JPS6239422B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は２成分系ジアゾ画像形成材料の製造方
法に関する。従来、２成分系ジアゾ画像形成材
料、すなわちジアゾニウム塩とそれと反応するカ
ツプラーとを主成分とする感光性層を支持体上に
有するジアゾ画像形成材料は広く使用されてい
る。 一方、２成分系ジアゾ画像形成材料の製造方法
として、高分子結合剤（例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、酪酸セルロース等）を低
沸点有機溶剤（例えば、アセトン、酢酸メチル
等）に溶解してなる溶液を支持体（例えばプラス
チツクフイルム）上に塗布（厚さ、通常50〜100
μ位）した後、これを高温（通常100〜200℃位）
下長時間乾燥することにより含浸受容層（厚さ、
通常数μ位）形成し、次に感光性ジアゾニウム塩
を含む感光性組成物を前記含浸受容層に含浸さ
せ、乾燥させるという方法が知られている。 なお、この方法においてカツプラーは、前記の
感光性組成物および含浸受容層のうち少くとも一
方に含有させている。 そして、高温下長時間乾燥は、工業的には前記
溶液付の支持体を、精密作動制御された多数のロ
ールで搬送しつつ行なつている。 しかるに、前記の従来法によつて含浸受容層を
形成する際には、次の欠点がある。 (a) 高温下長時間乾燥するので、多量の熱エネル
ギーを要すること。 (b) 大量に蒸発する有機溶剤を処理する設備を要
すること。 (c) 乾燥に、大きな設備スペースを必要とする。 (d) 多数のロールの精密な作動制御を必要とす
る。 本発明の目的とするところは、これらの従来法
の欠点を除去した２成分系ジアゾ画像形成材料の
製造方法を提供することにある。 本発明は、高エネルギー線照射により架橋性を
示す化合物とそれ自体は高エネルギー線照射によ
り架橋性を示さずかつ感光性ジアゾニウム塩を含
む感光性組成物の含浸に好適な高分子化合物（以
下、含浸性付与用高分子化合物と称す）とを含有
する液状組成物（以下、被照射液状組成物と称
す）を平面支持体表面に層状に塗布し高エネルギ
ー線照射して架橋硬化させ、これに前記感光性組
成物を含浸させ乾燥することを特徴とする２成分
系ジアゾ画像形成材料の製造方法である。 本発明において使用する平面性支持体は、従来
公知のジアゾ画像形成材料の製造時使用される支
持体であつてよい。例えば、プラスチツクフイル
ム、合成紙、パルプ紙、金属、ガラス、織布、不
織布等であつてよいが物理的強度特に寸法安定
性、平面性および透明性において優れたプラスチ
ツクフイルム、例えば２軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフイルムが特に好ましい。 感光性ジアゾニウム塩は、従来公知のジアゾ画
像形成材料製造時に使用されている感光性ジアゾ
ニウム塩であつてよく、該感光性ジアゾニウム塩
は、通常、無機ハロゲン塩との複塩の形態で使用
される。複塩としては例えば、１―ジアゾ―４―
ジメチルアミノベンゼンテトラフルオルボーレー
ト、ビス（１―ジアゾ―３―メトキシ―４―ピロ
リジノベンゼン）テトラクロルシンケート等があ
げられる。 本発明において使用するカツプラーのタイプも
また公知であるが、これらは所望する画像の色相
に関係して選択される。特に代表的カツプラー
は、フエノール性化合物および活性メチレン基を
有する化合物である。 フエノール性化合物としては、レゾルシノー
ル、ビスレゾルシノールスルフイド、カテコール
モノヒドロキシエチルエーテル、２―ヒドロキシ
ナフタリン―３―カルボン酸―2′―メチルアニリ
ド、２―ヒドロキシナフタリン―３―カルボン酸
エタノールアミド等があげられ、活性メチレン基
を有する化合物としては、アセトアニリド、アセ
トグリシンアミド、１，４―ビス（アセトアセ
ト）エチレンジアミン等があげられる。 本発明においては、プレカツプリングによる発
色を防止するため、酸性を示す助剤を前記含浸受
容層又は／および前記感光性組成物に含有させる
ことが望ましい。 前記含浸受容層へ前記感光性組成物を含浸させ
