JPS6243811A - 薄膜ヘツド - Google Patents
薄膜ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6243811A JPS6243811A JP18178385A JP18178385A JPS6243811A JP S6243811 A JPS6243811 A JP S6243811A JP 18178385 A JP18178385 A JP 18178385A JP 18178385 A JP18178385 A JP 18178385A JP S6243811 A JPS6243811 A JP S6243811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- recess
- magnetic
- thin film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、薄膜技術を用いて製作する磁気へ１０ツドに
関するものである。
関するものである。
薄膜を積層して構成する磁気ヘッドに於て、・基板上に
成膜した磁性膜を所望の形状にパタニ・ングして下部コ
アとし、下部コア以外の部分を１非磁性材料（以下埋込
材と称する）で埋めて全。
成膜した磁性膜を所望の形状にパタニ・ングして下部コ
アとし、下部コア以外の部分を１非磁性材料（以下埋込
材と称する）で埋めて全。
面を平坦化した後に、絶縁材料、薄膜コイル、。
上部コアを積層してヘッドを製作する技術が知。
られている。（脣公ｌｉｄ ５５−６８９号）薄膜ヘッ
ドに於ては、通常磁気コア部が基板−、，１上で占有す
る面積の割合がコイル、引出線接続用導体部に比較して
小さく、上記公知技術の場合には下部コア平坦化後の面
は大部分が前記埋込材で占められ、以後の工程で作られ
る薄膜は前記埋込材上に積層されることになる。一方、
磁気ヘッドの長寿命化のためにはコア厚を厚く。
ドに於ては、通常磁気コア部が基板−、，１上で占有す
る面積の割合がコイル、引出線接続用導体部に比較して
小さく、上記公知技術の場合には下部コア平坦化後の面
は大部分が前記埋込材で占められ、以後の工程で作られ
る薄膜は前記埋込材上に積層されることになる。一方、
磁気ヘッドの長寿命化のためにはコア厚を厚く。
してギャップ深さを大きくすることが必要であ。
す、コア厚の増加に伴なって埋込材の厚さも増。
加する。前記公知技術では、埋込材は磁気媒体。
に対する摺動性、耐！ＩＩＩ耗性、基板および上部の１
“膜との付着力が要求されるが、膜厚が増加する゛と基
板および磁気コア材と熱膨張率を合わせる゛必要もあり
、材料の選定が非常に困難になる。゛〔発明の目的〕 本発明の目的は、薄膜を積層して構成する磁１″気ヘッ
ドに於て、使用する材料の選定の自由度。
“膜との付着力が要求されるが、膜厚が増加する゛と基
板および磁気コア材と熱膨張率を合わせる゛必要もあり
、材料の選定が非常に困難になる。゛〔発明の目的〕 本発明の目的は、薄膜を積層して構成する磁１″気ヘッ
ドに於て、使用する材料の選定の自由度。
を太きくシ、製作を容易にすることにある。 ・〔発明
の櫃要〕 本発明では・基板に凹部な設け・そ０凹部内゛ ｉ
に成膜した磁性膜なパタニング技術により成形・・：し
て所望の形状の下部コアを得、さらに凹部内。
の櫃要〕 本発明では・基板に凹部な設け・そ０凹部内゛ ｉ
に成膜した磁性膜なパタニング技術により成形・・：し
て所望の形状の下部コアを得、さらに凹部内。
の磁性膜が存在しない部分に塘込材を充填して゛平面を
得ることにより、邑初の凹部以外の部分′には基板を露
出させ、以後の工程の成膜を容易。
得ることにより、邑初の凹部以外の部分′には基板を露
出させ、以後の工程の成膜を容易。
にするものである３、
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図から第５図は本発明により薄膜磁気ヘラ・ドな製
造する工程を示す図であり、第１図は基板１に設けた凹
部２を示す図である。凹部の平ｌ・面形状は、所望の下
部コア形状を包含するものであれば任意の形状で良いが
、深さは下部コア。
造する工程を示す図であり、第１図は基板１に設けた凹
部２を示す図である。凹部の平ｌ・面形状は、所望の下
部コア形状を包含するものであれば任意の形状で良いが
、深さは下部コア。
の厚さにほぼ等しくなるため、精度良く加工す。
ることか必要である。また、凹部底面の而粗さ。
が磁性膜の磁気特性に影響するため、而粗さを、、、所
望する磁気特性に対する許容値以下に制御す。
望する磁気特性に対する許容値以下に制御す。
る必要がある。凹部の加工手段は、上記の条件。
を満たせば、機械加工、湿式エツチング、乾式。
エツチング、等のいずれの手段でも良い。第２゜区に機
械加工に適した別の形状の凹部を設けた。、）例を示す
。
械加工に適した別の形状の凹部を設けた。、）例を示す
。
第３図は下部コアｌ￥裏作するーＩ （ｕを７バす断面
図である、１上記のようにして凹部２を設けたλλ板１
」−に磁性膜３を成膜し７（第３図ｔ・）、磁１′１−
膜３」二にホトリソグラフによりエツチング−７、スフ
