JPS6244246B2

JPS6244246B2 -

Info

Publication number: JPS6244246B2
Application number: JP51116108A
Authority: JP
Inventors: Gaidoo Kemeri Robaato; Kaareru Miraa Richaado
Original assignee: AT&T Technologies Inc
Current assignee: AT&T Corp
Priority date: 1975-09-29
Filing date: 1976-09-29
Publication date: 1987-09-18
Also published as: JPS5242741A; DE2643364A1; US3974507A; FR2325952A1; GB1554201A; NL7610738A; FR2325952B1; CA1067735A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は薄いフイルム内に模写画像をつくるた
めの薄いフイルムのレーザ加工に関し、さらに詳
細には信頼性に富み且つ高品質の画像を該フイル
ムに構成しうるようにレーザの出力を変換するた
めのレンズ系又は光学装置に関する。

印刷ページの高分解画像を伝送するためのコン
パクトで独創的なフアクシミルシステムが“ベ
ル・ラボラトリーズ・レコード（Bell
Laboratories Record）”1975年３月号、163〜169
頁所載のH.A.Watsonの論文「An Experimental
Page Facsimile System」に記載されている。
これに記載されているフアクシミルシステムの最
も重要な利点はその速度である。これは、標準の
８１／２×11インチ（約21.6×28.0cm）サイズの１ページの画像を走査、伝送、再現するのに要する時
間が10秒という速度である。

上記フアクシミルシステムのための装置は３つ
の基本部分から構成されている。すなわち、送信
端には原本を現わすビデオ信号を発生するページ
走査装置が存在する。次に、上記ビデオ信号を伝
送する広帯域アナログ伝送ラインが存在する。そ
して最後に受信端に、薄いフイルムを選択的に加
工し、これにより原本の画像を模写するためのレ
ーザを含む装置が置かれている。

受信装置に包含されているレーザは有利にはヒ
化ガリウムしま幾何模様二重ヘテロ構造装置（ａ
galliumarsenide stripegeometry double−
heterostructure device）である。このようなレ
ーザーを用いると、薄いフイルムを加工するため
の比較的コンパクトで簡単な受信装置を製作する
ことが可能である。

典型的なヒ化ガリウムレーザは非点収差とだ円
断面とを持つ光学的出力ビームを出す。薄いフイ
ルムの高品質加工を保証するためには、このビー
ムの非点収差の性質をコリメートし、さらに該ビ
ームを円形断面を持つビームに変換することが重
要である。レーザビームをこのようにコリメート
し、変換するための装置の実例は米国特許出願第
599850号（米国特許第4030122号）（R.G.
Chemelli、D.D.CookおよびR.C.Millerの出願で
目下係属中）の明細書に記載されている。

ヒ化ガリウムレーザは時としてビームステアリ
ング効果（beam steering effect）および／また
はビームフイラメンテーシヨン効果（beam
filamentation effect）の現象を示す。これらの
効果は当業者に公知であり、特にレーザが上記し
たChemelli、CookおよびMillerの特許出願明細
書に記載されている光学装置に組み入れられた場
合にはつきりと現われうる。これらの効果は従来
製作されているようなヒ化ガリウムレーザ加工装
置によつて形成される画像の品質を劣化させる傾
向がある。

本発明は固体接合レーザの出力面とレーザビー
ムにより選択的に加工される薄いフイルムとの間
に挿入されるレンズ系を提供するものである。本
発明のレンズ系が関連する上記固体接合レーザ
は、その接合面に垂直な面で見たその出力ビーム
が該出力面のところに見掛けの光源を持つた比較
的大きい遠視野発散角（far−field divergence
angle）を有しそしてその接合面に平行な面で見
た出力ビームが該出力面より後方のそのレーザ内
部に見掛けの光源を持つた比較的小さい遠視野発
散角を有するものである。しかして本発明のレン
ズ系は上記レーザによつて出射される光を集めそ
して上記各光源の互に離隔された実像を形成する
よう配置された１つの球面レンズと、該球面レン
ズによつて形成された光を集めて上記薄いフイル
ムに向う光線（light rays）を１つの像から等方
性をもつて発散するように現わせしめるためのレ
ンズ手段とを包含し、そして上記球面レンズは該
レーザの出力ビームによつて示される最大発散に
適応し且つ該ビームによつて示されるビームステ
アリング効果に適応するのに十分な大きさの開口
数を有する。