るには、従来公知の含浸装置、例えば液供給ロー
ルとかきとり部材とからなる含浸装置を用いるこ
とができる。 前記感光性組成物を含浸受容層に含浸した後の
乾燥は、従来法における乾燥条件でよく、通常60
〜130℃の温度範囲が採用できる。 本発明においては、含浸受容層は、高エネルギ
ー線照射により架橋性を示す化合物と含浸性付与
用高分子化合物とを含有する液状組成物に高エネ
ルギー線照射して架橋硬化させる。 本発明でいう高エネルギー線とは、特に紫外線
または電子線が望ましい。 紫外線照射装置の光源としては、200nm〜
450nmの遠紫外域から近紫外域の紫外光を発する
メタルハライド―水銀灯、低圧、中圧、高圧水銀
灯等を使用してよい。電子線照射装置としては通
常、加速電圧100〜600KeV、電流値10〜100mA
のものを使用する。 前記高エネルギー線照射により架橋性を示す化
合物は、既に文献に十分開示されている。本発明
においては、それら公知のものを使用してよい。 該化合物のうちでも、エチレン性不飽和結合を
１〜４個有するがオリゴマーでない常温で液状の
化合物またはエポキシ結合を２〜６個有する常温
で液状の化合物が好ましい。それらの好ましい化
合物のうちでも、100℃以上の沸点を有するもの
が特に好ましい。 エチレン性不飽和結合を１〜４個有するがオリ
ゴマーでない常温で液状の化合物のうちで、エチ
レン性不飽和結合を１個のみ有する単量体として
は、例えば、メチルアクリレート、２―エチルヘ
キシルアクリレート、２―ヒドロキシエチルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フエノキシエチルアクリレートまたはそれら
のメタクリレート、さらにスチレン、Ｎ―ビニル
ピロリドン等がある。 エチレン性不飽和結合を２〜４個有するがオリ
ゴマーでない常温で液状の化合物としては、例え
ば、エチレングリコールジアクリレート、プロピ
レングリコールジアクリレート、１，６―ヘキサ
ンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリトリトールペ
ンタアクリレートあるいはそれらのメタクリレー
ト等がある。 エポキシ結合を２〜６個有し、かつ常温で液状
の化合物中には、例えば、次のものがある。 １，６―ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、グリセリントリグリシジルエーテル、ビスレ
ゾルシノールテトラグリシジルエーテル、エポキ
シノボラツク（エポキシ当量：172〜181）等があ
る。 含浸性付与用高分子化合物としては、セルロー
ス誘導体が特に好ましいが、ビニル重合体、ホル
マリン共縮合樹脂等をあげることもできる。その
中でもセルロース誘導体で、しかも相溶性を満足
しているものを選択することが、特に好ましい。 セルロース誘導体としては、次のものが例示さ
れる。(a)セルロースを脂肪酸により変性して得た
アルキルエステル誘導体、例えばセルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セル
ロースアセテートイソブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート、(b)セルロースを硝酸に
より変性して得たエステル誘導体例えば、セルロ
ースナイトレート、(c)セルロースをジアルキル硫
酸またはハロゲン化アルキル等により変性して得
たエーテル誘導体、例えばエチルセルロース、プ
ロピルセルロース。 本発明において使用する含浸性付与用高分子化
合物は、含浸受容層に感光性ジアゾニウム塩を含
む感光性組成物を含浸させるのに必要不可欠なも
のである。また、該高分子化合物は、アンモニア
ガスのようなアルカリ性化合物が露光済みのジア
ゾ画像形成材料の含浸受容層中に迅速に吸尽され
ることを可能とし、短時間で現像処理を行なうこ
とができるという実用上の有利性を与える。 本発明の実施に当り、ジアゾニウム塩に対する
カツプラーの添加モル比率は通常0.2〜８、好ま
しくは0.5〜3.5である。ジアゾニウム塩とカツプ
ラーとの合計重量は、前記含浸受容層の重量の５
