JPS62149024A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS62149024A JPS62149024A JP28973985A JP28973985A JPS62149024A JP S62149024 A JPS62149024 A JP S62149024A JP 28973985 A JP28973985 A JP 28973985A JP 28973985 A JP28973985 A JP 28973985A JP S62149024 A JPS62149024 A JP S62149024A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術７１）野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
近年磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの磁気
記録媒体は、゛ますます高記録密度となる頌同にあり、
これに伴い磁気記録媒体の磁性層の１ｊｑｉＶ ＆従来
の約１μｍ程度から０．１μｍ以丁まで薄くし、保磁力
（Ｈｅ）もよシ高くする必要がある。そのため磁気記録
媒体の製造方法もサブミクロンオーダでは磁性層の４々
厚が不均一になるスピンコード法に代って、均一な薄膜
を容易に形成することがａＴ徒なスパッタ法やメッキ法
か注目されるとともに、従来の鉄酸化物例えば１− Ｆ
ｅｚｅｓの磁１’ｌＥ’ｔ！ば、その磁気特注、特に残
＊磁束密度が小さく出力が低いということから、磁性層
としてスパッタ法によって形成されるコバルｌ−（Ｃｏ
ｌ系合令例えばコバルト−ニッケル（Ｎｉ ）合金磁性
薄膜が使用されるようになった。Ｎ１含何寸の範囲Ｈ２
０〜３ｏａｔ Ｘがよいことが知られている。
記録媒体は、゛ますます高記録密度となる頌同にあり、
これに伴い磁気記録媒体の磁性層の１ｊｑｉＶ ＆従来
の約１μｍ程度から０．１μｍ以丁まで薄くし、保磁力
（Ｈｅ）もよシ高くする必要がある。そのため磁気記録
媒体の製造方法もサブミクロンオーダでは磁性層の４々
厚が不均一になるスピンコード法に代って、均一な薄膜
を容易に形成することがａＴ徒なスパッタ法やメッキ法
か注目されるとともに、従来の鉄酸化物例えば１− Ｆ
ｅｚｅｓの磁１’ｌＥ’ｔ！ば、その磁気特注、特に残
＊磁束密度が小さく出力が低いということから、磁性層
としてスパッタ法によって形成されるコバルｌ−（Ｃｏ
ｌ系合令例えばコバルト−ニッケル（Ｎｉ ）合金磁性
薄膜が使用されるようになった。Ｎ１含何寸の範囲Ｈ２
０〜３ｏａｔ Ｘがよいことが知られている。
哨６図に例えばＣｏ−Ｎｉ合金（滋：′も薄膜の磁性・
督を備えたディスク状磁気記録媒体の要部構成断面図を
示す。
督を備えたディスク状磁気記録媒体の要部構成断面図を
示す。
第６図の磁気記録媒体は合金基板１上に非磁性基体層２
を被覆し、この非磁性基体層２の上に、さらに非磁性金
属下地層３を介してＣｏ −Ｎｉ合金薄膜の磁性層４ａ
を破覆し、磁性層４ａ上に保Ｊ１潤滑膜５を被覆したも
のである。
を被覆し、この非磁性基体層２の上に、さらに非磁性金
属下地層３を介してＣｏ −Ｎｉ合金薄膜の磁性層４ａ
を破覆し、磁性層４ａ上に保Ｊ１潤滑膜５を被覆したも
のである。
このように構成された磁気記録媒体の合金基板１にはア
ルミニウム合金が多用されているが、場合によってはプ
ラスチックを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度およ
び平面度に仕上げられる。
ルミニウム合金が多用されているが、場合によってはプ