本発明の１つの具体例によれば改良されたヒ化
ガリウムレーザ加工装置が得られる。この装置は
ビームステアリング効果および或る種のフイラメ
ンテーシヨン効果に比較的不感応であり、ヒ化ガ
リウムレーザの出力の非点収差の性質は十分にコ
リメートされそして出力ビームは円形断面を有す
るビームに変換される。

１つの特定の実施態様では、固体PpnN接合レ
ーザの出力面と、その中にマイクロ画像を形成す
るためレーザビームによつて選択的に加工される
薄いフイルムとの間に１つのレンズ系が挿入され
る。PpnNレーザの特徴はその接合面に垂直な面
で見た出力ビームが該レーザの出力面に見掛けの
光源を持つた比較的大きい遠視野発散角を有しそ
してその接合面に平行な面で見たときに、出力ビ
ームが該出力面より後方のレーザ内部に見掛けの
光源を持つた比較的小さい遠視野発散角を有する
ことである。

本発明の１つの特定の実施例では、そのレンズ
系は上記レーザによつて出射された光を集めそし
て該見掛けの各光源の相互に離隔した実像を形成
するよう配置された大開口数の球面レンズを含
む。さらにそのレンズ系は上記球面レンズによつ
て形成された光を集めそして薄いフイルムに向け
られた光線が上記複数の実像の１つから等方的に
発散するように現われるようにするべく配置され
た１つの半円筒形レンズを含む。

以下図面を参照しながら本発明をさらに詳細に
説明する。

第１図には本発明が適用される種類の固体接合
レーザ１０の図式的断面図が示されている。例示
のため、このレーザ１０は１つのGaAs基層（図
示せず）の上に順次形成されたＮ−型GaAlAsの
層１２、ｎ−型GaAsの層１３、ｐ−型GaAsの層
１４およびＰ−型GaAlAsの層１５の各層を含む
ヒ化ガリウムしま幾何模様二重ヘテロ構造の装置
として示されている。このレーザ１０の最低準位
光学モードは主としてプロトンボンバードによつ
て通常規定されるしま幅内のＰ−型GaAs域１４
に限定される。最低準位モード動作のための該
GaAsの層１４の高さ（あるいはｙ−軸方向の寸
法）は普通1.5ミクロンより小さい。なお、この
種類のレーザのより詳細についてはジヤーナル・
オブ・アプライド・フイジクス（Journal of
Applied Physics）第44巻、No.３（1973年３
月）、1276〜1280頁を参照されたい。図示した例
では、該層１４のしま幅（第２図のａの寸法）は
約12ミクロンであり、そしてレーザ１０を寸法は
ｘ，ｙ，ｚの各軸の方向にそれぞれ約380×100×
380のミクロンである。

薄いフイルムを加工するためにヒ化ガリウムレ
ーザを使用した場合に生じる２つの主要な問題点
は該レーザ１０によつて与えられる出力ビームの
非点収差とだ円断面である。この２つの特性は接
合面に垂直な面（第１図参照）と接合面に平行な
面（第２図参照）内に該レーザから出射されるダ
ツシユ線で示した光線で図示されている。なお接
合面は第１図および第２図に示したｘ−ｚ面をな
す。詳細に言うと、ここで想定した特定のGaAs
レーザの場合ではその接合面に垂直な面で見たレ
ーザビームは通常そのレーザ出力ミラー（レーザ
１０の右端面）の位置に見掛けの光源を持ち、そ
して約25〜30゜の遠視野発散半角θ_１（第１図）
を持つ（ピーク強度の１／l²において測定）。接
合面に平行な面で見たレーザビームは該レーザ出
力ミラーの後方約20〜50ミクロンの距離ｂのとこ
ろに見掛けの光源を持ち、そこから約６〜８゜の
遠視野発散半角θ_２（第２図）を持つ。

