JPS6239138A - Ｘｙステ−ジ - Google Patents
Ｘｙステ−ジInfo
- Publication number
- JPS6239138A JPS6239138A JP17903485A JP17903485A JPS6239138A JP S6239138 A JPS6239138 A JP S6239138A JP 17903485 A JP17903485 A JP 17903485A JP 17903485 A JP17903485 A JP 17903485A JP S6239138 A JPS6239138 A JP S6239138A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- movable guide
- magnetic
- movable
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/28—Means for securing sliding members in any desired position
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は精密工作機、精密測定機、半導体製造装置等
に適用し、超精密な位置決めを行うＸＹステージに関す
る。
に適用し、超精密な位置決めを行うＸＹステージに関す
る。
〈発明の概要〉
この発明は、ＸＹ可動ガイドの交叉部に空気軸受を介し
てステージを支持した静圧浮上ＸＹステージにおいて、
ＸＹ可動ガイドの側面には磁性体、ステージには該磁性
体に対向して磁界を発生する励磁コイルを配備してなり
、可動ガイド静止時において、ステージの空気浮上によ
る微動を阻止したものである。
てステージを支持した静圧浮上ＸＹステージにおいて、
ＸＹ可動ガイドの側面には磁性体、ステージには該磁性
体に対向して磁界を発生する励磁コイルを配備してなり
、可動ガイド静止時において、ステージの空気浮上によ
る微動を阻止したものである。
〈発明の背景〉
従来この種ｘｙステージは、第５図に示す如く、定盤６
上に配備したＸＹ可可動ガイマフ８の交叉部に空気軸受
９１を介してステージ９を支持し、両可動ガイド７．８
をリニアモータ等の往復駆動装置にて移行させ、交叉部
のステージ９を目標位置に移行するようになっている。
上に配備したＸＹ可可動ガイマフ８の交叉部に空気軸受
９１を介してステージ９を支持し、両可動ガイド７．８
をリニアモータ等の往復駆動装置にて移行させ、交叉部
のステージ９を目標位置に移行するようになっている。
ところが、前記Ｘ可動ガイド７とＸ空気軸受９１、Ｙ可
動ガイド８とＹ空気軸受９１は、それぞれ軸受隙間にミ
クロン単位の空気膜を介在しており、ステージ９はＸＹ
可可動ガイマフ８に非接触状態にて支持、案内される。
動ガイド８とＹ空気軸受９１は、それぞれ軸受隙間にミ
クロン単位の空気膜を介在しており、ステージ９はＸＹ
可可動ガイマフ８に非接触状態にて支持、案内される。
斯る従来装置において、ステージ９の位置決めに際しＸ
Ｙ可可動ガイマフ８を静止したとき、ＸＹ空気軸受９１
においで対向する空気膜の平衡位置が±０．０１μｍ揺
れを生じる。つまり微動する。ところが、ステージは、
外部の拘束力がな（且つ摩擦要素のない非接触状態のた
め、第７図の測定データに示す如く、同様に１０．０１
８ｍ微動を生じ、従って、０，０１μｍ以下の高精度な
位置決めを行うとき、空気膜による揺れが外乱として働
き、問題となる。
Ｙ可可動ガイマフ８を静止したとき、ＸＹ空気軸受９１
においで対向する空気膜の平衡位置が±０．０１μｍ揺
れを生じる。つまり微動する。ところが、ステージは、
外部の拘束力がな（且つ摩擦要素のない非接触状態のた
め、第７図の測定データに示す如く、同様に１０．０１
８ｍ微動を生じ、従って、０，０１μｍ以下の高精度な
位置決めを行うとき、空気膜による揺れが外乱として働
き、問題となる。
〈発明の目的〉
この発明は、ＸＹ可動ガイドとステージとの間に拘束力
を与えることにより、上記の問題を完全に解消し、超精
密な位置決めを実現し得る新規なＸＹステージを提供す
ることを目的とする。
を与えることにより、上記の問題を完全に解消し、超精
密な位置決めを実現し得る新規なＸＹステージを提供す
ることを目的とする。
〈発明の構成および効果〉
上記の目的を達成するため、この発明では、ＸＹ可動ガ
イドの交叉部に空気軸受を介してステージを支持したＸ
Ｙステージにおいて、ＸＹ可動ガイドには両側面に磁性
体、ステージには該磁性体に対向して磁界を発生する励
磁コイルを配備して成る。上記の構成によると、この発
明では、ステージの位置決めに際しＸＹ可動ガイドを静
止し、各コイルに電流を流して磁界を発生させることに
より、各コイルと対応する可動ガイド両側面の磁性体と
が互いに反発し、所定位置にて反発力がつり合う。この
つり合った反発力は可動ガイドに対しステージを一定位
置に留める拘束力として作用し、これにより空気軸受の
空気膜による微動が拘束され、ステージはガイドに対し
定位置を保ち、超精密な位置決めを実現する効果を奏す
る。
イドの交叉部に空気軸受を介してステージを支持したＸ
Ｙステージにおいて、ＸＹ可動ガイドには両側面に磁性
体、ステージには該磁性体に対向して磁界を発生する励
磁コイルを配備して成る。上記の構成によると、この発
明では、ステージの位置決めに際しＸＹ可動ガイドを静
止し、各コイルに電流を流して磁界を発生させることに
より、各コイルと対応する可動ガイド両側面の磁性体と
が互いに反発し、所定位置にて反発力がつり合う。この
つり合った反発力は可動ガイドに対しステージを一定位
置に留める拘束力として作用し、これにより空気軸受の
空気膜による微動が拘束され、ステージはガイドに対し
定位置を保ち、超精密な位置決めを実現する効果を奏す
