JPS6243832A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6243832A JPS6243832A JP18256685A JP18256685A JPS6243832A JP S6243832 A JPS6243832 A JP S6243832A JP 18256685 A JP18256685 A JP 18256685A JP 18256685 A JP18256685 A JP 18256685A JP S6243832 A JPS6243832 A JP S6243832A
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- magnetic
- layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、非磁性基体上にＣｏ合金からなる磁性層を有
し、磁気記録装置等に用いられる磁気ディスク等の磁気
記録媒体に関する。
し、磁気記録装置等に用いられる磁気ディスク等の磁気
記録媒体に関する。
磁気ディスク装置などに用いられる磁気記録媒体の記録
の高密度化に伴って、磁気記録媒体の磁性層をこれまで
の約１−程度から０．１ ｔｎａ以下に薄くし、保磁力
（ｌｌｃ）も向上させる必要がある。これと共に磁性層
の形成方法も、スピンコード法に代わって薄膜化の容易
なスパッタリングやめっき法が注目され、磁性薄膜の材
料としても従来の鉄酸化物からＣｏ系の合金が使用され
ようとしている。 しかし、合金磁性薄膜が研究されるにつれて、磁気特性
は優れるが耐食性が問題となり、腐食。 磁気特性の劣化がみられるため実用化されていないのが
現状である。耐食性の点からいえば、スパッタリング法
により形成される鉄酸化物磁性薄膜が優れているが、そ
の磁気特性、特に残留磁束密度Ｂｒが低いこと、この製
法の複雑さ、特にスパッタ条件や熱処理などに問題があ
ることなどの欠点をもつ。従ってＣｏ合金磁性層の耐食
性の不足を補うことが望まれる。このために、保護皮膜
を表面 □に形成し、磁性層を保護する方法がと
られる。しかし磁気ヘッドとの潤滑性、保護のための薄
膜状 □態での硬さや緻密性も考慮する必要があ
り、これらを同時に満足する保護皮膜はまだ見られない
。 そこでＣｏ合金にクロムを添加して耐食性を向上さＵ、
保護皮膜と併用して磁気特性お３１、びＮｉ７食性の優
れた磁気記録媒体の開発が進められる。−・般に耐食性
を向−トさせるためにＣｒを添力ｌｌすることは、金属
の分野でよく行われるが、Ｃｒでけでは耐食１？１は向
ｌ−刷るものの、磁気特性の劣化を招きやすい。
の高密度化に伴って、磁気記録媒体の磁性層をこれまで
の約１−程度から０．１ ｔｎａ以下に薄くし、保磁力
（ｌｌｃ）も向上させる必要がある。これと共に磁性層
の形成方法も、スピンコード法に代わって薄膜化の容易
なスパッタリングやめっき法が注目され、磁性薄膜の材
料としても従来の鉄酸化物からＣｏ系の合金が使用され
ようとしている。 しかし、合金磁性薄膜が研究されるにつれて、磁気特性
は優れるが耐食性が問題となり、腐食。 磁気特性の劣化がみられるため実用化されていないのが
現状である。耐食性の点からいえば、スパッタリング法
により形成される鉄酸化物磁性薄膜が優れているが、そ
の磁気特性、特に残留磁束密度Ｂｒが低いこと、この製
法の複雑さ、特にスパッタ条件や熱処理などに問題があ
ることなどの欠点をもつ。従ってＣｏ合金磁性層の耐食
性の不足を補うことが望まれる。このために、保護皮膜
を表面 □に形成し、磁性層を保護する方法がと
られる。しかし磁気ヘッドとの潤滑性、保護のための薄
膜状 □態での硬さや緻密性も考慮する必要があ
り、これらを同時に満足する保護皮膜はまだ見られない
。 そこでＣｏ合金にクロムを添加して耐食性を向上さＵ、
保護皮膜と併用して磁気特性お３１、びＮｉ７食性の優
れた磁気記録媒体の開発が進められる。−・般に耐食性