ラスチックを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度およ
び平面度に仕上げられる。
非磁性基体層２はニッケルーりん（Ｎｉ −Ｐ）合金を
無？！屏メッキしたもの、もしくは基板ｌ自体をアルマ
イト処理して得たものが好ましく、いずれも所定の硬さ
を必要とし、表面は機械的研・暦により鏡面仕上げを行
なう。非磁性金属下地層３は一般にクロム（Ｃｒ）を用
いてスパッタ法などにより形成する。この下地層３はＣ
ｏ −Ｎｉ合金薄膜磁性層４ａの保磁力（Ｈｃ）を寓め
る作用をもつものであり、下地層３の厚さによっても磁
性層４ａの保磁力が変化する。下地層３はｌ漠１享の増
加とともに磁１生層４ａの保磁力を飽和させる傾向があ
り、その保磁力を飽和させる下地層３の膜厚は材料によ
って犬きく異なる。したがって実用的な磁気記録媒体を
作製するときは下地層３の膜厚はあまり１＄くすること
なく薄膜の形成時間を短かくし適当な保磁力を磁性層４
ａに付与するようにしている。下地ノー３に磁性層４ａ
をスパッタにより形成した後、引続き最後にカーボンも
しくは二酸化珪素（ＳｉＯ２）などの保ｊ潤清膜５を連
続して被覆する。
無？！屏メッキしたもの、もしくは基板ｌ自体をアルマ
イト処理して得たものが好ましく、いずれも所定の硬さ
を必要とし、表面は機械的研・暦により鏡面仕上げを行
なう。非磁性金属下地層３は一般にクロム（Ｃｒ）を用
いてスパッタ法などにより形成する。この下地層３はＣ
ｏ −Ｎｉ合金薄膜磁性層４ａの保磁力（Ｈｃ）を寓め
る作用をもつものであり、下地層３の厚さによっても磁
性層４ａの保磁力が変化する。下地層３はｌ漠１享の増
加とともに磁１生層４ａの保磁力を飽和させる傾向があ
り、その保磁力を飽和させる下地層３の膜厚は材料によ
って犬きく異なる。したがって実用的な磁気記録媒体を
作製するときは下地層３の膜厚はあまり１＄くすること
なく薄膜の形成時間を短かくし適当な保磁力を磁性層４
ａに付与するようにしている。下地ノー３に磁性層４ａ
をスパッタにより形成した後、引続き最後にカーボンも
しくは二酸化珪素（ＳｉＯ２）などの保ｊ潤清膜５を連
続して被覆する。
以上のようにして得られるＣｏ −Ｎｉ合金薄膜をスパ
ッタ法により形成した磁性層をもつ磁気記録媒体は良好
な磁気特性を示すという点で有効なものである。しかし
ながら、このＣｏ −Ｎｉ合金薄膜についてその後の研
究が進むにつれて、初期の磁気特性はすぐれているが、
薄膜磁性層自体の耐食性が十分でないために、使用され
る環境によっては遂には磁気特性の劣化を起こすことが
わかった。
ッタ法により形成した磁性層をもつ磁気記録媒体は良好
な磁気特性を示すという点で有効なものである。しかし
ながら、このＣｏ −Ｎｉ合金薄膜についてその後の研
究が進むにつれて、初期の磁気特性はすぐれているが、
薄膜磁性層自体の耐食性が十分でないために、使用され
る環境によっては遂には磁気特性の劣化を起こすことが
わかった。
これに対して種々な対策も試みられている。その一つは
耐食性という点からみれば鉄酸化物は周囲環境に対して
安定しているから、例えばγ−Ｆｅ２Ｏ３をスパッタに
よって薄膜化するのがよいが、その反面前述のように鉄
酸化膜は磁気特性のとくに残留磁束密度が低く、シかも
鉄酸化物をスパッタ法により薄膜として形成するにはス
パッタ条件や熱処理など複雑な手順を要するので間隠点
が多く好ましくない。第２の対策は例えば金属材料の分
野で屡々行なわれているよ・）にクロム（Ｃｒ） を添
加することによって耐食性全向上させるという手法を利
用することであるが、ＣＯ系合金にＣｒを単独添加して
も耐食性は向上するものの、逆に磁気特注が低Ｆするの