レーザ１０の出力は２つの空間的に分離された
空間等価ビームウエースト（airequivalent beam
waists）の形で都合よく書き示すことができる。
本願図面ではこれらウエーストは明らかには示さ
れていない。表現の簡単化のためにすべての光源
ならびにそれらの像は略図的に点として示され
る。これらビームウエーストの１つWxは大きさ
が第２図に示した幅ａの半分に等しくそして接合
面に平行な光線発散にあずかる。他方のビームウ
エーストWyはほぼ層１４の高さの半分に等しく
接合面に垂直な光線発散にあずかる。これらのビ
ームウエーストが空間的に分離されている事実は
このレーザビームが非点収差性であることを意味
する。Wxが典型的にWyよりも大きいという事実
は該レーザビームが断面だ円形であることを意味
しそしてその遠視野発散が接合面に垂直な方向に
おいて接合面に平行な方向におけるよりもより急
速であることを物語る。この非点収差とだ円性
は、実際上最大のレーザ加工性能を得るために必
要とされる球形波面の目的を達成するためコリメ
ートされなければならない。

前記したChemelli、CookおよびMillerの米国
特許出願明細書には、第１図および第２図に示し
たレーザ１０から発射されるだ円光束を円形光束
に変換するため並びに該レーザ光を記録体上に集
束させるための光学要素が記載されている。該出
願明細書にかかる光学要素として特記されたもの
は本願の第１図と第２図とに図示されている。こ
れら光学要素は小さな半円筒形レンズ１６と特定
屈折率の光学繊維１７とよりなる。

半円筒形レンズ１６は第１図の扇形ビーム内に
包含されている光線を種々の大きさだけ主軸１８
の方に屈折させる働きをする。特に該レンズ１６
は第１図に示した発散角θ_３を、大体において第
２図の発散角θ_２に等しくするよう選択されてい
る。第２図に示した扇形ビームに対しては、該半
円筒形レンズ１６はなんらの集束作用も加えな
い。第２図のビームを構成している光線はしかし
ながらこのレンズ１６によつて屈折されそして入
射角に応じて増加する対応する大きさだけそれぞ
れ変位される。

上記米国特許出願明細書に記載されているよう
に、第１図と第２図とに示されたレンズ１６の働
きは加工に有用なほとんど非点収差のない且つ円
形断面のビームにレーザの出力ビームを変換する
ことである。

第１図と第２図の半円筒形レンズ１６のごとき
光学要素はｙ−ｚ面（接合面に垂直な面）の扇形
ビームに対してのみレンズ作用を持つ。以下この
ようなレンズをCyレンズという。〔もしこの光学
要素１６がｚ軸のまわりに90゜回転された場合に
は、これはCxレンズと呼ばれるであろう。その
場合、該レンズはｘ−ｚ面（接合面に平行な面）
内の扇形ビームに対してのみレンズ作用を持つで
あろう〕。

前記したように、ヒ化ガリウムレーザは時々ビ
ームステアリングおよび／またはフイラメンテー
シヨン効果を示す。ビームステアリングは、たと
えば、第２図の主軸１８がｚ−軸に関し０゜以外
の角度をなすようにｘ−ｚ面内で上下に傾いたと
考えることにより説明される。フイラメンテーシ
ヨンの１つの一般的なタイプは、たとえば、ｘ−
軸に沿つて第２図にレーザ出力面の左方にあるも
のとして示されている見掛けの光源が移動するこ
とで説明されるものである。

第１図および第２図に示した装置にビームステ
アリングまたは光源移動のフイラメンテーシヨン
が起ると、レーザ１０によつて発せられた出力の
一部は光学繊維１７に入らなくなるだろう。この
絞り効果が相当に大きくなると、信頼性に富み品
質良く薄いフイルムを加工するレーザの能力は著
るしく悪影響を受けるであろう。なぜならば、薄
いフイルムに到達されるレーザエネルギーが減少
されると、所望よりも小さい孔が加工されそして
ある特定のしきい値以下では全く孔が加工されな
くなるからである。

第１図および第２図の光学要素１６と１７とを
含む装置に対する改良である本発明の特定の具体
例を説明する前に、まず本発明の実施例が包含さ
れうる全体的装置についてごく簡単に説明してお
くのが有益であろう。そのような全体的装置の１
つの例は第３図に示されている。

