000995B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5456431A (ja) |
| AU (1) | AU520944B2 (ja) |
| CA (1) | CA1109315A (ja) |
| DE (1) | DE2861444D1 (ja) |
| DK (1) | DK363178A (ja) |
| IT (1) | IT1098107B (ja) |
| NO (1) | NO146379C (ja) |
| NZ (1) | NZ188167A (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5639542A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Stationary developing method with automatic developing apparatus |
| DE3020976C2 (de) * | 1980-06-03 | 1983-01-27 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur Erhöhung der Verarbeitungsbreite von lichthärtbaren Aufzeichnungsmaterialien |
| DE8028682U1 (de) * | 1980-10-28 | 1981-02-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Entwicklungsgeraet |
| US4505565A (en) * | 1981-12-22 | 1985-03-19 | Hiroshi Tanaka | Device for detecting aging of developer for automatic film developing apparatus |
| US4600287A (en) * | 1982-07-30 | 1986-07-15 | Dainippon Screen Seizo Kabushiki Kaisha | Method and device for automatically developing photosensitive material |
| DE3381022D1 (de) * | 1982-10-21 | 1990-02-01 | Vickers Plc | Verarbeitung von lichtempfindlichen vorrichtungen. |
| US4740074A (en) * | 1987-10-30 | 1988-04-26 | Powell Charles S | Film development system |
| JPH0795191B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1995-10-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真現像装置 |
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| JP4773608B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2011-09-14 | 株式会社オハラ | ガラスセラミックス及び温度補償部材 |
| GB0026953D0 (en) * | 2000-11-03 | 2000-12-20 | Eastman Kodak Co | Processing photographic material |
| JP4704757B2 (ja) * | 2005-01-05 | 2011-06-22 | 三菱製紙株式会社 | 導電性パタンを形成するための処理方法及びその処理装置 |
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| WO2017220170A1 (en) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Connection determination in printing apparatus |
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| US2794377A (en) * | 1954-05-12 | 1957-06-04 | Polaroid Corp | Self-developing camera, including temperature-compensated timing means |
| DE1098362B (de) * | 1957-04-18 | 1961-01-26 | Meteor Appbau Paul Schmeck G M | Vorrichtung zum Einstellen der Verdampfungsgeschwindigkeit von Verdampfungsvorrichtungen fuer Ammoniakloesung |
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| US3147687A (en) * | 1961-10-05 | 1964-09-08 | Ozalid Co Ltd | Method of and apparatus for the development of light sensitive diazotype materials |
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| US3623416A (en) * | 1968-06-24 | 1971-11-30 | Claes Johan Anderberg | Processing system for photographic material |
| BE771221A (fr) * | 1971-08-12 | 1971-12-16 | Oussatoff Victor | Ensemble electronique a temps variable et asservi a la temperature de traitement chimique, pour la photographie en couleurs |
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| GB1476559A (en) * | 1974-05-28 | 1977-06-16 | Hoechst Ag | Apparatus for developing electrophotographic materials |
| DE2438179A1 (de) * | 1974-08-08 | 1976-02-19 | Agfa Gevaert Ag | Vorrichtung zur temperierung einer hochviskosen paste |
| DE2714335A1 (de) * | 1976-04-13 | 1977-11-03 | Morenar Sa | Vorrichtung zur automatischen behandlung von belichteten fotopapierblaettern |
| DE2616869C2 (de) * | 1976-04-15 | 1984-08-23 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Heizeinrichtung für das Behandlungsbad einer Durchlauf-Entwicklungsmaschine |
| US4128326A (en) * | 1977-06-02 | 1978-12-05 | Astro Engineering Co. | Chemical dispensing system |
| US4153363A (en) * | 1977-11-07 | 1979-05-08 | Cordell Engineering, Inc. | Batch developing |
-
1978
- 1978-08-11 DE DE7878300279T patent/DE2861444D1/de not_active Expired
- 1978-08-11 EP EP78300279A patent/EP0000995B1/en not_active Expired
- 1978-08-16 NZ NZ188167A patent/NZ188167A/xx unknown
- 1978-08-17 NO NO78782797A patent/NO146379C/no unknown
- 1978-08-17 CA CA309,584A patent/CA1109315A/en not_active Expired
- 1978-08-17 JP JP9960178A patent/JPS5456431A/ja active Granted
- 1978-08-17 DK DK363178A patent/DK363178A/da not_active Application Discontinuation
- 1978-08-18 IT IT7826826A patent/IT1098107B/it active
- 1978-08-18 AU AU39065/78A patent/AU520944B2/en not_active Ceased
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- 1979-06-04 US US06/045,590 patent/US4240737A/en not_active Expired - Lifetime
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