を避けることができない。第３の対策として、Ｃｏ −
Ｎｉ合金薄膜の表面に周囲環境の影響を完全に遮断する
ことのできる保護膜を形成することも効果的とみられる
が、磁気ヘッドとの潤滑性や薄膜状の保護膜に必要な硬
さやｅ密ｌ生を保持することなどを同時に満足する保護
膜は末だ見られない。
耐食性という点からみれば鉄酸化物は周囲環境に対して
安定しているから、例えばγ−Ｆｅ２Ｏ３をスパッタに
よって薄膜化するのがよいが、その反面前述のように鉄
酸化膜は磁気特性のとくに残留磁束密度が低く、シかも
鉄酸化物をスパッタ法により薄膜として形成するにはス
パッタ条件や熱処理など複雑な手順を要するので間隠点
が多く好ましくない。第２の対策は例えば金属材料の分
野で屡々行なわれているよ・）にクロム（Ｃｒ） を添
加することによって耐食性全向上させるという手法を利
用することであるが、ＣＯ系合金にＣｒを単独添加して
も耐食性は向上するものの、逆に磁気特注が低Ｆするの
を避けることができない。第３の対策として、Ｃｏ −
Ｎｉ合金薄膜の表面に周囲環境の影響を完全に遮断する
ことのできる保護膜を形成することも効果的とみられる
が、磁気ヘッドとの潤滑性や薄膜状の保護膜に必要な硬
さやｅ密ｌ生を保持することなどを同時に満足する保護
膜は末だ見られない。
これらのことから、磁気記録媒体にスパッタ法により形
成される磁性層は、１ｔｉｉ漠には補助的な効果を期待
し、従来相反関係にあるとみなされていた磁気特性と耐
食性を両立させたすぐれたものを開発する必要がある。
成される磁性層は、１ｔｉｉ漠には補助的な効果を期待
し、従来相反関係にあるとみなされていた磁気特性と耐
食性を両立させたすぐれたものを開発する必要がある。
本発明は上述の点に着みてなされたものであシ、その目
的はＣＯ系合金の磁気特性を損うことなく、耐食性も向
上した薄膜磁性層を形成した磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
的はＣＯ系合金の磁気特性を損うことなく、耐食性も向
上した薄膜磁性層を形成した磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
本発明は不活性ガス雰囲気中でアルミニウム基板上のＮ
１−Ｐ層の上に連続的にスパッタして形成したド地層、
磁性層および１呆ｉｎ潤滑１漠からなる債１−薄膜の磁
性層として、ランタン（Ｌａ）をｌａ ＋Ｉｔ含有した
Ｃｏ −Ｎｉ合金磁性薄模を形成することにより達せら
れる。
１−Ｐ層の上に連続的にスパッタして形成したド地層、
磁性層および１呆ｉｎ潤滑１漠からなる債１−薄膜の磁
性層として、ランタン（Ｌａ）をｌａ ＋Ｉｔ含有した
Ｃｏ −Ｎｉ合金磁性薄模を形成することにより達せら
れる。
以Ｆ＄発明を実施例に基づき説明する。
第１図に本発明により得られたｉｉａ ＝；ｄ記録媒体
の要部構成断面図金示し第６１図と共・市部分全同−符
号で表わしである。＠１図は＠６図と基本的な構成は同
じであるが、第１図が第６図と異なる点は磁性層４にＣ
ｏ −Ｎｉ −Ｌａ合金薄膜を用いた所にある。
の要部構成断面図金示し第６１図と共・市部分全同−符
号で表わしである。＠１図は＠６図と基本的な構成は同
じであるが、第１図が第６図と異なる点は磁性層４にＣ
ｏ −Ｎｉ −Ｌａ合金薄膜を用いた所にある。
まず非磁性合金基板１として旋盤加工および加圧焼純に
よシ、十分に小さなうねり、すなわち円周・半径方向と
も２０μｍ以下の而に仕上げたディスク状アルミニウム
板を用い、この上にＮｉ −Ｐ合金の無電解メッキを約
３０μｍの厚さに被膜し、メッキ被膜を平均表面粗さ帆
０２μｍ、厚さ１５μｍまで虎面仕上げを行なうことに
