JPS6245496A - レ−ザ用反射形マスク - Google Patents
レ−ザ用反射形マスクInfo
- Publication number
- JPS6245496A JPS6245496A JP60185449A JP18544985A JPS6245496A JP S6245496 A JPS6245496 A JP S6245496A JP 60185449 A JP60185449 A JP 60185449A JP 18544985 A JP18544985 A JP 18544985A JP S6245496 A JPS6245496 A JP S6245496A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- reflection
- reflective
- mask
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、文字、数字、商標などを高速かつ効果的にマ
ーキングする装置に関し、特に発振器としてTEA
Co2レーザを用いたレーザマーカのマスクに関する。
ーキングする装置に関し、特に発振器としてTEA
Co2レーザを用いたレーザマーカのマスクに関する。
従来の技術
従来のTEA Cotレーザマーカに使用されるマスク
は、第2図(a)に示すように、その基板14が文字、
数字、商標などの形状をした透過開口11と反射面12
および13から構成されている。そしてこのマスク15
はレーザマーカの一部として第2図(b)に示すように
使用される。TEA Co、レーザ光源6から発射され
たパルスレーザ光は反射鏡17で反射され、この透過形
マスク15を照射する。透過開口11を通過した光は、
集光レンズ7によって被加工面8に結像される。透過開
口以外に照射された光は反射面12あるいは13によっ
て反射され、透過開口11の形状が被加工面8にマーキ
ングされる。
は、第2図(a)に示すように、その基板14が文字、
数字、商標などの形状をした透過開口11と反射面12
および13から構成されている。そしてこのマスク15
はレーザマーカの一部として第2図(b)に示すように
使用される。TEA Co、レーザ光源6から発射され
たパルスレーザ光は反射鏡17で反射され、この透過形
マスク15を照射する。透過開口11を通過した光は、
集光レンズ7によって被加工面8に結像される。透過開
口以外に照射された光は反射面12あるいは13によっ
て反射され、透過開口11の形状が被加工面8にマーキ
ングされる。
発明が解決しようとする問題点
上述した従来のTEA CO,レーザマーカ用マスクは
、Alなどの金属板で透過開口と反射面が構成され、透
過開口11の形状は文字や数字であるが、O,Aなどの
場合完全な切抜きを行うと内部反射面13が脱落してし
まうので、外部反射面12との間に結合部16を設けな
ければならない。結合部16を設けると、被加工面8に
マーキングされた文字には線切れを生じ品質を低下させ
る。
、Alなどの金属板で透過開口と反射面が構成され、透
過開口11の形状は文字や数字であるが、O,Aなどの
場合完全な切抜きを行うと内部反射面13が脱落してし
まうので、外部反射面12との間に結合部16を設けな
ければならない。結合部16を設けると、被加工面8に
マーキングされた文字には線切れを生じ品質を低下させ
る。
問題点を解決するための手段
本発明のレーザ用反射形マスクは、レーザ光に対して透
過性のある基板上に、文字−や数字などの形状をした反
射コーティングを施した反射面を設け、その内部および
周囲は光散乱面または反射防止コーティングを施した反
射防止面で覆っである。
過性のある基板上に、文字−や数字などの形状をした反
射コーティングを施した反射面を設け、その内部および
周囲は光散乱面または反射防止コーティングを施した反
射防止面で覆っである。
作用
本発明によるレーザ用反射形マスクは、これにレーザ光
を照射し、その反射光によって加工を行えば、線切ハ、
のないマーキングが可能になる。
を照射し、その反射光によって加工を行えば、線切ハ、
のないマーキングが可能になる。
実施例
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)は本発明の実施例の斜視図である。本発明
によるレーザ用反射形マスク5は、SiあるいはGeな
ど透過性材料で作られた基板4の片面上に、光学薄膜に
よる反射コーティングが施された反射面1と、光散乱面
または光学薄膜による反射防止コーティングが施された
反射防止面2および3が設けられている。反射面1は文
字や数字などの形状をしており、反射防止面のうち2は
外部反射防止面、3は内部反射防止面である。外部反射
防止面2と内部反射防止面3との間をつなぐ結合部(第
2図(a)の16に相当するもの)は不必要である。従
って文字の線切れは生じない。
によるレーザ用反射形マスク5は、SiあるいはGeな
ど透過性材料で作られた基板4の片面上に、光学薄膜に
よる反射コーティングが施された反射面1と、光散乱面
または光学薄膜による反射防止コーティングが施された
反射防止面2および3が設けられている。反射面1は文
字や数字などの形状をしており、反射防止面のうち2は
外部反射防止面、3は内部反射防止面である。外部反射
防止面2と内部反射防止面3との間をつなぐ結合部(第
2図(a)の16に相当するもの)は不必要である。従
って文字の線切れは生じない。
このレーザ用反射形マスクの使用例を第1図(b)に示
す。TEACO,レーザ光源6から発射されたパルスレ