４を形成しく第３９ｂ ）、湿式または乾式エツチング
により磁性膜３を所望の形状に成形する（第３図Ｃ）。
図である、１上記のようにして凹部２を設けたλλ板１
」−に磁性膜３を成膜し７（第３図ｔ・）、磁１′１−
膜３」二にホトリソグラフによりエツチング−７、スフ
４を形成しく第３９ｂ ）、湿式または乾式エツチング
により磁性膜３を所望の形状に成形する（第３図Ｃ）。
−七の後埋込材５を成膜しく第・５（Ｑｄ）、ラッピン
グ等により上面を平坦化する（第３図ｅ）と、第４図に
示すように凹部内に所望の形状の下部コア３が埋込まれ
た基板を得ることができる。この状態の基板は、上面の
。
グ等により上面を平坦化する（第３図ｅ）と、第４図に
示すように凹部内に所望の形状の下部コア３が埋込まれ
た基板を得ることができる。この状態の基板は、上面の
。
大部分の重連には基板そのものが露出し、当ネυ。
凹部な設けた小部分にのみ磁性膜５と哩込材５゜が存在
するだけであり、以後の工程は基板上に直接成膜するの
とほぼ同じ条＋＋で進めることが。
するだけであり、以後の工程は基板上に直接成膜するの
とほぼ同じ条＋＋で進めることが。
できる。
第４図の基板」二に絶縁材１０．薄膜コイルへ′予体９
゜上部コア６を積層すると、第５図に示す薄膜へ。
゜上部コア６を積層すると、第５図に示す薄膜へ。
ラドな侮ることができる。第５図では、しゆう動面１２
と垂直な方向に断面を取って示して（するみ上記の工程
で、当初設ける凹部に直接磁性膜。
と垂直な方向に断面を取って示して（するみ上記の工程
で、当初設ける凹部に直接磁性膜。
を埋め込むことも考えられるが、その場合には。
凹部の外縁ではステップカッ（−膜を使用するこ。
とになり磁気特性が劣化して好ましくない。
本発明では周辺部のステップカッ（ン膜はエラ・チング
で除去してしまうため、磁気特性の良好な中央部の膜だ
けを用いることができる。 ・第６図は本発明をビ
デオフロッピー用２チヤ・ネルインラインヘッドに応用
した場合の平面図１．）である。本発明は、次に述べる
理由からビデオフロッピー用２チヤネルインラインヘツ
ドに特。
で除去してしまうため、磁気特性の良好な中央部の膜だ
けを用いることができる。 ・第６図は本発明をビ
デオフロッピー用２チヤ・ネルインラインヘッドに応用
した場合の平面図１．）である。本発明は、次に述べる
理由からビデオフロッピー用２チヤネルインラインヘツ
ドに特。
に有効である。
（１） 約４０μｍの間隔でインラインに配置された
２゜個のヘッドでフレーム信号を取扱うため、良ｌ−１
好なチャネルセパレーションが得られないと妨害が発生
する。このため、チャネル間のコ。
２゜個のヘッドでフレーム信号を取扱うため、良ｌ−１
好なチャネルセパレーションが得られないと妨害が発生
する。このため、チャネル間のコ。
アの完全な分離とコアの小形化が必唄である。。
（２） 近接した２チヤネルのヘッドの間にコイル。
パタンを通す必要かあり、後部のコア幅をし、！、）ゆ
う動向付近よりも犬きくする必要がある０、。
う動向付近よりも犬きくする必要がある０、。
したがってコア形状が単純な形にならず、何。
らかの手段で成形が必要である。
（３） 上記（１）、（２）からコア形状の精密な成
形が必゛要である。
形が必゛要である。
第６図中に破線で示した部分が薄膜コイル導体９ハツチ
ング部が基板に設けられた凹部２である。どの例では、
２１１Ｘ２１ｍのチップ中に“［１５ｍｍｘ０．５ｍ程
度の凹部を設ければ良く、下部コアを平坦化した時点の
面積の割合は、基板部・が約９４％に対し磁性膜２％、
埋込材２％程度にすることができる。したがって、上部
の膜に対する埋込材の影響が小さくなり、材料選択の・
自由度が大きくなる。
ング部が基板に設けられた凹部２である。どの例では、
２１１Ｘ２１ｍのチップ中に“［１５ｍｍｘ０．５ｍ程
度の凹部を設ければ良く、下部コアを平坦化した時点の
面積の割合は、基板部・が約９４％に対し磁性膜２％、
埋込材２％程度にすることができる。したがって、上部
の膜に対する埋込材の影響が小さくなり、材料選択の・
自由度が大きくなる。
凹部２を加工する手段に機械加工を用いると、形状の自
由度は小さくなるが別の利点が発生す。
由度は小さくなるが別の利点が発生す。
る。ヘッドのしゆう動向のコア形状に、フロントギャッ
プ７と平行な部分があると、再生周波。
プ７と平行な部分があると、再生周波。
数特性にうねりを発生する。第７図は第６図の。
ヘッドをしゆう動向側から見た図で、矢印がしゆう動方
向を表わす。図から、下部コア３の下。
向を表わす。図から、下部コア３の下。
面と上部コア６の上面がギャップ面と平行にな。
るが、機械加工、たとえばダイシングソーで第・２図の
形状の凹部を作ると、機械加工の精度の・限界から凹部
底面に微小なうねりと傾斜が発生し、下部コア下面はギ
ャップ面と完全な平行に・はならない。上部コアについ
ては別途対策が必・要であるが、下部コアに起因する再
生周波数特。
形状の凹部を作ると、機械加工の精度の・限界から凹部
底面に微小なうねりと傾斜が発生し、下部コア下面はギ
ャップ面と完全な平行に・はならない。上部コアについ
ては別途対策が必・要であるが、下部コアに起因する再
生周波数特。
