JPS602945A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS602945A JPS602945A JP11117783A JP11117783A JPS602945A JP S602945 A JPS602945 A JP S602945A JP 11117783 A JP11117783 A JP 11117783A JP 11117783 A JP11117783 A JP 11117783A JP S602945 A JPS602945 A JP S602945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable composition
- stabilizer
- present
- photopolymerizable
- photosensitive
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な光重合性組成物に関する。特に、秀れた
安定性を有するフォトレジストに好適な光重合性組成物
に関するものである。
安定性を有するフォトレジストに好適な光重合性組成物
に関するものである。
近年、様々な感光性樹脂がフォトレジスト分野において
用いられ、特に光ラジカル発生を利用した光重合性感光
材料は最も有用な素材として多用されている。これら感
光材料に要請される実務上重要な特性は初期性能は熱論
、更に品質安定性、特に貯蔵安定性ならびに実作業時に
おける安定性である。特に、プリント配線基板を作製す
るに際し用いられるドライフィルム状の光重合性感光材
料は、従来、充分な品質安定性を有していなかった。こ
のドライフィルム状光重合性フォトレジスト（以下ドラ
イフィルムと略記）は、通常、たわみ性支持体、光重合
性層、更に保護膜の三層より成る積層構造材料が使用さ
れている。それを用いたプリント配線基板の製造工程を
説明するに、まず、保護膜を剥離、露出した光重合性層
をプリント基板表面に積層し、像露光後、たわみ性支持
体を除去して液体現像し、レジスト像を形成、最後にエ
ツチング又はメッキ処理を施す方法が採られている。
用いられ、特に光ラジカル発生を利用した光重合性感光
材料は最も有用な素材として多用されている。これら感
光材料に要請される実務上重要な特性は初期性能は熱論
、更に品質安定性、特に貯蔵安定性ならびに実作業時に
おける安定性である。特に、プリント配線基板を作製す
るに際し用いられるドライフィルム状の光重合性感光材
料は、従来、充分な品質安定性を有していなかった。こ
のドライフィルム状光重合性フォトレジスト（以下ドラ
イフィルムと略記）は、通常、たわみ性支持体、光重合
性層、更に保護膜の三層より成る積層構造材料が使用さ
れている。それを用いたプリント配線基板の製造工程を
説明するに、まず、保護膜を剥離、露出した光重合性層
をプリント基板表面に積層し、像露光後、たわみ性支持
体を除去して液体現像し、レジスト像を形成、最後にエ
ツチング又はメッキ処理を施す方法が採られている。
本発明者らは、ドライフィルムの積層工程前の保存安定
性と積層後、即ち、化学的に活性傾向を示す銅金属表面
との密着状態での品質安定性を重視して検討を進めた結
果、本発明へ到達するに至ったものである。
性と積層後、即ち、化学的に活性傾向を示す銅金属表面
との密着状態での品質安定性を重視して検討を進めた結
果、本発明へ到達するに至ったものである。
即ち、本発明の要旨とするところは、エチレン性不飽和
化合物、結合剤ポリマー、光重合開始剤および安定剤か
ら成る光重合性組成物において、前記安定剤がＯ−ター
シャリブチルフェノール誘導体の少なくとも一種と複素
環チオール化合物の少なくとも一種とを含むことを特徴
とする光重合性組成物に存する。
化合物、結合剤ポリマー、光重合開始剤および安定剤か
ら成る光重合性組成物において、前記安定剤がＯ−ター
シャリブチルフェノール誘導体の少なくとも一種と複素
環チオール化合物の少なくとも一種とを含むことを特徴
とする光重合性組成物に存する。
次に本発明の光重合性組成物について詳細に説明する。
本発明者らは特定な安定剤が光重合性組成物のドライフ
ィルム状態、即ち、２枚のポリマーシートでサイドウィ
ンチ状に保持された状態ならびにプリント基板に積層さ
れた状態、即ち、一枚のポリマーシードと銅シートで同
様サンドウィンチ状に保持された状態の双方において初
期特性を良好に維持することを見い出した。この安定剤
は少くともコ種成分から構成されており、その第１の成
分はＯ−ターシャリブチルフェノール誘導体である。こ
れらは酸化防止剤として市販されているものが用い得る
。具体例を示せば、２．６−ジターシャリブチルフェノ
ール、、２ｊ−ジターシャリブチル−′ｌ！ｒ−クレゾ
ール（ＢＨＴ）、テトラキス〔メチレン−（３，！−ジ
ターシャリブチルーグーヒドロキシ−ハイドロシンナメ
ート）〕メタン（工ｒｇａｎｏｘ１０／θＫｂｍ）、ｘ