ーザ光は本発明による反射形マスク5によってマーキン
グパターンの部分のλが反射され5集光レンズ7によっ
て被加工面8に結像され、線切れのないマーキングが行
われる。
す。TEACO,レーザ光源6から発射されたパルスレ
ーザ光は本発明による反射形マスク5によってマーキン
グパターンの部分のλが反射され5集光レンズ7によっ
て被加工面8に結像され、線切れのないマーキングが行
われる。
以上はTEA Co、レーザによる場合であるが、反射
形マスク5の基板4の材質をガラスにすればYAGレー
ザ等にも適用可能である。
形マスク5の基板4の材質をガラスにすればYAGレー
ザ等にも適用可能である。
発明の効果
以上に説明したように、本発明によれば、基板の片面に
文字などの形状をした反射面とその内部および周囲に光
散乱面または反射防止面を設けたので、A、B、Oなど
の丸抜き文字を線切れなくマーキングすることを可能に
し、マーキングパターンの品質を向上させる効果がある
。
文字などの形状をした反射面とその内部および周囲に光
散乱面または反射防止面を設けたので、A、B、Oなど
の丸抜き文字を線切れなくマーキングすることを可能に
し、マーキングパターンの品質を向上させる効果がある
。
第1図(a)は本発明の実施例の斜視図、第1図fb)
はこれを使ったレーザマーカの構成図、第2図(a)は
従来例のレーザマーカ用マスクの斜視図、第2図fb)
はこれを使ったレーザマーカの構成図である。 1・・・・・・反射面、2・・・・・・外部反射防止(
寸たけ光散乱)面、3・・・・・・内部反射防止(また
は光散乱)面、4・・・・・・基板、5・・・・・・レ
ーザ用反射形マスク、6・・・・・・レーザ光源、7・
・・・・・集光レンズ、8・・・・・・被加工面。 −か沫勺 (d) 壬 1 図
はこれを使ったレーザマーカの構成図、第2図(a)は
従来例のレーザマーカ用マスクの斜視図、第2図fb)
はこれを使ったレーザマーカの構成図である。 1・・・・・・反射面、2・・・・・・外部反射防止(
寸たけ光散乱)面、3・・・・・・内部反射防止(また
は光散乱)面、4・・・・・・基板、5・・・・・・レ
ーザ用反射形マスク、6・・・・・・レーザ光源、7・
・・・・・集光レンズ、8・・・・・・被加工面。 −か沫勺 (d) 壬 1 図
Claims (1)
- 基板の片面上に、マーキングしようとする文字や数字な
どの形状を有する反射コーティングを施した反射面と、
その内部および周囲に光散乱面または反射防止コーティ
ングを施した反射防止面とを具備していることを特徴と
するレーザ用反射形マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60185449A JPS6245496A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | レ−ザ用反射形マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60185449A JPS6245496A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | レ−ザ用反射形マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245496A true JPS6245496A (ja) | 1987-02-27 |
Family
ID=16170989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60185449A Pending JPS6245496A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | レ−ザ用反射形マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6245496A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5716507A (en) * | 1994-12-13 | 1998-02-10 | Nippondenso Co., Ltd. | Oxygen sensor element |
| US8057950B2 (en) | 2005-05-20 | 2011-11-15 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Solid oxide fuel cell and method of manufacturing the same |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP60185449A patent/JPS6245496A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5716507A (en) * | 1994-12-13 | 1998-02-10 | Nippondenso Co., Ltd. | Oxygen sensor element |
| US8057950B2 (en) | 2005-05-20 | 2011-11-15 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Solid oxide fuel cell and method of manufacturing the same |
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