JPS6237083U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6237083U JPS6237083U JP12811885U JP12811885U JPS6237083U JP S6237083 U JPS6237083 U JP S6237083U JP 12811885 U JP12811885 U JP 12811885U JP 12811885 U JP12811885 U JP 12811885U JP S6237083 U JPS6237083 U JP S6237083U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge electrode
- electrode plate
- divided
- electrode plates
- frequency power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図はこの考案の1実施例であるプラズマC
VD装置の電極部の構成を示す模式説明図、第2
図、第3図および第4図はこの装置の放電電極板
の分割配置パターンの3種を示した正面図、第5
図は分割各電極板が別々のマツチング回路を介し
て別々の高周波電源にそれぞれ接続されている状
態を示した回路図、第6図は従来の装置の模式説
明図、第7―A図、第7―B図は従来の装置にお
ける放電電極板の形状パターンの2種を示した正
面図である。 1……真空チヤンバ、2……放電電極板、2′
……アース電極板、3……高周波電源、4,4′
……マツチング回路、5……基板、11……電気
絶縁帯状部材、12……バリコン、P,Q,R…
…分割放電電極板。
VD装置の電極部の構成を示す模式説明図、第2
図、第3図および第4図はこの装置の放電電極板
の分割配置パターンの3種を示した正面図、第5
図は分割各電極板が別々のマツチング回路を介し
て別々の高周波電源にそれぞれ接続されている状
態を示した回路図、第6図は従来の装置の模式説
明図、第7―A図、第7―B図は従来の装置にお
ける放電電極板の形状パターンの2種を示した正
面図である。 1……真空チヤンバ、2……放電電極板、2′
……アース電極板、3……高周波電源、4,4′
……マツチング回路、5……基板、11……電気
絶縁帯状部材、12……バリコン、P,Q,R…
…分割放電電極板。
Claims (1)
- 真空チヤンバの内方空間に、高周波電源にマツ
チング回路を介して接続される放電電極板とアー
ス電極板とを互いに対向させて配設してなるプラ
ズマCVD装置の電極部において、前記放電電極
板を複数の放電電極板に分割して形成し、それら
分割された各放電電極板をこれら放電電極板全体
の中心において互いに直交する2軸のそれぞれに
対して対称位置に配置し、かつ分割された各放電
電極板間を電気絶縁帯条部材で電気的に遮断する
とともに、分割された各放電電極板をそれぞれ別
々のマツチング回路を介して同一の、もしくは別
々の高周波電源に接続したことを特徴とするプラ
ズマCVD装置の電極部。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12811885U JPS641958Y2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12811885U JPS641958Y2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6237083U true JPS6237083U (ja) | 1987-03-05 |
| JPS641958Y2 JPS641958Y2 (ja) | 1989-01-18 |
Family
ID=31023499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12811885U Expired JPS641958Y2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS641958Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001168044A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-22 | Sharp Corp | プラズマcvd装置およびそれを用いた薄膜製造方法並びに薄膜太陽電池の製造方法 |
| JP2009231247A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置及び高周波電力の供給方法 |
-
1985
- 1985-08-21 JP JP12811885U patent/JPS641958Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001168044A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-22 | Sharp Corp | プラズマcvd装置およびそれを用いた薄膜製造方法並びに薄膜太陽電池の製造方法 |
| JP2009231247A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置及び高周波電力の供給方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS641958Y2 (ja) | 1989-01-18 |
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