を向−トさせるためにＣｒを添力ｌｌすることは、金属
の分野でよく行われるが、Ｃｒでけでは耐食１？１は向
ｌ−刷るものの、磁気特性の劣化を招きやすい。
本発明は、Ｃｏ合金磁性層の磁性を低下させないで耐食
性を向１−させることにより、保護皮膜と併用し−Ｃ耐
食性および磁気特性の優れた（ｎ気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
性を向１−させることにより、保護皮膜と併用し−Ｃ耐
食性および磁気特性の優れた（ｎ気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
【発明の要点］
本発明によれば、磁性層がＮＩ＋ Ｃｒ、 Ｍｏを含む
ｃ。 合金よりなることにより、磁性層の耐食性を向」−させ
てＬ記の目的を達成する。このような磁性層はノＦ−磁
性基体−Ｉ−にスパッタリング法によって形成された非
磁性下地層の上に連続して行われるスパッタリング法に
より形成されることが望ましい。 【発明の実施例】 第１図は本発明による磁気記録媒体の部分断面図である
。本発明による磁気記録媒体は、非磁性基板１１−に２
１体表面層２が被ＩＷさね１、）１（体表面層１−にさ
らにＪｌ［ｆ目４金属ド池層３を介Ｌ−（＋５目’を層
４が被覆され、この（イ目７１層とＬ −Ｃ４１介１明
にＩリフ１１］、及びモリブデンを含む＝１パル１ ；
ノリル自岱もイを性薄膜４が用いられる。さらにｍ ！
’Ｐ ＋’！ｖ１１９１に保ＥＷ潤滑層５が被覆されて
構成されている。■気記録媒体の非Ｃｆｌ性）、（＋Ｉ
ｉ、 １としてアル、ミニウＪ、白金基板が良く用いら
れているが、場合によっＣはプ、＞スチソク）Ｓ板を使
用ｔ−ることもｉｉＪ能である。この基板を所定の面Ｉ
１１さ、平行度、平面度じイ１１げた後、基体表面層？
を被覆する。この層は？−ノ’ｙ−ルーりん合金をめっ
きしたものや、アルマイト皮膜が望ましく、一定の硬さ
が必要とされ、表１ｆｉは機械的研磨により鏡面仕トげ
４−る。次にノ１（体表面ＩＭ２のＬにクロムにより代
表される非（イ主性金属（・−地層３がスパッタリング
法等により形成ずろが、り１１１ Ｊ、の他にビスマス
や錫を使用することができる。 この下地層３は金属磁性薄膜４の保（、！タカ（ＩＩ
Ｏを高める作用があり、またこの下地層３の厚さに、ｋ
＝＋ても磁性層４の保磁力が飽和する（１向にあり、
飽和する厚さは材質等によっても大きく異なる。例えば
Ｃｒの場合約７０００人であるが、Ｂｌの場合は５００
人程度である。次に下地層３の一トにＮｉ＋ Ｃｒおよ
びＭｏを含むＣｏからなる磁性層４をスパッタリング法
により形成する。最後に金属磁性薄膜４の上に炭素、５
ＩＯＩ、 ５１３Ｎ４． ＳｉＣなどの保護潤滑皮膜５
をスパッタリング法により被覆する。 Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ−Ｍｏ磁性層の磁気特性は、保磁力（
ｌｌｃ）３００〜１００００ｓ、残留磁束密度（Ｂｒ）
４５０（１〜９５００Ｇｓ。 保磁力角形比（Ｓ”）０．７〜０．９の範囲にあり、Ｃ
ｒおよびＭｏの量により大きく変化する。Ｃｏ−Ｎｉ合
金磁性薄膜では約３０原子％Ｎｉ近辺で最大の保磁力を
示し、Ｃｏ−３０原子％Ｎｉ合金磁性薄膜にＣｒを添加
した場合、約８原子％Ｃｒ近辺で最大の保磁力を示す。 さらにこの合金薄膜にＭｏを添加することにより、４原
子％Ｍｏ近辺で最大の保磁力を示しており、この結果か
らＭｏとして２〜８原子％の範囲で高密度記録が可能な
磁気記録媒体として使用できることが知られた。 以下実施例および比較例を挙げ、それらの試験結果を述
べる。 実施例１： 非磁性基板１として、旋盤加工及び加圧焼鈍により、十
分小さな、すなわち円周、半径方向共に２０ｎ以下のう
ねりをもつ面に仕トげられたディスク状アルミニウム円
板上に基体表面層２としてＮ１−Ｐ合金を無電解めっき
法にて約３０ｐの厚さまで形成し、この後Ｎ１−Ｐめっ