のうねりは大幅に低減することができる。
〔発明の効果〕７．）
以上に説明したように、本発明によれば、薄。
膜を積層して構成する磁気ヘッドに於て、下部。
コア成形後の平坦化に用いる埋込材の占める面。
積を制限することにより、埋込材の材質選定の。
自由度を大きくし、製作を容易にすることかで１゜きる
０
０
第１図は本発明の一実施例の基板に設けた凹部な示す斜
視図、第２図は別の形状の凹部の例を示す斜視図、第３
図は下部コアの成形工程を示す断面図、第４図は下部コ
ア成形後平坦化し・た状態を示す斜視図、第５図は完成
した薄膜へ・ラドを示す斜視図、第６図はビデオフロッ
ピ用・２チヤネルインラインヘツドのコアおよびコイ。 ルの配置を示す平面図、第７図は第６図のヘッドをしゆ
う動面側から見た正面図である。 １・・・基板 ２・・・凹部 ３・・・下部コア磁性膜 ４・・・エツチングマスク ５・・・埋込材 ６・・・上部コア １．
。 ７・・・フロントギャップ ８・・・リアギャップ ９・・・薄膜コイル導体 １０・・・絶縁膜 代理人弁理士 小 川 膀 男 ２．１、７ 。 第 １ 口 第２１！１ 第３ 口 ２ ゛／ 第４ 朗′） ゝｆ 第、工 歴 ｆｆ？、 ｇ ｌ：↓′） ７Ｊ Ｘ ゛ （、。 第 ７Ｆｌ （冒 ぐ Ｚ ヲ ２
視図、第２図は別の形状の凹部の例を示す斜視図、第３
図は下部コアの成形工程を示す断面図、第４図は下部コ
ア成形後平坦化し・た状態を示す斜視図、第５図は完成
した薄膜へ・ラドを示す斜視図、第６図はビデオフロッ
ピ用・２チヤネルインラインヘツドのコアおよびコイ。 ルの配置を示す平面図、第７図は第６図のヘッドをしゆ
う動面側から見た正面図である。 １・・・基板 ２・・・凹部 ３・・・下部コア磁性膜 ４・・・エツチングマスク ５・・・埋込材 ６・・・上部コア １．
。 ７・・・フロントギャップ ８・・・リアギャップ ９・・・薄膜コイル導体 １０・・・絶縁膜 代理人弁理士 小 川 膀 男 ２．１、７ 。 第 １ 口 第２１！１ 第３ 口 ２ ゛／ 第４ 朗′） ゝｆ 第、工 歴 ｆｆ？、 ｇ ｌ：↓′） ７Ｊ Ｘ ゛ （、。 第 ７Ｆｌ （冒 ぐ Ｚ ヲ ２
Claims (1)
- １、基板に設けた凹部内に、凹部より小さい下部コアを
形成し、上面を平坦化後上部コアを積層して製作したこ
とを特徴とする薄膜ヘッド
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18178385A JPS6243811A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 薄膜ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18178385A JPS6243811A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 薄膜ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6243811A true JPS6243811A (ja) | 1987-02-25 |
Family
ID=16106801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18178385A Pending JPS6243811A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 薄膜ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6243811A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568399U (ja) * | 1992-02-25 | 1993-09-17 | 池田物産株式会社 | 車両用シート |
| DE10103868A1 (de) * | 2001-01-30 | 2002-08-22 | Bosch Gmbh Robert | GMR-Struktur und Verfahren zu deren Herstellung |
-
1985
- 1985-08-21 JP JP18178385A patent/JPS6243811A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568399U (ja) * | 1992-02-25 | 1993-09-17 | 池田物産株式会社 | 車両用シート |
| DE10103868A1 (de) * | 2001-01-30 | 2002-08-22 | Bosch Gmbh Robert | GMR-Struktur und Verfahren zu deren Herstellung |
| US7202544B2 (en) | 2001-01-30 | 2007-04-10 | Robert Bosch Gmbh | Giant magnetoresistance structure |
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