チレングリコールービス（３，！−ジターシャリブチル
ーグーヒドロキシ−ハイドロシンナメート）、≠、り゛
−チオビス（を−ターシャリブチル−３−メチルフェノ
ール）、”、≠゛−メチレンビス６−ターシャリブチル
フェノール）％”、≠−メチレンビス（６−ターシャリ
ブチル−〇−クレゾール）、／、／、Ｊ−トリス（Ｓ−
ターシャリブチル−μｍヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン１．ｚ、ｇ、６−トリス（３，ｊ−ジターシ
ャリブチル−≠−ヒドロキシベンジル）メシチレン、／
、Ａ〜ビス（３，ｊ −ジターシャリブチル−≠−ヒド
ロキシフェニルアセトキシ）ヘキサン、ｘ−（ｐ−ヒド
ロキシ−３，ｊ−ジターシャリブチルアニリノ）−一、
≠−ビス（ｒｌ−オクチルチオ） −／、３．！ｒ −
トリアジン、ｎ−オクタデシル−３−（！’−ヒ）’
ロキ’／ −３，！’ −ジターシャリブチルフェニル
）プロピオネートおよびジエチルグーヒドロキシ−３，
ｚ−シターシヤリプチルベンジルフオスフオネートが挙
げられる。これらはいずれも良好に用い得る。
ィルム状態、即ち、２枚のポリマーシートでサイドウィ
ンチ状に保持された状態ならびにプリント基板に積層さ
れた状態、即ち、一枚のポリマーシードと銅シートで同
様サンドウィンチ状に保持された状態の双方において初
期特性を良好に維持することを見い出した。この安定剤
は少くともコ種成分から構成されており、その第１の成
分はＯ−ターシャリブチルフェノール誘導体である。こ
れらは酸化防止剤として市販されているものが用い得る
。具体例を示せば、２．６−ジターシャリブチルフェノ
ール、、２ｊ−ジターシャリブチル−′ｌ！ｒ−クレゾ
ール（ＢＨＴ）、テトラキス〔メチレン−（３，！−ジ
ターシャリブチルーグーヒドロキシ−ハイドロシンナメ
ート）〕メタン（工ｒｇａｎｏｘ１０／θＫｂｍ）、ｘ
チレングリコールービス（３，！−ジターシャリブチル
ーグーヒドロキシ−ハイドロシンナメート）、≠、り゛
−チオビス（を−ターシャリブチル−３−メチルフェノ
ール）、”、≠゛−メチレンビス６−ターシャリブチル
フェノール）％”、≠−メチレンビス（６−ターシャリ
ブチル−〇−クレゾール）、／、／、Ｊ−トリス（Ｓ−
ターシャリブチル−μｍヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン１．ｚ、ｇ、６−トリス（３，ｊ−ジターシ
ャリブチル−≠−ヒドロキシベンジル）メシチレン、／
、Ａ〜ビス（３，ｊ −ジターシャリブチル−≠−ヒド
ロキシフェニルアセトキシ）ヘキサン、ｘ−（ｐ−ヒド
ロキシ−３，ｊ−ジターシャリブチルアニリノ）−一、
≠−ビス（ｒｌ−オクチルチオ） −／、３．！ｒ −
トリアジン、ｎ−オクタデシル−３−（！’−ヒ）’
ロキ’／ −３，！’ −ジターシャリブチルフェニル
）プロピオネートおよびジエチルグーヒドロキシ−３，
ｚ−シターシヤリプチルベンジルフオスフオネートが挙
げられる。これらはいずれも良好に用い得る。
安定剤を構成する第２の成分は複素環チオールである。
具体例を示せば、コーメルカブトベンズチアゾール、コ
ーメルカプトベンズオキサゾール、コーメルカプトベン
ズイミダゾール、コーメルカブトチアゾリン、λ−メル
カプトベンズチアゾリン、コーメルカブトオギサゾリン
。
ーメルカプトベンズオキサゾール、コーメルカプトベン
ズイミダゾール、コーメルカブトチアゾリン、λ−メル
カプトベンズチアゾリン、コーメルカブトオギサゾリン
。
コーメルカプトベンズオキサジノン、コーメルカブトイ
ミダゾリン、−一メルカブトベンズイミダリン、３−メ
ルカプト−／、、２．４’ −）リアゾール、−一アミ
ノー！−メルカプト−／、３．弘−チアジアゾールおよ
びλ−メルカプトーク（３Ｈ）キナゾリノン等が挙げら
れる。中でもコーメルカプトベンズテアゾール、コーメ
ルカブトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズイ
ミダゾール、コーメルカブトチアゾリンが好ましい。前
記安定剤の各成分は光重合性組成物中のエチレン性不飽
和化合物と結合剤ポリマーとの合計Ｍ量に対しそれぞれ
、０．０ｊ重景チないしｚＭ量チ、好ましくは０．１重
量％ないし／ Ｍｉ％添加することができる。
ミダゾリン、−一メルカブトベンズイミダリン、３−メ
ルカプト−／、、２．４’ −）リアゾール、−一アミ
ノー！−メルカプト−／、３．弘−チアジアゾールおよ
びλ−メルカプトーク（３Ｈ）キナゾリノン等が挙げら
れる。中でもコーメルカプトベンズテアゾール、コーメ
ルカブトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズイ
ミダゾール、コーメルカブトチアゾリンが好ましい。前
記安定剤の各成分は光重合性組成物中のエチレン性不飽
和化合物と結合剤ポリマーとの合計Ｍ量に対しそれぞれ