よシ非磁性基体２を形成する。次いで非磁性基体２の上
に非磁性金属下地層３としてＣｒをスパッタして形成す
るがＣｒ膜の厚さは前述のように磁性Ｉｉｉ ４の磁気
特性に影響を与えるので０．１μｍ間隔で０．８μｍま
で変化させた。下地層３を形成した後、Ｉ［ちに引続き
同じスパッタ槽内で磁性層４として本発明によるＣｏ−
３０ａｔ％Ｎｉ −Ｌａ合金をスパッタによシ下地層３
の上に５０ＯＡの厚さに設けた。この磁性合金薄膜につ
いてはＬａを添加する効果を明らかにするため、Ｌａ含
有量を５ａｔＸおきに１５ ａｔ％まで変えたものを作
製した。この際、下地層３に続いて磁性＋４４をスパッ
タするまでにあまりに長い時間スパッタ省内に放Ｒした
り、大気に曝したりすると、下地層３の効果を発揮する
ことができず、磁性１＆ ４の必要とする大きな保磁力
が得られなくなる。例えば下地層３を形成した後、大気
に曝して磁性層４をその上く形成した場合、磁性層４の
保磁力は僅か２０００ｅにしかならない。これはスパッ
タ槽内に長時間放置したときも同様の結果となるから、
下地層３の形成後は直ちに磁性層４のスパッタを実施し
なければならない。最後に表面保護潤滑膜５としてカー
ボンをスパッタして膜厚５００ Ａに形成することＫよ
り、この磁気記録媒体を作製した。
よシ、十分に小さなうねり、すなわち円周・半径方向と
も２０μｍ以下の而に仕上げたディスク状アルミニウム
板を用い、この上にＮｉ −Ｐ合金の無電解メッキを約
３０μｍの厚さに被膜し、メッキ被膜を平均表面粗さ帆
０２μｍ、厚さ１５μｍまで虎面仕上げを行なうことに
よシ非磁性基体２を形成する。次いで非磁性基体２の上
に非磁性金属下地層３としてＣｒをスパッタして形成す
るがＣｒ膜の厚さは前述のように磁性Ｉｉｉ ４の磁気
特性に影響を与えるので０．１μｍ間隔で０．８μｍま
で変化させた。下地層３を形成した後、Ｉ［ちに引続き
同じスパッタ槽内で磁性層４として本発明によるＣｏ−
３０ａｔ％Ｎｉ −Ｌａ合金をスパッタによシ下地層３
の上に５０ＯＡの厚さに設けた。この磁性合金薄膜につ
いてはＬａを添加する効果を明らかにするため、Ｌａ含
有量を５ａｔＸおきに１５ ａｔ％まで変えたものを作
製した。この際、下地層３に続いて磁性＋４４をスパッ
タするまでにあまりに長い時間スパッタ省内に放Ｒした
り、大気に曝したりすると、下地層３の効果を発揮する
ことができず、磁性１＆ ４の必要とする大きな保磁力
が得られなくなる。例えば下地層３を形成した後、大気
に曝して磁性層４をその上く形成した場合、磁性層４の
保磁力は僅か２０００ｅにしかならない。これはスパッ
タ槽内に長時間放置したときも同様の結果となるから、
下地層３の形成後は直ちに磁性層４のスパッタを実施し
なければならない。最後に表面保護潤滑膜５としてカー
ボンをスパッタして膜厚５００ Ａに形成することＫよ
り、この磁気記録媒体を作製した。
次に以上のごとぐして得られた磁気記録媒体の諸物件に
ついて述べる。
ついて述べる。
第２図（ａ）〜（ｄ）は磁性層４として設けたＣｏ −
３０ａｔ ％ Ｎｉ −Ｌａ合金のＬａ含有量を変えた
ときの磁気特性との関係を示した線図であり、いずれも
横軸を５ａｔ％間隔でＬａ含有址とし、縦軸を磁気特性
としてプロットしたものである。すなわち、Ｌａ含有量
に対して第２図（ａ）は保磁力、第２図（ｂ）は角形比
（Ｓ）および保持力角形比（Ｓ“）、涯；２図（Ｃ）は
残留磁束密度（Ｂｒ Ｐｇ厚（δ）との積、第２図（ｄ
）は飽和磁束密度（Ｂｓ）と膜厚（δ）との積の関係線
図である。ただし、このときその他の条件ｄ全で同じに
設定してあり、いずれもＲＦスパッタ装・崖を用いて出
力ｓｏｏ ｗ 、全ガス圧４．Ｏｘ １０ Ｔｏｒｒ