上述したワトソン（Watson）の論文に記載さ
れた特定のフアクシミルシステムはイツトリウ
ム・アルミニウム・ガーネート（YAG）レーザ
を含む。しかしながらこのレーザは実用上ある種
の欠点がある。その主たるものはこのレーザには
水冷システムと、内部および外部の音響光学的変
調器とを必要とすることである。これに対し、
GaAsレーザははるかに小型であり、そしてYAG
レーザよりも非常に安価である。変調はレーザの
ｐ−ｎ接合を通る順電流を変えるだけで実施でき
る。GaAsレーザの必要電力はきわめて小さく且
つ水冷を必要としない。したがつて、第３図の例
示装置はGaAsレーザ２０を含むものとして示さ
れている。第３図の装置は、たとえば、フアクシ
ミル伝送、情報回収およびコンピユータ製図法の
領域で使用しうる。

第３図において、受信されたアナログ電気信号
２１は入力端子２２に与えられる。この信号２１
はたとえばある種のグラフ資料をラスタ走査した
結果生じたものと仮定される。より詳細には、信
号２１は１つの走査フレームの上から下まで等間
隔で順次並んだ線に沿つた明域と暗域のアナログ
表現である。

パルス発生器２３は信号２１に応答して可変振
幅パルス列２４を発生する。このパルス列２４内
のパルスはパルス化された動作モードでレーザ２
０を作動させる。この動作モードにおいて、レー
ザ２０は約100ナノ秒の持続時間ごとに8900Åの
波長で可変強度出力パルスを発生する。１行の加
工の間、このようなパルスが約２×10⁵／秒まで
の反復速度で生じうる。図示の例では、本発明の
レンズないしレンズ系２５はレーザ２０によつて
発生された光学パルスの通路内に挿入されてい
る。このレンズ系の各種実施例が第４図ないし第
９図に図示されており、後に詳述する。レンズ系
２５はビームステアリングおよびフイラメンテー
シヨンには比較的不感応でありそしてレーザの出
力を拡大された円形断面の非点収差のないビーム
に変換する働きをするる。レンズ系２５によつて
与えられたビームはダツシユ線２６によつて示さ
れている。

第３図に示したコリメートされたビーム２６は
電気機械的に駆動されるガルバノメータミラー２
８に投射される。ミラー２８は図面の頁に垂直な
軸線のまわりに鋸歯状に振動する。これによりビ
ームは加工されている１つのフレームの一方の側
から他方の側へ偏向される。ミラー２８から反射
後、該ビーム２６は扁平対物レンズ３０によつて
集束されダイクロイツクミラー３２に向けられ
る。該ミラー３２は8900Åの光に対し高い反射性
を有する。直径約５ミクロンの細いウエーストビ
ームはこのミラー３２によつて薄いフイルム３４
の面上に向けられる。

第３図のガルバノメータミラー２８は図面の頁
の面内に位置する１つの軸線のまわりを回転しう
るようジンバルで自在支えされており、そして該
軸線のまわりをゆつくりと回転させられる。これ
によりレーザビームはフイルム３４上のフレーム
の上から下までゆつくりと移動させられる。この
ような態様で多数の離隔された線が順次該フイル
ム上に加工される。

ランプ３６からの光はコンデンサーレンズ系３
８によりダイクロイツクミラー３２を通じて薄い
フイルム３４上に投影される。しかしてフイルム
３４上に加工されているフレームの画像は投影レ
ンズ４０を介してスクリーン４２の上に投写され
る。

第４図には、ヒ化ガリウムレーザによつて発生
された光学的ビームの上記したウエーストWxと
Wyとがそれぞれ点５０と５１とで表わされてい
る。さらに表現の簡単化のために、該２つのウエ
ーストから出る光線は単純な二次元的表現により
示されている。第４図内のC₁とC₂とは主軸５３
に沿つた、ビーム断面がその位置で円形であると
ころの位置をそれぞれ示す。C₁はレーザの内部
に位置しそしてC₂は一般的にレーザ出力ミラー
の右方５〜20ミクロンのところに位置する。Ox
とOyとはレンズ５５の中心から各ウエーストす
なわちWxとWyまでの距離である。Ａはそのビー
ムの近域非点収差を表わす。