き膜を平均表面粗さ０．０２廂。 厚さ１５−まで鏡面研磨仕上げをして非磁性基体を作製
した。この非磁性基体の上に下地層３として成した後、
最後に表面保護潤滑層としてＣを５００人の厚さにスパ
ッタリング法により被覆して磁気ディスク媒体を作製し
た。磁気特性の保磁力Ｈｃ。 残留磁束密度Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ、 ９５００Ｇ
ｓであった。 実施例２： 実施例１と同様にして非磁性基体を作製した後、その非
磁性基体上に下地層にしてＢｉを５００人、続けて磁性
層としてＣｏ−３０％Ｎｉ−８％Ｃｒ−４％Ｍｏ −合
金を６００人の厚さに、最後に表面保護潤滑層としてＳ
ＩＯ□を５００人の厚さにそれぞれスパッタリング法に
より連続形成して磁気ディスク媒体を作製したｅ ｔｉ
ｃ、Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ、 ９５００Ｇｓであっ
た。 比較例１： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を５０００人
として、さらに磁性層４をＣｏのみとして、連続スパッ
タリング法により磁気ディスク媒体を作製した。ｌｌｃ
、Ｂｒはそれぞれ６０００ｅ、 ｌ１００ＯＧｓであっ
た。 比較例２： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を２０００人
として、さらに磁性Ｍ４をＣｏ−３０％Ｎ１合金にして
連続スパッタリング法により（ｎ気ディスク媒体を作製
した。）ｌｃ、Ｂｒはそれぞれ６５００ｅ、 ｌ１００
ＯＧｓであった。 比較例３： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を１０００人
として、さらに磁性層４をＣｏ−３０％Ｎ＋−８％Ｃｒ
合金にして連続スパッタリング法により磁気ディスク媒
体を作製した。Ｉｌｃ、Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ。 ９５００Ｇｓであった。 比較例４： 実施例１と同様であるが、下地Ｎ３としてＣｒを形成し
た後、一度スバッタリング槽に空気を導入し、再び真空
に引き、所定のスパッタリングガス圧にしてから磁性層
４にしてＧｏ −３０％Ｎ＋−８％Ｃｒ４％Ｍｏ合金を
下地Ｎ３の上にスパッタした。その後再びスパッタリン
グ槽内に空気を入れ、さらに真空引きをし、所定のスパ
ッタガス圧にした後、磁性層４の上に保護潤滑層５とし
てＣ膜をスパッタし、磁気ディスク媒体を作製した。各
層の膜厚は実施例１と同じとした。Ｈｃ、 Ｂｒはそれ
ぞれ２０００ｅ、 ８０００Ｇｓであった。 実施例１と比較例４かられかるように下地層３をスパッ
タしてから磁性層４をスパッタするまでに大気にさらす
ことにより、下地層の効果が薄れ、保持力が７００（ｌ
ｅから２００［１ｅに低下する。このことは下地層３と
スパッタした後、大気にさらさなくてもスパッタリング
槽内に長時間放置した場合と同様である。 第２図は実施例１および比較例１〜３の下地層の厚さを
変えた場合の保持力の変化を示し、本発明の実施例では
Ｃｒの厚さの増加により飽和する保磁力の値が比較例に
比して高く、このことは磁気記録媒体を作製するために
下地層の厚さを薄くしてその形成時間を短く抑え、安定
した磁気特性が得られることを示す。 実施例および比較例によって得られた磁気記録媒体を、
実際の磁気ディスク装置に組込んでＣ８Ｓ試験および環
境試験を行った場合に、実施例の媒体ではディスク表面
に傷の発生が見られず、また再生出力の低下も少なく十
分耐久性のあることがわかった。しかし比較例４の媒体
では表面に傷が発生した。環境試験は、２５℃水中に浸
漬して磁気ディスク媒体としてのエラー個数の変化をみ
たもので、第３図に示した通りエラーの発生数からみて
も本発明の実施例の媒体は十分耐食性のあることが分か