、基板温度は室温である。なお下地層３のＣｒの膜厚ば
すべて３００ＯＡとした。
３０ａｔ ％ Ｎｉ −Ｌａ合金のＬａ含有量を変えた
ときの磁気特性との関係を示した線図であり、いずれも
横軸を５ａｔ％間隔でＬａ含有址とし、縦軸を磁気特性
としてプロットしたものである。すなわち、Ｌａ含有量
に対して第２図（ａ）は保磁力、第２図（ｂ）は角形比
（Ｓ）および保持力角形比（Ｓ“）、涯；２図（Ｃ）は
残留磁束密度（Ｂｒ Ｐｇ厚（δ）との積、第２図（ｄ
）は飽和磁束密度（Ｂｓ）と膜厚（δ）との積の関係線
図である。ただし、このときその他の条件ｄ全で同じに
設定してあり、いずれもＲＦスパッタ装・崖を用いて出
力ｓｏｏ ｗ 、全ガス圧４．Ｏｘ １０ Ｔｏｒｒ
、基板温度は室温である。なお下地層３のＣｒの膜厚ば
すべて３００ＯＡとした。
第２図（ａ）〜（ｄ）かられかるようにＬａ含有ｔｔに
対して最も大きく変る磁気特性は（８１図のＨｅであっ
て、磁気記録媒体として有効な９０００ｓ以上の得られ
るＬａ含有准の範囲は０．５〜１２．５ ＋ｔｔ％であ
１）１００００ｅを超える最も好ましい範囲は２〜１１
ａｔ ９ｆ；である。
対して最も大きく変る磁気特性は（８１図のＨｅであっ
て、磁気記録媒体として有効な９０００ｓ以上の得られ
るＬａ含有准の範囲は０．５〜１２．５ ＋ｔｔ％であ
１）１００００ｅを超える最も好ましい範囲は２〜１１
ａｔ ９ｆ；である。
この範囲のＬａ含有量についてろると（Ｃ）図のＢｒ・
δ。
δ。
（ｄ）図のＢｓ・δはいずれも低下の何「向にある。し
かしこの程度の低下は磁気特性の上でとくに問題となる
ことはない。
かしこの程度の低下は磁気特性の上でとくに問題となる
ことはない。
次に下地層３として設けたＣｒ被膜の厚さに対する磁性
層４のＨＣの変化を第３図の線図に示す。この場合は磁
性層４は前述の第２図（ａ）の結果に基づきＣｏ −３
０ａｔ ′ＸＮｉ −５ａｔ％Ｌａを選び、その他の条
件も一定とし九第３図において横軸は０．１μｍ間隔に
目盛ったＣｒ被膜の厚さ、縦軸に磁性層４のＨｃとして
示しであるが、第３図ではほかに二つの比較例を併記し
本発明と従来例とを対比させ本発明の有効性を明らかに
している。
層４のＨＣの変化を第３図の線図に示す。この場合は磁
性層４は前述の第２図（ａ）の結果に基づきＣｏ −３
０ａｔ ′ＸＮｉ −５ａｔ％Ｌａを選び、その他の条
件も一定とし九第３図において横軸は０．１μｍ間隔に
目盛ったＣｒ被膜の厚さ、縦軸に磁性層４のＨｃとして
示しであるが、第３図ではほかに二つの比較例を併記し
本発明と従来例とを対比させ本発明の有効性を明らかに
している。
比較例１の磁気記録媒体の製造方法は上述の実施例の場
合と全く同様であるが、磁性層がＣｏ単独の薄膜である
点のみが異なり、比較例２では同様に磁性層をＣｏ −
３０ａｔ写Ｎｉの薄膜としＬａを添加してないものであ
る。
合と全く同様であるが、磁性層がＣｏ単独の薄膜である
点のみが異なり、比較例２では同様に磁性層をＣｏ −
３０ａｔ写Ｎｉの薄膜としＬａを添加してないものであ
る。
第３図から本発明に深るＣｏ −３０ａｔ％Ｎｉ−５ａ
ｔ琴Ｌａの磁性ｌａは下地のＣｒ液膜によりＨｅを高く
する効果が顕著であり、Ｃｒ ｉｉ蓮、ＩＶ ０ 、３
μｍ以上でＨｃが大きな値で飽和に達することがわかる
。これ果が明瞭である。″また下地層３はＣｒの代りに
Ｂｉを用いることができるが、Ｂｊの膜１ｇを５００
Ａ程度とすることによシ、Ｃｒの場合と同様の効果が得
られる。
ｔ琴Ｌａの磁性ｌａは下地のＣｒ液膜によりＨｅを高く
する効果が顕著であり、Ｃｒ ｉｉ蓮、ＩＶ ０ 、３
μｍ以上でＨｃが大きな値で飽和に達することがわかる
。これ果が明瞭である。″また下地層３はＣｒの代りに