本実施例では焦点距離を持つ開口数の大きい
球面レンズ５５が第４図のウエーストWxとWyか
ら出るビームの光路内に挿入されている。さらに
詳細に言うと、レンズ５５はレーザビームの前記
した発散にビームステアリングによつて生じる付
加的角度偏倚を加えたものに対し十分適応できる
大きい開口数の良好にコリメートされた光学要素
である。光学要素５５としては単一の球面レンズ
で十分ではあるが、しかし、複数のレンズ要素か
らなり、その全体的効果が単一の球面レンズに比
肩しうるような、よくコリメートされた顕微鏡対
物レンズを使用すると好都合である。光学要素５
５を構成しうるかかる対物レンズの例をあげれ
ば、開口数0.65であつて１個または数個の直列配
置されたアプラナートレンズと、これに続く１個
または複数の球面二重レンズとを含む常用の43倍
の顕微鏡対物レンズである。重要なのは、レンズ
５５がこれに投射されたビームの発散角を実質的
に縮少するのに有効であることである。

第４図の実施例では、レンズ５５は拡大レンズ
として作用し該レンズ５５の中心からの距離がIx
およびIyであるところにそれぞれWxとWyの像
W′xとW′yを形成する。C₁とC₂に対応するビーム
断面円形位置はこの時にC′₁とC′₂に位置する。球
面レンズ５５の焦点距離と物距離OxとOyとか
ら計算して、その像視野非点収差A′は次のよう
になる： A′≡（Iy−Ix）＝（ＩｘＩｙ／ＯｘＯｙ）Ａ≡（MxMy）Ａ。

図示の例では、線倍率Myは約43そして線倍率
Mxは約30であるから、A′は約1300Aである。Ａ
の代表的範囲は40乃至50ミクロンである。したが
つてA′は約50乃至65mmであり、この数値は簡単
に製造できる従来の半円筒形レンズでコリメート
可能な範囲である。

第５図に示した本発明の１つの実施例では、簡
単なCx型の単一半円筒形レンズ５７が球面レン
ズ５５によつて形成された光線の光路内に挿入さ
れる。特に、該レンズ５７は主軸５３上のC′₁で
示される上記ビーム断面円形位置にその中心が位
置している。該レンズ５７はW′yにW′xの実像を
結ぶよう設計されている。従つて、W′yから右方
のすべての光線は等方的にほとんどW′yから発散
するように現われる。換言すれば、W′yから出て
第５図の右方にのびている各光線は主軸５３に関
しほとんど同一の角度をなしているように現われ
る。したがつてW′yから発散する球面波先は常用
の光学要素によつて、第３図に参照数字２６で示
されたような円形断面のビームを形成するよう拡
大され且つコリメートされうる。

第５図に例示した特定の実施例では、O′xとI′x
との距離はそれぞれ40mmと20mmである。この場合
に、該Cxレンズ５７の焦点距離cxは約13mmで
ある。

第６図に示した別の実施例では、Cy型の簡単
な単一半円筒形レンズ５９が主軸５３上にその中
心を位置させて球面レンズ５５によつて形成され
た光線の光路内に配置されている。特に、該レン
ズ５９はC′₂で表わされた上記ビーム円形位置に
位置されている。このレンズ５９はW′xにW′yの
虚像を形成するように選択されている。従つて、
これにより１つの球面波先が形成される。なぜな
らば、レンズ５９の右方のすべての光線は等方的
にW′xからほとんど発散するよう現われるからで
ある。

第６図の特定実施例では、W′xとW′yとの間の
距離は60mmそしてW′xとC′₂との間の距離は100mm
である。この場合、該Cyレンズ５９の焦点距離
は約70mmである。

C′₁（第５図）およびC′₂（第６図）の位置にお
けるビーム断面の直径は通常１mm以内であるから
して、レンズ５７と５９とが非常に弱い（すなわ
ちＦ−数の大きい）光学要素でありうることが明
らかである。一般的には、Cyレンズ５９はCxレ
ンズ５７より弱いものであつてよい。したがつて
レンズ５９は大きいＦ−数と、より収差のない性
能に特徴があり、これはある種の用途では一般に
好ましいものであり、実用上重要な特徴である。
最も重要なことは、Cyレンズ５９（第６図）が
使用された場合には、光源移動のフイラメンテー
シヨンに起因するウエーストW′xの移動（ｘ軸方
向における）がなんらの収差ももたらさないこと
である。なぜならばこのレンズはｘ軸方向に零度
のレンズであるからである。この特徴はCxレン
ズ（第５図）には欠けており、したがつて一般的
に言つてCyレンズのみを使用する実施例の方が
好ましい。しかし第５図の実施例は第６図の実施
例よりもその光路長が短い。この事実が実用上重
要となる場合がある。したがつてそのような場合
には、光源移動のフイラメンテーシヨンに敏感で
あるという欠点にもかかわらず第５図の実施例が
選択されうる。