〜50％が好ましく、特に好ましくは10〜40％であ
る。 被照射液状組成物中にエチレン性不飽和結合を
１〜４個有するがオリゴマーでない液状の化合物
を含有する場合は、高エネルギー線により架橋性
を示す化合物に対する含浸性付与用高分子化合物
の重量比率は20〜80％が好ましく、特に好ましく
は35〜68％である。エポキシ結合を２〜６個有す
る液状の化合物を含有する場合には、前記重量比
率は10〜90％が好ましく、特に好ましくは30〜70
％である。 エチレン性不飽和結合を１〜４個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含む被照射液状組成
物を紫外線を照射するという態様で本発明を実施
する場合には、紫外線照射によりラジカルを発生
する光架橋活性化剤を使用することが好ましい。 かかる光架橋活性化剤としては、例えばベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフエノ
ン、ベンジル等がある。 エポキシ結合を２〜６個有する液状の化合物を
含有している被照射液状組成物に紫外線を照射す
るという態様により本発明を実施する場合は、通
常のエポキシ樹脂の速硬化剤となるようなLewis
酸を発生する光架橋活性化剤を使用することが、
実際上有利である。 かかるLewis酸を発生する好適な光架橋活性化
剤は、例えば、米国特許3708296号、同3721617
号、同3936557号、特公昭52−14277号、特公昭52
−14278号、特公昭52−14279号、特開昭52−
30402号等に開示されている。 エチレン性不飽和結合を１〜４個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含有した被照射液状
組成物には、被照射液状組成物の貯蔵中のゲル化
を防止するため、熱重合禁止剤を少量添加するこ
とが好ましい。熱重合禁止剤としては例えば、ヒ
ドロキノン、ヒドロキノンメチルエーテル、２，
６―ジtert ブチル―ｐ―クレゾール、キユペロ
ン等がある。しかし熱重合禁止剤として一般的に
使用される銅塩はジアゾニウム塩の分解を促進す
るので使用できない。 エチレン性不飽和結合を１〜４個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含有する被照射液状
組成物を使用する場合には、該組成物中には、エ
チレン性不飽和結合を２個以上有する架橋性オリ
ゴマーを使用することが好ましい。 該架橋性オリゴマーとしては、前記エチレン性
不飽和結合を１〜４個有するが、オリゴマーでな
い液状の化合物に相溶するものが好ましい。一般
には、分子量300以上、3000以下程度のものが有
利に使用される。 架橋性オリゴマーとしては、例えば、低分子量
ポリエステルを使用して得たポリエステルアクリ
レートまたはポリエステルメタクリレート、エポ
キシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウ
レタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、
等がある。 なお本発明の２成分系ジアゾ画像形成材料に
は、通常の安定剤、例えば５―スルホサルチル
酸、コハク酸で代表される酸性成分、塩化亜鉛で
代表される無機塩、２，７―ナフタリンジスルホ
ン酸ジナトリウムのようなスルホン酸のアルカリ
塩、チオ尿素あるいはジエチルチオ尿素等のチオ
尿素類を含有していてもよい。さらに、コロイド
状シリカ、粉末硫酸バリウム、クレイ等の不溶性
粉末を共存させてもよい。 エポキシ結合を２〜６個有する液状の化合物を
含有する被照射液状組成物を使用する場合、エポ
キシ結合を１個有する低分子量の液状化合物を希
釈剤として該組成物に含有させることが好まし
い。該希釈剤を例示すれば、通常のエポキシ樹脂
の希釈剤として知られている、スチレンオキシ
ド、フエニルグリシジルエーテル等のほか、エポ
キシ結合とエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個