Ｂｉを用いることができるが、Ｂｊの膜１ｇを５００
Ａ程度とすることによシ、Ｃｒの場合と同様の効果が得
られる。
さらに本発明の磁気記録媒体の磁性層の耐食性について
言及する。
言及する。
第４図は温度４０℃、相対湿度８０％の雰囲気中に曝し
たＣｏ −３０ａｔ ％ Ｎｉ −５ａｔ ｃＸＬａ
ｃＱ磁気記録媒体の磁気特性の変化を示した線図であり
、第５図は同じくこの条件に曝し九磁気記録媒体を記録
装置に用いたときのエラー個数の変化を示しだ線図であ
るが第４図、第５図の場合も比較のために第３図のとき
と同じ比較例１と比較例２を併記した。
たＣｏ −３０ａｔ ％ Ｎｉ −５ａｔ ｃＸＬａ
ｃＱ磁気記録媒体の磁気特性の変化を示した線図であり
、第５図は同じくこの条件に曝し九磁気記録媒体を記録
装置に用いたときのエラー個数の変化を示しだ線図であ
るが第４図、第５図の場合も比較のために第３図のとき
と同じ比較例１と比較例２を併記した。
第４図は磁気記録媒体の放ｆ１１期間に対する磁性層の
Ｂｒ・δおよびＨｃの変化を示し丸ものであシ、磁気特
性の初期値はそれぞれ異なるが、放置時間経過に対する
変化の割合はあ１り変らない。しかしながら第５図にみ
られるようにエラー個数は本発明の記録媒体は１２ ｗ
ｅｅｋｓ放・置してはじめて僅かにエラーがカウントさ
れるのに対して、比較例１゜比較例２のものは短い日数
のうちにエラー個数が急激に増加し使用に耐えなくなる
。このことは磁性層全体の磁気持回は環境条件によって
比較的長時間大きな変化を示すことはないが、湿気など
の雰囲気に１暴されたとき、従来の磁性層は表面の微小
な局部から頓次腐食されて変質することに起因している
。これに対しＬａを適音添加した磁性層を有する本発明
の磁気記録媒体は第５図から耐食性もすぐれたものであ
ることがわかる。なお第５図には図示してないが０．５
〜１２．５ａｔ％の範囲でＬａを添加したものについて
同様の結果を得ることができる。
Ｂｒ・δおよびＨｃの変化を示し丸ものであシ、磁気特
性の初期値はそれぞれ異なるが、放置時間経過に対する
変化の割合はあ１り変らない。しかしながら第５図にみ
られるようにエラー個数は本発明の記録媒体は１２ ｗ
ｅｅｋｓ放・置してはじめて僅かにエラーがカウントさ
れるのに対して、比較例１゜比較例２のものは短い日数
のうちにエラー個数が急激に増加し使用に耐えなくなる
。このことは磁性層全体の磁気持回は環境条件によって
比較的長時間大きな変化を示すことはないが、湿気など
の雰囲気に１暴されたとき、従来の磁性層は表面の微小
な局部から頓次腐食されて変質することに起因している
。これに対しＬａを適音添加した磁性層を有する本発明
の磁気記録媒体は第５図から耐食性もすぐれたものであ
ることがわかる。なお第５図には図示してないが０．５
〜１２．５ａｔ％の範囲でＬａを添加したものについて
同様の結果を得ることができる。
また本発明の磁気記録媒体を磁気記録装置ＫＭｉみ込ん
でＣ８Ｓ試験を行なった結果、２万回のコンタクト・ス
タート・ストップに対しても記録媒体表面になんら傷を
発生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分
な耐久性をもっていることがわかった。
でＣ８Ｓ試験を行なった結果、２万回のコンタクト・ス
タート・ストップに対しても記録媒体表面になんら傷を
発生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分
な耐久性をもっていることがわかった。
以上説明してきたように、本発明の磁気記録媒体はすぐ
れた磁気特性と耐食性を兼備したものということができ
る。
れた磁気特性と耐食性を兼備したものということができ