第３図に示した形式の実際の装置では、C′₂に
配置された単一半円筒形レンズ５９（第６図）を
用いて実質的に回折の制限された性能結果が得ら
れうることが確認されている。

前記したように、球面レンズ５５はビーム発散
角を縮小する。その結果、ビームステアリング効
果に起因する主軸５３からのレーザビームの角度
偏倚はすべて縮小される。さらに詳細に説明する
と、本発明の特定実施例においては、10゜のオリ
ジナルレーザビームのステアリングすなわち角度
偏倚は球面レンズ５５によつて約１／２゜まで減
少される。実際問題として、レンズ５７（第５
図）およびレンズ５９（第６図）の開口角は一般
的にそのような比較的小さい偏倚に容易に適応す
るに十分な大きさであり、そして更に、レンズ５
９は収差を生じさせることなく接合面内の光源移
動に適応することができる。ビームの角度的およ
び並進的な小さな移動に対する同様な不感応性
は、レンズ５７ないしレンズ５９と薄いフイルム
３４（第３図）との間に挿入された付加的な光学
要素にも容易に取り入れることができる。以上の
理由からして、上記した実施例ではビームステア
リングに対し比較的不感応であり、そして第６図
の実施例では更に光源移動のフイラメンテーシヨ
ン効果に対しても不感応であることが判明してい
る。

第５図および第６図の実施例によつて形成され
た球面波先はそのビームを拡大しコリメートする
常用の光学要素に与えられる。例として、第７図
は第６図のレンズ５９の光学的出力が慣用のビー
ムエキスパンダとコリメータ６０へ与えられる場
合を示す。第７図において、出力光線２６は円形
断面を有するコリメートされたビームを示す。こ
の光線２６は第３図の光学系２５から出る同じ参
照数字を付した光線に対応するものである。な
お、これらのエキスパンダ−コリメータ要素は回
折が小さい、しかし一定の角度域に亘つて制限さ
れるよう設計されなければならない。

第５図と第６図に示した特定の実施例には各種
の変更が可能である。たとえば、球面収差を最小
限にするためあるいは回避するために一組の半円
筒形レンズ、あるいは１個の球面レンズと１個の
半円筒形レンズの組合わせを使用することができ
る。このような変更例がそれぞれ第８図と第９図
に示されている。

第８図では、半円筒形Cxレンズ６１がW′y
に、そして半円筒形Cyレンズ６２が上記レンズ
６１の右方のビーム断面円形位置に配置されてい
る。

第９図では、発散半円筒形Cyレンズ６３が
W′xに、そして半円筒形Cxレンズ６４が上記レ
ンズ６３の右方のビーム断面円形位置におかれて
いる。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図は従来技術のレンズ要素と組合
わされた公知固体接合レーザの断面で示す側面図
と上面図である。第３図は本発明の１実施例を含
むレーザ加工装置の概略図である。第４図は本発
明の１実施例によるレンズ系に含まれる主要レン
ズ要素の１つを示す。第５図と第６図とは本発明
の２つの実施例をそれぞれ示す。第７図はビーム
エキスパンダとコリメータに組合わされた本発明
の１実施例に含まれるレンズ要素のうちの１つを
示す。第８図と第９図とは本発明の別の２つの実
施例をそれぞれ示す。２０，１０……固体接合レーザ、３４……薄い
フイルム、２５……レンズ系、５５……球面レン
ズ、θ_１……大きな遠視野発散角、θ_２……小さ
な遠視野発散角、５７，５９……半円筒形レン
ズ、６０……ビームエキスパンダおよびコリメー
タ、６１，６２……半円筒形レンズ、６３……発
散半円筒形レンズ、６４……半円筒形レンズ。