った。 【発明の効果］ 本発明は、非磁性基体上にＣｒおよびＭｏを添加したＣ
ｏ−Ｎ１合金連続薄膜（ｎ性層とさらにその上に保護潤
滑層を設けるもので、特に下地層を介して連続スパッタ
リングにより形成される磁性層自体が優れた磁気特性と
耐食性を有しているので、耐久性のある磁気特性の優れ
た磁気記録媒体が得られる。さらに下地層の厚さを従来
より薄く抑えることができるため、より安価な磁気記録
媒体の作製が可能となる。
ｃ。 合金よりなることにより、磁性層の耐食性を向」−させ
てＬ記の目的を達成する。このような磁性層はノＦ−磁
性基体−Ｉ−にスパッタリング法によって形成された非
磁性下地層の上に連続して行われるスパッタリング法に
より形成されることが望ましい。 【発明の実施例】 第１図は本発明による磁気記録媒体の部分断面図である
。本発明による磁気記録媒体は、非磁性基板１１−に２
１体表面層２が被ＩＷさね１、）１（体表面層１−にさ
らにＪｌ［ｆ目４金属ド池層３を介Ｌ−（＋５目’を層
４が被覆され、この（イ目７１層とＬ −Ｃ４１介１明
にＩリフ１１］、及びモリブデンを含む＝１パル１ ；
ノリル自岱もイを性薄膜４が用いられる。さらにｍ ！
’Ｐ ＋’！ｖ１１９１に保ＥＷ潤滑層５が被覆されて
構成されている。■気記録媒体の非Ｃｆｌ性）、（＋Ｉ
ｉ、 １としてアル、ミニウＪ、白金基板が良く用いら
れているが、場合によっＣはプ、＞スチソク）Ｓ板を使
用ｔ−ることもｉｉＪ能である。この基板を所定の面Ｉ
１１さ、平行度、平面度じイ１１げた後、基体表面層？
を被覆する。この層は？−ノ’ｙ−ルーりん合金をめっ
きしたものや、アルマイト皮膜が望ましく、一定の硬さ
が必要とされ、表１ｆｉは機械的研磨により鏡面仕トげ
４−る。次にノ１（体表面ＩＭ２のＬにクロムにより代
表される非（イ主性金属（・−地層３がスパッタリング
法等により形成ずろが、り１１１ Ｊ、の他にビスマス
や錫を使用することができる。 この下地層３は金属磁性薄膜４の保（、！タカ（ＩＩ
Ｏを高める作用があり、またこの下地層３の厚さに、ｋ
＝＋ても磁性層４の保磁力が飽和する（１向にあり、
飽和する厚さは材質等によっても大きく異なる。例えば
Ｃｒの場合約７０００人であるが、Ｂｌの場合は５００
人程度である。次に下地層３の一トにＮｉ＋ Ｃｒおよ
びＭｏを含むＣｏからなる磁性層４をスパッタリング法
により形成する。最後に金属磁性薄膜４の上に炭素、５
ＩＯＩ、 ５１３Ｎ４． ＳｉＣなどの保護潤滑皮膜５
をスパッタリング法により被覆する。 Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ−Ｍｏ磁性層の磁気特性は、保磁力（
ｌｌｃ）３００〜１００００ｓ、残留磁束密度（Ｂｒ）
４５０（１〜９５００Ｇｓ。 保磁力角形比（Ｓ”）０．７〜０．９の範囲にあり、Ｃ
ｒおよびＭｏの量により大きく変化する。Ｃｏ−Ｎｉ合
金磁性薄膜では約３０原子％Ｎｉ近辺で最大の保磁力を
示し、Ｃｏ−３０原子％Ｎｉ合金磁性薄膜にＣｒを添加
した場合、約８原子％Ｃｒ近辺で最大の保磁力を示す。 さらにこの合金薄膜にＭｏを添加することにより、４原
子％Ｍｏ近辺で最大の保磁力を示しており、この結果か
らＭｏとして２〜８原子％の範囲で高密度記録が可能な
磁気記録媒体として使用できることが知られた。 以下実施例および比較例を挙げ、それらの試験結果を述
べる。 実施例１： 非磁性基板１として、旋盤加工及び加圧焼鈍により、十
分小さな、すなわち円周、半径方向共に２０ｎ以下のう
ねりをもつ面に仕トげられたディスク状アルミニウム円
板上に基体表面層２としてＮ１−Ｐ合金を無電解めっき
法にて約３０ｐの厚さまで形成し、この後Ｎ１−Ｐめっ
き膜を平均表面粗さ０．０２廂。 厚さ１５−まで鏡面研磨仕上げをして非磁性基体を作製
した。この非磁性基体の上に下地層３として成した後、
最後に表面保護潤滑層としてＣを５００人の厚さにスパ
ッタリング法により被覆して磁気ディスク媒体を作製し