る。
磁気ディスクなどの磁気記録媒体は記録密度をあげるた
めに磁性層の膜厚を釘くし、磁気特性を向上させるため
にスパッタによるＣｏ −Ｎｉ系合金薄膜が用いられる
ようになつｆｒ、が、一方でこの磁性層はＣｏ−Ｎｉ系
合金では使用環境における耐食性が例えば鉄酸化物膜な
どより劣るという欠点をもっていたのに対し、本発明は
Ｃｏ −Ｎｉ系合金に０．５〜１２．５ ａｔ％のｈを
含んだ磁性層を用いて、基板上に非磁性基体層、下地層
、ｖｉ磁性層よび保護潤滑１膜をこの頑に堆積してなる
１磁気記録媒本として従来と同様に構成したものであっ
て、磁性層のＣｏ−Ｎｉ系合金にＬａを添加したことに
より、Ｃｒ下池層が磁性層のＨｅを高めるのに隠めて効
果的に働くと同時に磁性層自体の耐食性を著しく向上さ
せ、磁気特性と耐食性という従来相反関係にあった問題
を一挙に解決し、この両者を一つの記録媒体で兼ね備え
ることができ、しかも本発明の記録媒体は製造効率もよ
く記録裟１置の出力も十分であり、長寿命を保持するこ
とができるという多くの点で大きな利点を有するもので
、らる。
めに磁性層の膜厚を釘くし、磁気特性を向上させるため
にスパッタによるＣｏ −Ｎｉ系合金薄膜が用いられる
ようになつｆｒ、が、一方でこの磁性層はＣｏ−Ｎｉ系
合金では使用環境における耐食性が例えば鉄酸化物膜な
どより劣るという欠点をもっていたのに対し、本発明は
Ｃｏ −Ｎｉ系合金に０．５〜１２．５ ａｔ％のｈを
含んだ磁性層を用いて、基板上に非磁性基体層、下地層
、ｖｉ磁性層よび保護潤滑１膜をこの頑に堆積してなる
１磁気記録媒本として従来と同様に構成したものであっ
て、磁性層のＣｏ−Ｎｉ系合金にＬａを添加したことに
より、Ｃｒ下池層が磁性層のＨｅを高めるのに隠めて効
果的に働くと同時に磁性層自体の耐食性を著しく向上さ
せ、磁気特性と耐食性という従来相反関係にあった問題
を一挙に解決し、この両者を一つの記録媒体で兼ね備え
ることができ、しかも本発明の記録媒体は製造効率もよ
く記録裟１置の出力も十分であり、長寿命を保持するこ
とができるという多くの点で大きな利点を有するもので
、らる。
嬉１図は本発明の磁気記録媒体の要部構成断面図、第２
図は磁性層のＬａ含有量と磁気特性との関係を示す線図
、第３図は下地層の厚さに対する磁性層のＨａの変化を
示す線図、第４図は温度４０℃２相対湿度８０％の雰囲
気中に１４シた磁気記録媒体の磁気特性の変化を示す線
図、第５図は同じくエラー個数の変化を示す線図、第６
図は従来の磁気記録媒体の要部構成断面図である。 １・・・合金基板、２・・・非磁性基体層、３・・・非
磁性金属下地層、４．４＆・・・磁性層、５・・・保護
潤滑膜。 、・１．・６、：＼ 第１図 （ａ） （ｂ） （ｃ） （ｄ） 第４図 第５図 第６図
図は磁性層のＬａ含有量と磁気特性との関係を示す線図
、第３図は下地層の厚さに対する磁性層のＨａの変化を
示す線図、第４図は温度４０℃２相対湿度８０％の雰囲
気中に１４シた磁気記録媒体の磁気特性の変化を示す線
図、第５図は同じくエラー個数の変化を示す線図、第６
図は従来の磁気記録媒体の要部構成断面図である。 １・・・合金基板、２・・・非磁性基体層、３・・・非
磁性金属下地層、４．４＆・・・磁性層、５・・・保護
潤滑膜。 、・１．・６、：＼ 第１図 （ａ） （ｂ） （ｃ） （ｄ） 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基板上の主表面を被覆した非磁性基体上に、非磁性
金属下地層、磁性層および保護潤滑膜をこの順に連続ス
パツタして積層成形した磁気記録媒体において、前記磁
性層がＬａを０．５〜１２．５ａｔ％含むＣｏ−Ｎｉ合
金からなることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において磁性層の
Ｌａ含有量を２〜１１ａｔ％とすることを特徴とする磁
気記録媒体。 ３）特許請求の範囲第１項または第２項記載の媒体にお
いて、非磁性金属地下層としてＣｒを用いることを特徴
とする磁気記録媒体。 ４）特許請求の範囲第１項または第２項記載の媒体にお
いて、非磁性金属下地層としてＢｉを用いることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28973985A JPS62149024A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28973985A JPS62149024A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149024A true JPS62149024A (ja) | 1987-07-03 |
| JPH0467251B2 JPH0467251B2 (ja) | 1992-10-27 |
Family
ID=17747129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28973985A Granted JPS62149024A (ja) | 1985-12-23 | 1985-12-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149024A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7114864B2 (en) | 1998-10-22 | 2006-10-03 | Seiko Epson Corporation | Electronic paper printer |
| US7293344B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-11-13 | Headway Technologies, Inc. | Process of making CD uniformity in high track density recording head |
-
1985
- 1985-12-23 JP JP28973985A patent/JPS62149024A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7114864B2 (en) | 1998-10-22 | 2006-10-03 | Seiko Epson Corporation | Electronic paper printer |
| US7381000B2 (en) | 1998-10-22 | 2008-06-03 | Seiko Epson Corporation | Electronic paper printer |
| US7293344B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-11-13 | Headway Technologies, Inc. | Process of making CD uniformity in high track density recording head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467251B2 (ja) | 1992-10-27 |
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