、０．０ｊ重景チないしｚＭ量チ、好ましくは０．１重
量％ないし／ Ｍｉ％添加することができる。
本発明の光重合性組成物の他の構成成分としては、従来
開示されている技術、例えば、特公昭弘ｊ−２３，２３
１号、特公昭ｊグー２３９３７号。
開示されている技術、例えば、特公昭弘ｊ−２３，２３
１号、特公昭ｊグー２３９３７号。
特公昭ｊｊ−ｔ２１０号等に記載されたものを含め、広
範な種類の成分を用い得る。
範な種類の成分を用い得る。
好ましいエチレン性不飽和化合物は（メタ）アクリル酸
系不飽和化合物であり、例えば、アクリル酸またはメタ
クリル酸と脂肪族または芳香族のポリヒドロキシ化合物
とのエステル化化合物が好適である。特に好ましくは、
例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、テトジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、グリ
セロールトリアクリレートおよびビスアクリルオキシエ
チルフォスフエイト等が挙げられる。エチレン性不飽和
化合物は前述同様の合計重力１に対し、２０ないしＳＯ
重量％の量で使用される。
系不飽和化合物であり、例えば、アクリル酸またはメタ
クリル酸と脂肪族または芳香族のポリヒドロキシ化合物
とのエステル化化合物が好適である。特に好ましくは、
例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、テトジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、グリ
セロールトリアクリレートおよびビスアクリルオキシエ
チルフォスフエイト等が挙げられる。エチレン性不飽和
化合物は前述同様の合計重力１に対し、２０ないしＳＯ
重量％の量で使用される。
結合剤ポリマーの好ましい例としては、例えば、スチレ
ン／（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリ＾酸
共重合体、スチレン／（メタ）アクリル酸エステル／無
水マレイン酸半エステルの共重合体、（メタ）アクリル
酸エステル／（メタ）アクリル酸共重合体または酢酸ビ
ニル／クロトン酸共重合体等を挙げることができる。結
合剤ポリマーは前述の合計１１【量に対し５０重量％な
いしｇＯＭ量係０量用いられる。
ン／（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリ＾酸
共重合体、スチレン／（メタ）アクリル酸エステル／無
水マレイン酸半エステルの共重合体、（メタ）アクリル
酸エステル／（メタ）アクリル酸共重合体または酢酸ビ
ニル／クロトン酸共重合体等を挙げることができる。結
合剤ポリマーは前述の合計１１【量に対し５０重量％な
いしｇＯＭ量係０量用いられる。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル、
アントラキノン、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラー
ケトン、ビスイミダゾール等を単独または混合系として
含むものを使用し得る。使用量としては、前述同様の合
計重量に対し０．／ないし／ ｊ 屯＠φ、好ましくは
０．３ないし５重徂チが用いられる、 本発明の光重合性組成物は、更に、露光可視画剤を添加
し得る。露光可視画剤としては、従来公知の先発′色系
または光退色系を用い得るが、好ましい系はハロゲン化
炭化水素基を有する化合物とトリフェニルメタン系色素
のロイコ体とを含む系である。前者の例としては四臭化
炭素、メチルフェニルスルホン、トリストリクロロメチ
ル−８−トリアジン、トリストリブロモメチル−８−）
リアジン等があり、後者の例としてハ、ロイコクリスタ
ルバイオレット、ロイコマラカイトグリーン、ロイコビ
クトリアブルー、ロイコアーローザニリン等がある。
アントラキノン、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラー
ケトン、ビスイミダゾール等を単独または混合系として
含むものを使用し得る。使用量としては、前述同様の合
計重量に対し０．／ないし／ ｊ 屯＠φ、好ましくは
０．３ないし５重徂チが用いられる、 本発明の光重合性組成物は、更に、露光可視画剤を添加
し得る。露光可視画剤としては、従来公知の先発′色系
または光退色系を用い得るが、好ましい系はハロゲン化
炭化水素基を有する化合物とトリフェニルメタン系色素
のロイコ体とを含む系である。前者の例としては四臭化
炭素、メチルフェニルスルホン、トリストリクロロメチ
ル−８−トリアジン、トリストリブロモメチル−８−）
リアジン等があり、後者の例としてハ、ロイコクリスタ
ルバイオレット、ロイコマラカイトグリーン、ロイコビ
クトリアブルー、ロイコアーローザニリン等がある。
その他、必要に応じて、着色剤、可塑剤等公知の添加剤
を配合することもできる。
を配合することもできる。