る。
〈実施例の説明〉
図面は本発明に係る静圧浮上型ｘｙステージを示す。該
ＸＹステージは、公知の如く、定盤１上に配備したＸＹ
可動ガイド２，３の交叉部に空気軸受４１を介してステ
ージ４を支持し、Ｘ′Ｙ可動ガイド２，３をリニアモー
タ等の往復駆動装置２１．３１にて移行させ、交叉部の
ステージ４を目標位置に移行するようになっている。本
発明は上記ＸＹ可動ガイド２．３とステージ４との間に
、空気浮上のステージ４を完全制止させる磁気拘束手段
５ａ、５ｂを設けてなり、該拘束手段５ａ、５ｂは、Ｘ
Ｙ可動ガイド２．３には両側面に磁性体５１ａ、５１ｂ
、ステージ４には、その磁性体５１ａ、５１ｂにそれぞ
れ対向し且つ磁界を発生する励磁コイル５２ａ、５２ｂ
を配備したものである。前記磁性体ｓｔａ、５１ｂは、
ＸＹ可動ガイド２，３の両側面に対し、軸方向に沿って
永久磁石板、或いは磁気テープの貼付け、または励磁し
た磁性体のコーティング等により構成される。
ＸＹステージは、公知の如く、定盤１上に配備したＸＹ
可動ガイド２，３の交叉部に空気軸受４１を介してステ
ージ４を支持し、Ｘ′Ｙ可動ガイド２，３をリニアモー
タ等の往復駆動装置２１．３１にて移行させ、交叉部の
ステージ４を目標位置に移行するようになっている。本
発明は上記ＸＹ可動ガイド２．３とステージ４との間に
、空気浮上のステージ４を完全制止させる磁気拘束手段
５ａ、５ｂを設けてなり、該拘束手段５ａ、５ｂは、Ｘ
Ｙ可動ガイド２．３には両側面に磁性体５１ａ、５１ｂ
、ステージ４には、その磁性体５１ａ、５１ｂにそれぞ
れ対向し且つ磁界を発生する励磁コイル５２ａ、５２ｂ
を配備したものである。前記磁性体ｓｔａ、５１ｂは、
ＸＹ可動ガイド２，３の両側面に対し、軸方向に沿って
永久磁石板、或いは磁気テープの貼付け、または励磁し
た磁性体のコーティング等により構成される。
然して、ステージ４の位置決めに際し、ＸＹ可動ガイド
２，３を制止し、各コイル５２ａ。
２，３を制止し、各コイル５２ａ。
５２ｂに電流を流して磁界を発生させるとき、各コイル
５２ａ、５２ｂと対応する可動ガイド２．３の両側面の
磁性体５１ａと５１ａ、５１ｂと５１ｂとが互いに磁気
反発、或いは磁気吸引し、各々ガイド２，３両側におい
て反発力或いは吸引力がつり合う。このつり合った反発
力或いは吸引力は、ＸＹ可動ガイド２，３に対しステー
ジ４を一定位置に留める拘束力として作用し空気浮上の
ステージ４をガイド２．３に完全静止し、従来の空気膜
による“ゆらぎ”の問題を解消する。
５２ａ、５２ｂと対応する可動ガイド２．３の両側面の
磁性体５１ａと５１ａ、５１ｂと５１ｂとが互いに磁気
反発、或いは磁気吸引し、各々ガイド２，３両側におい
て反発力或いは吸引力がつり合う。このつり合った反発
力或いは吸引力は、ＸＹ可動ガイド２，３に対しステー
ジ４を一定位置に留める拘束力として作用し空気浮上の
ステージ４をガイド２．３に完全静止し、従来の空気膜
による“ゆらぎ”の問題を解消する。
従って、本発明では、従来限界とされた０、０１μｍ以
下の超精度な位置決めを実現できる効果を有すものであ
る。
下の超精度な位置決めを実現できる効果を有すものであ
る。
第１図は本発明にがかるＸＹステージの斜視図、第２図
は要部の斜面図、第３図は第２図の平面図、第４図は第
３図ＩＶ−ＴＶ線矢印図、第５図は従来のＸＹステージ
の斜面図、第６図は第５図の一部拡大図、第７図はガイ
ド静止時におけるステージのゆらぎを測定した波形図で
ある。 ２．３・・・・ｘｙ可動ガイド ４・・・・ステージ ４１・・・・空気軸受 ５・・・・磁気拘束手段 ５１ａ、５１ｂ・・・・磁性体 ５２ａ、 ５２ｂ・・・・励磁コイル そとト ノ １ｆｆｉ ｙ畦、ｏ−かる×
Ｙステージ″゛、？ｉ＋ネｔバろ甘２）込 １ｐつ枡面
因 ！４ ２．３−−−ｘＹ町１＋ ｒｙ・ｉド 〃−−−ステーゾ ｂｌ−−−ｄＺｊｆｔ伽受
は要部の斜面図、第３図は第２図の平面図、第４図は第
３図ＩＶ−ＴＶ線矢印図、第５図は従来のＸＹステージ
の斜面図、第６図は第５図の一部拡大図、第７図はガイ
ド静止時におけるステージのゆらぎを測定した波形図で
ある。 ２．３・・・・ｘｙ可動ガイド ４・・・・ステージ ４１・・・・空気軸受 ５・・・・磁気拘束手段 ５１ａ、５１ｂ・・・・磁性体 ５２ａ、 ５２ｂ・・・・励磁コイル そとト ノ １ｆｆｉ ｙ畦、ｏ−かる×
Ｙステージ″゛、？ｉ＋ネｔバろ甘２）込 １ｐつ枡面
因 ！４ ２．３−−−ｘＹ町１＋ ｒｙ・ｉド 〃−−−ステーゾ ｂｌ−−−ｄＺｊｆｔ伽受
Claims (2)
- （１）ＸＹ可動ガイドの交叉部に空気軸受を介してステ
ージを支持した静圧浮上ＸＹステージにおいて、ＸＹ可
動ガイドとステージとの間に、空気浮上のステージを完
全制止させる磁気拘束手段を設けて成るを特徴とするＸ
Ｙステージ。 - （２）磁気拘束手段は、ＸＹ可動ガイドには両側面に磁
性体、ステージには該磁性体に対向して磁界を発生する
励磁コイルが配備されている特許請求の範囲第１項記載
のＸＹステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17903485A JPS6239138A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Ｘｙステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17903485A JPS6239138A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Ｘｙステ−ジ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6239138A true JPS6239138A (ja) | 1987-02-20 |
Family