た。磁気特性の保磁力Ｈｃ。 残留磁束密度Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ、 ９５００Ｇ
ｓであった。 実施例２： 実施例１と同様にして非磁性基体を作製した後、その非
磁性基体上に下地層にしてＢｉを５００人、続けて磁性
層としてＣｏ−３０％Ｎｉ−８％Ｃｒ−４％Ｍｏ −合
金を６００人の厚さに、最後に表面保護潤滑層としてＳ
ＩＯ□を５００人の厚さにそれぞれスパッタリング法に
より連続形成して磁気ディスク媒体を作製したｅ ｔｉ
ｃ、Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ、 ９５００Ｇｓであっ
た。 比較例１： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を５０００人
として、さらに磁性層４をＣｏのみとして、連続スパッ
タリング法により磁気ディスク媒体を作製した。ｌｌｃ
、Ｂｒはそれぞれ６０００ｅ、 ｌ１００ＯＧｓであっ
た。 比較例２： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を２０００人
として、さらに磁性Ｍ４をＣｏ−３０％Ｎ１合金にして
連続スパッタリング法により（ｎ気ディスク媒体を作製
した。）ｌｃ、Ｂｒはそれぞれ６５００ｅ、 ｌ１００
ＯＧｓであった。 比較例３： 実施例１と同様であるが、Ｃｒ層３の膜厚を１０００人
として、さらに磁性層４をＣｏ−３０％Ｎ＋−８％Ｃｒ
合金にして連続スパッタリング法により磁気ディスク媒
体を作製した。Ｉｌｃ、Ｂｒはそれぞれ７０００ｅ。 ９５００Ｇｓであった。 比較例４： 実施例１と同様であるが、下地Ｎ３としてＣｒを形成し
た後、一度スバッタリング槽に空気を導入し、再び真空
に引き、所定のスパッタリングガス圧にしてから磁性層
４にしてＧｏ −３０％Ｎ＋−８％Ｃｒ４％Ｍｏ合金を
下地Ｎ３の上にスパッタした。その後再びスパッタリン
グ槽内に空気を入れ、さらに真空引きをし、所定のスパ
ッタガス圧にした後、磁性層４の上に保護潤滑層５とし
てＣ膜をスパッタし、磁気ディスク媒体を作製した。各
層の膜厚は実施例１と同じとした。Ｈｃ、 Ｂｒはそれ
ぞれ２０００ｅ、 ８０００Ｇｓであった。 実施例１と比較例４かられかるように下地層３をスパッ
タしてから磁性層４をスパッタするまでに大気にさらす
ことにより、下地層の効果が薄れ、保持力が７００（ｌ
ｅから２００［１ｅに低下する。このことは下地層３と
スパッタした後、大気にさらさなくてもスパッタリング
槽内に長時間放置した場合と同様である。 第２図は実施例１および比較例１〜３の下地層の厚さを
変えた場合の保持力の変化を示し、本発明の実施例では
Ｃｒの厚さの増加により飽和する保磁力の値が比較例に
比して高く、このことは磁気記録媒体を作製するために
下地層の厚さを薄くしてその形成時間を短く抑え、安定
した磁気特性が得られることを示す。 実施例および比較例によって得られた磁気記録媒体を、
実際の磁気ディスク装置に組込んでＣ８Ｓ試験および環
境試験を行った場合に、実施例の媒体ではディスク表面
に傷の発生が見られず、また再生出力の低下も少なく十
分耐久性のあることがわかった。しかし比較例４の媒体
では表面に傷が発生した。環境試験は、２５℃水中に浸
漬して磁気ディスク媒体としてのエラー個数の変化をみ
たもので、第３図に示した通りエラーの発生数からみて
も本発明の実施例の媒体は十分耐食性のあることが分か
った。 【発明の効果］ 本発明は、非磁性基体上にＣｒおよびＭｏを添加したＣ
ｏ−Ｎ１合金連続薄膜（ｎ性層とさらにその上に保護潤
滑層を設けるもので、特に下地層を介して連続スパッタ
リングにより形成される磁性層自体が優れた磁気特性と
耐食性を有しているので、耐久性のある磁気特性の優れ
た磁気記録媒体が得られる。さらに下地層の厚さを従来
より薄く抑えることができるため、より安価な磁気記録
媒体の作製が可能となる。