以上述べた構成成分より成る光重合性組成物をドライフ
ィルム用感光層として用いた場合、該感光層の表裏両面
にポリマーシートを配するが該ポリマーシートの例とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ＷＦＵＩセルロースま
たはポリビニルアルコール等から成るシートが挙げられ
る。
ィルム用感光層として用いた場合、該感光層の表裏両面
にポリマーシートを配するが該ポリマーシートの例とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ＷＦＵＩセルロースま
たはポリビニルアルコール等から成るシートが挙げられ
る。
本発明の光重合性組成物はドライフィルム以外にも腐食
板へのフォトレジスト、印刷版、画像複製分野等への応
用が可能である。
板へのフォトレジスト、印刷版、画像複製分野等への応
用が可能である。
次に、本発明を実施例、比較例を用いて具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限りそれらに限定さ
れるものではない。
るが、本発明はその要旨を越えない限りそれらに限定さ
れるものではない。
実施例／〜ｊ
下記組成より成る感光原液を調整し、更に表−１に示す
本発明の安定剤を感光原液の固形分重量に対しＯ−ター
シャリッチルフェノール誘導体Ｏ，Ｓ重量％ならびに複
素環チオールＯ０Ｓ重量係の景添加し試料感光液とした
。これを２３μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートシ
ート上に乾燥膜厚ＳＯμｍ となる様塗布乾燥し、更に
その感光層表面上に２５μｍ 膜厚のポリエチレンシー
トをラミネートしてドライフィルム試料を作製した。
本発明の安定剤を感光原液の固形分重量に対しＯ−ター
シャリッチルフェノール誘導体Ｏ，Ｓ重量％ならびに複
素環チオールＯ０Ｓ重量係の景添加し試料感光液とした
。これを２３μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートシ
ート上に乾燥膜厚ＳＯμｍ となる様塗布乾燥し、更に
その感光層表面上に２５μｍ 膜厚のポリエチレンシー
トをラミネートしてドライフィルム試料を作製した。
ＯメチルメタクリレートｌＯ重量％／エチルアクリレー
トａｏｐ重量％／メタクリル酸２０重−ｉ ％より成る
共重合体（メチルエチルケトン９５０重景チにてｌり、
０００ｃｐ８）・・・・・・・・・・・・６．０？ ・ トリメチロールプロパントリアクリレート・・・・
・・・・・・・・／、Ｊ’Ｐ ’・ テトラエチレング
リコールジアクリレート・・・・・・・・・・・・０．
１ ｆ 嗜 ベンジル ・・・・・・・・・・・・ｇｒダ・ ミ
ヒラーケトン ・・・・・・・・・・・・ ２ｍｇ・
トリブロモメチルフェニルスルホン・・・・・・・・・
・・・ｒｒｍｇ ・ ロイコクリスドルバイオレット ・・・・・・・・・・・・ｇｒｍｙ ・ ビクトリアピュアブルー ・・・・・・・・・・・
・ ２ ｍ９・ メチルエチルケトン ・・・・・・・
・・ｌ≠、ｏ １同一試料感光原液より各３片の同一な
ドライフィルム試料を作製し、各々を、初期特性、ドラ
イフィルム状態におけるノ・イドロサーモ処理２０日間
後の特性、プリント基板への積層状態におけるハイドロ
サーモ処理６日間後の特性の各測定評価に供した。前記
ノ・イドロサーモ処理条件はμｏＣ％ｆ Ｏ％ ＲＨで
あった。
トａｏｐ重量％／メタクリル酸２０重−ｉ ％より成る
共重合体（メチルエチルケトン９５０重景チにてｌり、
０００ｃｐ８）・・・・・・・・・・・・６．０？ ・ トリメチロールプロパントリアクリレート・・・・
・・・・・・・・／、Ｊ’Ｐ ’・ テトラエチレング
リコールジアクリレート・・・・・・・・・・・・０．
１ ｆ 嗜 ベンジル ・・・・・・・・・・・・ｇｒダ・ ミ
ヒラーケトン ・・・・・・・・・・・・ ２ｍｇ・
トリブロモメチルフェニルスルホン・・・・・・・・・
・・・ｒｒｍｇ ・ ロイコクリスドルバイオレット ・・・・・・・・・・・・ｇｒｍｙ ・ ビクトリアピュアブルー ・・・・・・・・・・・
・ ２ ｍ９・ メチルエチルケトン ・・・・・・・
・・ｌ≠、ｏ １同一試料感光原液より各３片の同一な
ドライフィルム試料を作製し、各々を、初期特性、ドラ
イフィルム状態におけるノ・イドロサーモ処理２０日間
後の特性、プリント基板への積層状態におけるハイドロ
サーモ処理６日間後の特性の各測定評価に供した。前記
ノ・イドロサーモ処理条件はμｏＣ％ｆ Ｏ％ ＲＨで
あった。
評価項目としてはエツチング特性における解像性と背景
汚染（エツチングカブリ）有無、暗反応による色調濃度
変化Ｒ（対初期値）、露光可視画性の光発色濃度差とそ
れの変化率（対初期値）の各項目を実施しだ。光学濃度
はデンシトメーター（マクベス社ＨＤ’−ｊ、／ｌ）を
用い測定し、エツチング特性と露光可視画性はプリント