有するグリシジルメタクリレート、アリルグリシ
ジルエーテル等がある。 以上詳記の本発明によるときは、前記従来法の
欠点が解消され、したがつて２成分系ジアゾ画像
形成材料を工業的に有利に製造することができ
る。 なお２成分系ジアゾ画像形成材料は原図と密着
露光後、常圧における水蒸気を含んだアンモニ
ア、または高圧無水アンモニアガスのようにジア
ゾニウム塩とカツプラー成分との反応によりアゾ
染料を形成させるアルカリ性化合物に短時間接触
させることにより現像される。 上記の２成分系ジアゾ画像形成材料の密着露光
用の光源には、300〜450nm領域の紫外光にとむ
光線を放射する例えばケミカルランプ、中圧、高
圧、超高圧水銀灯、メタルハイラド―水銀灯、カ
ーボンアーク灯が用いられる。 ２成分系ジアゾ画像形成材料の露光・現像には
市販の装置の使用が便宜である。 以下、実施例を示す。実施例中の部は重量部
（Kg）を意味し、また容は容量（）を表わす。 実施例 １ 合成例１ 〔ポリエステルアクリレートの合成〕 イソフタル酸 83部 ジエチレングリコール 106部 アジピン酸 146部 ｐ―トルエンスルホン酸（触媒） 2.5部 上記混合物を120℃で反応させ、酸価が130〜
150になつたとき、 ２―ヒドロキシエチルアクリレート 116部 ヒドロキノンモノメチルエーテル（熱重合禁止
剤） 0.45部 を添加、空気を吹き込み同じく120℃で４時間反
応させポリエステルアクリレートを得た。 次に、下記成分からなる被照射液状組成物を調
製した。 ２―ヒドロキシエチルアクリレート（架橋剤）
50部 上記のポリエステルアクリレート（架橋性オリ
ゴマー） 12部 セルロースアセテートブチレート1/2秒（含浸
性付与用高分子化合物）（米国コダツク社製
CAB381−２） 15部 セルロースブチレート1/2秒（同上） （同上 HSB） ５部 ポリ（メチルメタクリレート―エチルメタクリ
レート）（同上）（米国ローム・アンドハース社
製アクリロイドB72） ４部 ベンゾインイソプロピルエーテル（光架橋活性
化剤） ３部 上記組成物の粘度は1350cps（25℃）であつた
（Ｂ型粘度計使用。以下の実施例においても同型
の粘度計により測定）、これを75μｍの下引層を
設けた２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（英国ICI社製Merinex＃542）に、コーター
を用いて塗布、連続して20m／分の走行速度で紫
外線照射装置（岩崎電気製メタルハライド―水銀
灯80W／cm、３本使用）を通し膜厚約6.5μｍの
含浸受容層を造成した。 次に、下記成分からなる２成分系ジアゾ感光性
組成物溶液を調製した。 １―ジアゾ―2.5―ジエトキシチオモルホリノ
ベンゼンテトラフルオルポーレート（ジアゾニ
ウム塩） 10部 アセトアセトアニリド（カツプラー） ６部 ２―ヒドロキシナフタリン―３―カルボン酸―
2′―メチルアニリド（同上） 18部 塩化第２スズ（現像促進用金属塩） 2.5部 酒石酸（早期カツプリング防止剤） 3.5部 チオ尿素（還元剤） 0.8部 アセトン 700容 該感光性組成物溶液をキスコーターおよびワイ
ヤーバー“かきとり”により20m／分の走行速度
でフイルム上の前記含浸受容層に含浸、50〜80℃
の温度で、支持ロールの少ない簡便な堅型乾燥装
置を通し乾燥、２成分系ジアゾ画像形成材料を得
た。 該２成分系ジアゾ画像形成材料を露光・アンモ
ニア現像試験、ならびに現像済み材料について試
験を行ない第１表の結果を得た。

【表】 表―１における感度は、従来法により製造され
た同等品との比較において感度が大、同等、およ
び小に対して１，２、および３あるいは４と評価
した。具体的にはコダツク社製ステツプタブレツ
トNo.３を焼きつけたのち、アンモニア現像して透
明になる段数を調べ、４段まで透明の場合１，３
段透明の場合２，２段以下透明の場合３あるいは
４とした。 現像済み材料表面硬度を鉛筆硬度によつて表示
した。 接着性はJISD―0202に準拠し、いわゆる基板
目テストを行ない調べた。すなわち現像済み材料
表面に剃刃で１辺１mmの桝目を100個（10×10）