Claims

【特許請求の範囲】１固体接合レーザーの出力面と該レーザービー
ムにより選択的に加工される物品との間に挿入さ
れる光学装置であつて、接合面に対して垂直の面
内で見たとき該レーザーの出力ビームは該出力面
のところに見掛けの光源を持つ比較的大きい遠視
野発散角を有し、そして接合面に対して平行な面
内で見たとき該レーザーの出力ビームは該出力面
の後方に見掛けの光源をもつ比較的小さい遠視野
発散角を有するものにおいて、該光学装置は、球面レンズ装置５５で充分大き
な開口数を有し、且つ該レーザーから出射された
光を集めて、前記光源の離隔した実像（Wx′，
Wy′）を形成するために、そして該ビームによる
最大の発散および該ビームによつて示されるビー
ムステアリング効果に適応することが出来るよう
にするために拡大レンズ装置として作用するごと
く構成された球面レンズ装置を含み、該光学装置
はさらに、該ビームの断面が円形である場所に位
置する半円筒形レンズから成る半円筒形レンズ装
置で、該半円筒形レンズの前記の位置および焦点
距離は物品に向けられる光が該球面レンズから集
められそして実像から等方的に発散するように出
現するごとく構成された半円筒形レンズ装置を含
むことを特徴とする光学装置。２発散光線の光路内に挿入された手段が該光線
をコリメートしそして円形断面を有する１つのビ
ームを形成するのに役立つ特許請求の範囲第１項
の光学装置。３レーザによつて与えられるビームは該ビーム
が前記球面レンズに入射するより前に相互に離隔
した２つのビーム断面円形位置を持ち、その２つ
の位置の一方の位置C₁は該レーザ内部に位置し
ており、他方の位置C₂は該レーザの出力面と該
球面レンズとの間に位置しており、該球面レンズ
によつて形成されたビームは上記２つの位置C₁
とC₂とにそれぞれ対応する２つの互に離隔した
ビーム断面円形位置C₁′とC₂′とを有し、前記した
互に離隔された見掛けの光源の像をWx′とWy′と
で表わすと、Wx′はWy′よりも該球面レンズに近
く位置し、C₁′はWx′とWy′との間にあり、そし
てC₂′はWy′よりもさらに遠く該球面レンズから
離れておりそして前記したレンズ手段は上記位置
C₁′，C₂′，Wx′，Wy′のうちの１つの位置に配置
された１つの半円筒形レンズを包含する特許請求
の範囲第１項の光学装置。４前記半円筒形レンズが収斂型のレンズであり
そしてWy′の位置にWx′の実像を形成するよう
C₁′に位置され、従つてWy′の物品側では、すべ
ての光線が等方性をもつてWy′から発散するよう
現われる特許請求の範囲第３項の光学装置。５前記半円筒形レンズが収斂型のレンズであり
そしてWx′にWy′の虚像を形成するようC₂′に配
置され、従つて該半円筒形レンズの物品側では、
すべての光線が等方性をもつてWx′から発散する
よう現われる特許請求の範囲第３項の光学装置。６前記半円筒形レンズが収斂型のレンズであり
そしてWx′から出る発散光線をコリメートするよ
うWy′に配置されており、さらに前記レンズ手段
はWy′から出る発散光線をコリメートするよう上
記した半円筒形レンズの物品側のビーム断面円形
位置に配置された第２の半円筒形レンズを包含し
ている特許請求の範囲第３項の光学装置。７前記半円筒形レンズが発散型のレンズであり
そしてWy′に向う収斂光線をコリメートするよう
Wx′に配置されており、さらに前記レンズ手段は
Wx′から出る発散光線をコリメートするよう上記
発散円筒形レンズの物品側のビーム断面円形位置
に配置された収斂型の半円筒形レンズを包含して
いる特許請求の範囲第３項の光学装置。８前記レンズ手段がさらにWy′から発散する光
線の光路内に置かれたビームエキスパンダおよび
コリメータを包含している特許請求の範囲第４項
の光学装置。９前記レンズ手段がさらに半円筒形レンズから
発散する光線の光路内に置かれたビームエキスパ
ンダおよびコリメータを包含している特許請求の
範囲第５項の光学装置。１０該光学装置がレーザ加工装置の部分として
組み込まれているところの特許請求の範囲第１項
の光学装置。