第１図は本発明の一実施例の部分断面図、第２図は本発
明の実施例および比較例の磁性ｒ＃膜の下地層厚さによ
る保持力の変化を示す線図、第３図は本発明の実施例お
よび比較例の環境試験におけるエラー数の変化を示す線
図である。 １：非磁性基板、２；基体表面層、３：非磁性金属下地
層、４ ： Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ−Ｍｏ合金（イ支性層、
５：保護潤滑層。 イ質人弁理士 山 口 京
明の実施例および比較例の磁性ｒ＃膜の下地層厚さによ
る保持力の変化を示す線図、第３図は本発明の実施例お
よび比較例の環境試験におけるエラー数の変化を示す線
図である。 １：非磁性基板、２；基体表面層、３：非磁性金属下地
層、４ ： Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ−Ｍｏ合金（イ支性層、
５：保護潤滑層。 イ質人弁理士 山 口 京
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）保護皮膜で覆われたＣｏ合金磁性層を有するものに
おいて、磁性層がＮｉ、Ｃｒ、Ｍｏを含むＣｏ合金より
なることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、磁性層
が非磁性基体上にスパッタリング法によって形成された
非磁性下地層の上に連続して行われるスパッタリング法
によって形成されたことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18256685A JPS6243832A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18256685A JPS6243832A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6243832A true JPS6243832A (ja) | 1987-02-25 |
Family
ID=16120515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18256685A Pending JPS6243832A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6243832A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61230851A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-15 | Shibayama Kikai Kk | 研削盤におけるウエハのポリツシング装置 |
| JPS61257749A (ja) * | 1985-05-08 | 1986-11-15 | Shibayama Kikai Kk | 半導体ウエハの自動平面研削盤における揺動スピンドル軸 |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP18256685A patent/JPS6243832A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61230851A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-15 | Shibayama Kikai Kk | 研削盤におけるウエハのポリツシング装置 |
| JPS61257749A (ja) * | 1985-05-08 | 1986-11-15 | Shibayama Kikai Kk | 半導体ウエハの自動平面研削盤における揺動スピンドル軸 |
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