作り、セロフアンテープを桝目に圧着、急速に引
きはがし、材料表面に残つた桝目の数を表示し
た。したがつて100／100は100個の桝目がすべて
剥離しなかつたことを示す。 もろさの試験は、現像済み材料を両手で強く５
回もみ、膜はがれの全くない場合を１、極くわず
かに細い線状の剥離を生ずるものを２、１cm以上
の線または面積４mm²程度の面剥離があるものを
３、かなり剥離欠損部分のあるものを４とした。
現像性は、市販アンモニア現像装置により現像速
度15ｍ／分、12ｍ／分、18ｍ／分、および５ｍ／
分をそれぞれ１，２，３、および４とした。従来
法による同等品のジアゾ画像形成材料の現像性は
２となつている。 ブリード（bleeding）とは、現像済み材料が１
ケ月程度の期間比較的高湿度変化が大きい環境下
におかれた場合、発色部のアゾ染料の滲み出しの
生ずることを称し、耐ブリード性は前記のような
環境で１ケ月保存した現像済み材料がブリードし
ない場合を１、わずかにブリードするが市販ジア
ゾ画像形成材料程度である場合を２、かなりブリ
ードする場合を３とした。 ブルーム（blooming）は現像処理済み材料の
画像部に油性物質が付着した場合、付着個所の染
料が浮き出す現像を称し、例えば汚れた指先で触
れると指紋様のブルームが出易い。耐ブルーム試
験は、画像部を強く指先で押し、80℃の乾燥装置
に入れ、一定時間後のブルームの発生を調べた。
５〜８時間、４〜５時間、２〜３時間および１〜
２時間それぞれ経過後にブルームが生じた場合、
１，２，３、および４と評価した。従来法による
同等品の耐ブルーム性評価は２である。 以下の実施例においても上記の評価法は、特に
記述のない限り同一とする。点数評価では上述の
説明にみられるように従来法で製造されたジアゾ
画像形成材料の評価２を基準としている。 実施例 ２ 合成例２〔ウレタン化エポキシアクリレートの合
成〕 ウレタン化エポキシ樹脂（旭電化製EPU―
10） 68部 アクリル酸 14.4部 トリエチルベンジルアンモニウムクロリド（触
媒） 0.5部 トリメチロールプロパントリアクリレート（反
応希釈剤ならびに架橋剤） 55部 ヒドロキノンモノメチルエーテル（熱重合禁止
剤） 0.14部 上記混合物に乾燥空気を吹き込みながら100℃
で６時間反応させウレタン化エポキシアクリレー
トのトリメチロールプロパントリアクリレート溶
液を得た。 次に、下記成分からなる被照射液状組成物を調
製した。 ２―ヒドロキシプロピルアクリレート（架橋
剤） 35部 合成例２のウレタン化エポキシアクリレート
（架橋性オリゴマー）のトリメチロールプロパ
ンアクリレート（架橋剤）溶液 13部 ケトン樹脂（含浸性付与用高分子化合物）（日
立化成製ハイラツク111） 10部 セルロースアセテートブチレート（含浸性付与
用高分子化合物）米国コダツク社製CAB551―
0.2） 33部 ベンゾインエチルエーテル（光架橋活性化剤）
４部 該被照射液状組成物に２成分系ジアゾ画像形成
材料の下記の助剤類を添加し均一な組成物とした
〔粘度1750cps（25℃）〕 微粉化２，７―ナフタリンスルホン酸ジナトリ
ウム（現像促進剤） 5.2部 酒石酸（早期カツプリング防止剤） 4.7部 チオ尿素（還元剤）） 11部 上記混合組成物を下引層を設けない未処理の28
μm2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイル
ムに実施例１と同様の装置を用い塗布並びに紫外
線照射し含浸受容層を造成した（膜厚約６μｍ）
この場合、塗布された混合組成物は60℃に加熱さ
れてエクストルダーより押し出され、フイルムの
走行速度は23ｍ／分であつた。 次に、下記成分からなる２成分系ジアゾ感光性
組成物溶液を調製した。 １―ジアゾ―２，５―ジブトキシモルホリノベ
ンゼンテトラフルオルボーレート（ジアゾニウ
ム塩） 10.5部 ２―ヒドロキシナフタリン―３―カルボン酸―
2′―メチルアニリド（アゾカツプリング成分）
19部 塩化亜鉛（ジアゾ安定剤兼現像促進剤） ７部 アセトン 500容 メチルセロソルブ 200容 該感光性組成物溶液を実施例１と同様な装置で