基板に積層後、マスクフィルム、ステップタブレットお
よび解像力チャートを密着、高圧水銀燈光源のｉ ｉ
ｏ ｒｎ７／ａｄの光量を照射し、露光部、未り５光部
のか一３度測定後、常法に従い／チ炭酸ソーダ水溶液に
て：！Ｊ！像、塩化第λ鉄水溶液でエツチングする手順
により評価した。評価結果を表−２に示す。
汚染（エツチングカブリ）有無、暗反応による色調濃度
変化Ｒ（対初期値）、露光可視画性の光発色濃度差とそ
れの変化率（対初期値）の各項目を実施しだ。光学濃度
はデンシトメーター（マクベス社ＨＤ’−ｊ、／ｌ）を
用い測定し、エツチング特性と露光可視画性はプリント
基板に積層後、マスクフィルム、ステップタブレットお
よび解像力チャートを密着、高圧水銀燈光源のｉ ｉ
ｏ ｒｎ７／ａｄの光量を照射し、露光部、未り５光部
のか一３度測定後、常法に従い／チ炭酸ソーダ水溶液に
て：！Ｊ！像、塩化第λ鉄水溶液でエツチングする手順
により評価した。評価結果を表−２に示す。
比較例１〜３
実施例／に記載の感光原液へ表−７に示す添加物を実施
例−ｌと間貸配合１だは無添加のまま前述同様評価しそ
の結果を表−コに示した。
例−ｌと間貸配合１だは無添加のまま前述同様評価しそ
の結果を表−コに示した。
比較例弘、ｊ
市販のドライフィルムとして商品Ａ１商品Ｂを類似の方
法により評価し結果を表−２に示した。
法により評価し結果を表−２に示した。
評価結果より、本発明の安定剤は積層時の良好なエツチ
ング特性を初めとする各評価項目に対しバランスの良い
安定性を示すことが理解される。
ング特性を初めとする各評価項目に対しバランスの良い
安定性を示すことが理解される。
表−／
Claims (1)
- （１） エチレン性不飽和化合物、結合剤ポリマー、光
重合開始剤および安定剤から成る光重合性組成物におい
て、前記安定剤が０−ターシャリブチルフェノール誘導
体の少なくとも一種と、複素環チオール化合物の少なく
とも一種とを含むことを特徴とする光重合性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11117783A JPS602945A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11117783A JPS602945A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS602945A true JPS602945A (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=14554437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11117783A Pending JPS602945A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602945A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133045A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | レジストパターン形成方法 |
| WO1990001420A1 (en) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Alfred Doi | Improved ultraviolet protective overcoat for application to heat sensitive record materials |
| JPH04217251A (ja) * | 1990-03-01 | 1992-08-07 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 酸開始フォトレジスト組成物 |
| US5371058A (en) * | 1992-06-10 | 1994-12-06 | Alfred Doi | Ultraviolet protective coatings for application to heat sensitive record materials and other photodegradable printed matter |
| US6514657B1 (en) | 2000-07-19 | 2003-02-04 | Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. | Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP11117783A patent/JPS602945A/ja active Pending
Cited By (5)
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