ID=16058957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17903485A Pending JPS6239138A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | Ｘｙステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6239138A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH081487U (ja) * | 1991-11-07 | 1996-10-18 | 株式会社昭伸精工 | 自在挾持板 |
| JP2003133254A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-05-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザーアニ−ル装置及びそれを用いた薄膜トランジスタの作製方法 |
| US7863541B2 (en) | 2001-08-10 | 2011-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser annealing apparatus and semiconductor device manufacturing method |
| CN107486728A (zh) * | 2017-08-24 | 2017-12-19 | 广东工业大学 | 一种工作平台 |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP17903485A patent/JPS6239138A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH081487U (ja) * | 1991-11-07 | 1996-10-18 | 株式会社昭伸精工 | 自在挾持板 |
| JP2003133254A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-05-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザーアニ−ル装置及びそれを用いた薄膜トランジスタの作製方法 |
| US7863541B2 (en) | 2001-08-10 | 2011-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser annealing apparatus and semiconductor device manufacturing method |
| CN107486728A (zh) * | 2017-08-24 | 2017-12-19 | 广东工业大学 | 一种工作平台 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2834832B2 (ja) | 姿勢制御装置 | |
| US4506205A (en) | Electro-magnetic alignment apparatus | |
| JP3815750B2 (ja) | ステージ装置、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス製造方法 | |
| US4485339A (en) | Electro-magnetic alignment device | |
| US6003230A (en) | Magnetic positioner having a single moving part | |
| EP1001512A3 (en) | Actuator and transducer | |
| JPS58207859A (ja) | リニアモ−タのための可動磁石型予備負荷支持構造 | |
| JP2004172557A (ja) | ステージ装置及びその制御方法 | |
| JPS6239138A (ja) | Ｘｙステ−ジ | |
| JPS63503508A (ja) | リニアモータユニツト | |
| US5179305A (en) | Linear motor within a positioning device | |
| JPS61290231A (ja) | 静圧案内軸受 | |
| KR20050085223A (ko) | 구동장치 | |
| JPH11122902A (ja) | リニアモータ駆動装置 | |
| JP5662095B2 (ja) | リニアモータアクチュエータ | |
| JP2908249B2 (ja) | 平面モータ装置 | |
| JP2707364B2 (ja) | 静圧軸受装置 | |
| WO2013025170A1 (en) | High force linear stepper actuator with compensated attraction force | |
| JPS61124915A (ja) | 微小ステ−ジ駆動位置決め装置 | |
| JPS62201050A (ja) | リニア直流モ−タ | |
| JPH02226130A (ja) | 光量制御装置 | |
| Lee et al. | Positioning of the high precision linear motion system based on the voice coil actuator | |
| JPS6051451A (ja) | リニアステツピングモ−タ | |
| JPS626863Y2 (ja) | ||
| JPH07163121A (ja) | リニアモータ |