含浸、乾燥し、２成分系ジアゾ画像形成材料を得
た。この場合の乾燥温度の上限は120℃に設定さ
れ、かつ走行速度は上記と同一の23ｍ／分であつ
た。 上記２成分系ジアゾ画像形成材料の試験結果は
表―２の通りであつた。

【表】 実施例 ３ 下記成分からなる被照射液状組成物を調製し
た。 フエニルグリシジルエーテル（架橋剤） 19部 グリシジルメタクリレート（同上） 52部 グリセリントリグリシジルエーテル（同上）
23部 セルロースアセテートブチレート（含浸性付与
用高分子化合物）（米国コダツク社製CAB551
―0.01） 30部 エチルヒドロキシエチルセルロース（同上）
（米国ハーキユレス社製EHEC―Low） 13部 上記組成物〔粘度860cps（25℃）〕を下引き処
理を施した75μm2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフイルムに塗布、加速電圧300KeV、電流
値100mAで約1.5Mradの線吸収量で電子線照射に
より硬化させ膜厚約８μｍの含浸受容層を造成し
た。 次に、下記組成からなる２成分系ジアゾ感光性
組成物を調製した。 ビス（１―ジアゾ―３―メチル―４―ピロリジ
ノベンゼン）テトラクロルジンケケート（ジア
ゾニウム塩） ６部 ２―ヒドロキシナフタリン―３―カルボン酸―
3′―Ｎ―モルホリノプロピルアミド（アゾカツ
プリング成分） 9.5部 クエン酸（早期カツプリング防止剤） ８部 ２，７―ナフタリンジスルホン酸ジナトリウム
（現像促進剤） ３部 チオ尿素（還元剤） 7.5部 メチルセロソルブアセテート 200容 アセトニトリル 70容 ジオキサン 130容 該感光性組成物溶液をワイヤーバーコーターで
塗布含浸受容層に含浸させ80〜120℃で乾燥、２
成分系画像形成材料を得、表―３の試験結果を得
た。

【表】 実施例 ４〜14 合成例３ 〔ウレタンアクリレートの合成〕 トリレンジイソシアナト（２，４―ジ置換体／
２，６―ジ置換体＝80／20） 174部 トリエチレングリコール 75部 １，６―ヘキサンジオールジアクリレート
200部 ヒドロキノンモノメチルエーテル 0.57部 上記混合物に空気を吹き込みながら60℃で４時
間反応させ、生成ポリマーの両末端にイソシアナ
ト基をもつプレポリマーを合成し、さらに２―ヒ
ドロキシエチルアクリレート116部を添加、60℃
で６時間反応させウレタンアクリレートを得た。
なお、上記の反応混合物における１，６―ヘキサ
ンジオールジアクリレートは重付加反応の希釈剤
として使用されているが、これは同時に架橋剤と
なるので混合物を直接含浸受容層を形成する組成
物の一部として利用し得る。 合成例４〔エポキシアクリレートの合成〕 エポキシ樹脂（シエル化学製エピコート828；
エポキシ当量185〜192） 94.5部 アクリル酸 36部 Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン（触媒） 1.3部 上記混合物を100℃で空気を吹き込み反応させ
エポキシアクリレートを得た。 表―４の各種被照射液状組成物を調製、実施例
１と同一の方法で塗布並びに硬化させ下引き処理
した75μm2軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フイルム上にそれぞれ含浸受容層を造成、実施例
２と同一の感光性組成物を含浸させ得られた２成
分系ジアゾ画像形成材料につき評価試験を行なつ
た。なお、含浸受容層造成のフイルム走行速度は
15〜80ｍ／分、また含浸工程のフイルム走行速度
は30〜80ｍ／分である。

【表】 表―４各成分の略号は次の通りである。 架橋剤 C₁ ２―ヒドロキシエチルアクリレート C₂ ２―ヒドロキシプロピルアクリレート C₃ テトラヒドロフルフリルアクリレート C₄ エチレングリコールモノアクリレート C₅ エチルクロトナート C₆ シクロヘキシルアクリレート C₇ ２―エチルヘキシルアクリレート C₈ １，６―ヘキサンジオールジアクリレート C₉ フエノキノエチルアクリレート C₁₀ Ｎ―ビニルピロリドン 架橋性オリゴマー Q₁ エポキシアクリレート（合成例４の合成
品） Q₂ ウレタンアクリレート（合成例３の合成
品、１，６―ヘキサンジオールジアクリレート
溶液） Q₃ ウレタン化エポキシアクリレート（合成
２の合成品、トリメチロールプロパントリアク
リレート溶液） 含浸性付与用高分子化合物 P₁ セルロースアセテートブチレート1/2秒
（米コダツク社製CAB381―２） P₂ ポリ（メチルメタクリレートエチルメタク
リレート）（米ローム・アンド・ハース社製
Acryloid―B72） P₃ ポリ（メチルアクリレート―メチルメタク
リレート）（米ローム・アンド・ハース社製
Acryloid―101） P₄ キシレン樹脂（三菱瓦斯化学製、ニカノー
ルＬ） P₅ ケトン樹脂（日立化成製、ハイラツク
111） P₆ ケトン樹脂（独、バイエル製、Kunstharz
AFS） 光架橋活性剤 S₁ ベンゾインエチルエーテル S₂ ベンジル S₃ ベンゾインイソプロピルエーテル S₄ ベンゾフエノン S₅ ２―tertブチルアントラキノン 熱重合禁止剤 i₁ ハイドロキノンモノメチルエーテル i₂ ２，６―ジ―tert―ブチル―ｐ―クレゾール 表中上記記号の前の数字は重量部を示す。例え
ば37C₉は架橋剤C₉を37部添加することを意味す
る。但し重合禁止剤についてはppm単位をと
る。 実施例 15〜19 実施例２に作製した２成分系ジアゾ画像形成材
料の助剤類を含有する、28μm2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルム上の含浸受容層に若
干のジアゾニウム塩とカツプラー成分の組み合せ
による異る２成分系ジアゾ感光組成物を含浸させ
て得られた画像形成材料に関する試験結果を表―
５に要約する。但し、感光性組成物溶液の調製の
際、比較検討のため塩化亜鉛の添加量、溶媒の種
類と添加量は実施例２の場合と同一とした。

【表】 表―５の各成分の略号は次の通りである。 ジアゾニウム塩 d₁ビス（１―ジアゾ―３―メトキシ―４―ピロリ
ジノベンゼン）テトラクロルジンケート d₂１―ジアゾ―４―Ｎ，Ｎ―ジメチルアミノベン
ゼンテトラフルオルボーレート アゾカツプリング成分 a₁２―ヒドロキシナフタリン―３―カルボン酸―
2′―メチルアニリド a₂ビス（２，４―ジヒドロキシフエニル）スルフ
イド a₃ アセトアセトベンジルアミド 表中記号の前の数字は重量部を示す。例えば
15a₃はアゾカツプリング成分a₃を15部添加するこ
とを意味する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 高エネルギー線照射により架橋性を示す化合
   物とそれ自体は高エネルギー線照射により架橋性
   を示さず、かつ感光性ジアゾニウム塩を含む感光
   性組成物の含浸に好適な高分子化合物とを含有す
   る液状組成物を平面性支持体表面に塗布し、次い
   で該液状組成物に高エネルギー線照射して架橋硬
   化させることにより含浸受容層を形成し、これに
   前記感光性組成物を含浸させ、乾燥させることを
   特徴とする２成分系ジアゾ画像形成材料の製造方
   法。 ２ 高エネルギー線照射により架橋性を示す化合
   物がエチレン性不飽和結合を１〜４個有するがオ
   リゴマーでない液状の化合物である特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ３ 高エネルギー線照射により架橋性を示す化合
   物がエポキシ結合を２〜６個有する液状の化合物
   である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 高エネルギー線照射により架橋性を示さずか
   つ感光性ジアゾニウム塩を含む感光性組成物の含
   浸に好適な高分子化合物がセルローズ誘導体であ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ カツプラー成分をジアゾニウム塩を含む感光
   組成物中あるいは平面性支持体表面上に塗布され
   る液状組成物中の何れかに混入使用する特許請求
   の範囲第１項ないし第４項の何れかに記載の方
   法。