JPS6245631A - プラズマ処理装置 - Google Patents

プラズマ処理装置

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Publication number
JPS6245631A
JPS6245631A JP18609585A JP18609585A JPS6245631A JP S6245631 A JPS6245631 A JP S6245631A JP 18609585 A JP18609585 A JP 18609585A JP 18609585 A JP18609585 A JP 18609585A JP S6245631 A JPS6245631 A JP S6245631A
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JP
Japan
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plasma
bumpers
carbon steel
storage chamber
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP18609585A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Shirohige
白髭 誠男
Katsuhide Manabe
勝英 真部
Yasuhiko Ogisu
康彦 荻巣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
Priority to JP18609585A priority Critical patent/JPS6245631A/ja
Publication of JPS6245631A publication Critical patent/JPS6245631A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
    • B29C59/142Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment of profiled articles, e.g. hollow or tubular articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 (産業上の利用分野) 本発明は、収容室内の複数個のハンガーにバンパーその
他の合成樹脂成形品を載置し、その表面にプラズマ処理
を施すことにより塗料などの密着性を向上させるプラズ
マ処理装置に係わり、詳しくはプラズマガスによる酸化
を防止するための被膜処理を施したプラズマ処理装置に
関するものである。
(従来の技術) ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)などの
ポリオレフィン系熱可塑性樹脂や各種熱硬化性樹脂は塗
料や接着剤に対する密着性に乏しく、これらを塗布して
も塗膜の剥離が生じやすいために各種の前処理法が採用
されているが、近年、減圧下における放電処理により合
成樹脂基材表面を改質するプラズマ処理法が多用される
ようになった。
上記プラズマ処理を行うための装置としては本願出願人
が先に出願した特願昭58−236546号に示す装置
を例示することができる。
(発明が解決しようとする問題点) ところが、上記装置においてはプラズマ噴射管から噴射
される酸素プラズマガスによって収容室内全体が極めて
活性化された雰囲気になるため、収容室内壁やプラズマ
噴射管、ハンガーなどを構成する基材には耐食性に優れ
たステンレス・スチールが採用されている。
シカシ、ステンレス・スチールは加工性に乏しく、しか
も高価であるため、バンパーなどの大型成形品を処理す
るプラズマ装置の製造コストは高価なものになってしま
うという問題点がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、安
価で加工性の良好な基材を用い、酸化防止機能に優れた
プラズマ処理装置を提供することにある。
発明の構成 (問題点を解決するための手段) すなわち、本発明は合成樹脂バンパー等の被塗装品を収
容する収容室と、同収容室内壁に配設され、同収容室内
へプラズマガスを噴射するプラズマ噴射管と、同収容室
内を減圧する排気口と、被塗装品がR置される複数個の
ハンガーとを備えたプラズマ処理装置において、少なく
ともハンガー基材の表面に塗装、湿式メッキあるいは乾
式メッキ(蒸着、スパッタリング、イオンブレーティン
グなど)による酸化防止被膜を形成したことを特徴とす
るプラズマ処理装置を採用することにより、上記問題点
の解決を図ったものである。
(作用) 上記プラズマ処理装置を構成する収容室の内壁、プラズ
マ噴射管、ハンガーなどの各基材、とりわけプラズマ照
射量の多いハンガーの基材に安価で加工性の良好な材料
を使用し、その表面に塗装、湿式メッキあるいは乾式メ
ッキなどによる酸化防止被膜を形成することにより、耐
食性に優れ、かつ、安価な装置を得ることができる。
(実施例) 以下、本発明を車両用バンパーの表面をプラズマ処理す
る装置に具体化した一実施例につき、第1〜7図に従っ
て説明する。
まず、第1図に示すように、本実施例の収容室1は中空
円筒状に形成され、その正面壁には図示しない扉が設け
られるとともに、その内部を気密状態にすることができ
るようになっている。
収容室1の内壁材は炭素鋼をプレス加工した板材であっ
て、リン酸亜鉛被膜処理が施された後、熱硬化性アクリ
ル樹脂塗料からなる塗膜8aが形成すれて酸素プラズマ
ガスの照射による基材の腐食が防止されるようになって
いる。
また、この収容室1の右側壁中央部には同じく表面に熱
硬化性アクリル樹脂塗料からなる塗膜8aが形成された
排気口2が設けられ、バルブ2aの開閉操作により収容
室1内を所望の気圧に調節することができるようになっ
ている。さらに、この排気口2は図示しない吸引ポンプ
に接続され、収容室1内を所望する気圧に減圧できるよ
うになっている。
次に、この収容室1内壁の排気口2下部付近には、表面
にメッキ処理によるクロム被膜8bの施された炭素鋼材
製のプラズマ噴射管3が配設されている。また、このプ
ラズマ噴射管3は可人管4を介して図示しないプラズマ
発生装置に接続されており、同装置から供給される酸素
のプラズマガスを収容室1内に噴射するようになってい
る。
さらに、第3図に示すようにこのプラズマ噴射管3には
多数の噴射口5が形成されている。
なお、これらの噴射口5はプラズマ噴射管3の中央部か
ら両端部に向かって配置間隔およびその内径が漸増し、
かつ、垂直面Sに対して前側へ所定角度θノ(本実施例
では30度)傾斜して開口するもの5aと後側へ所定角
度θ2(本実施例では30度)傾斜して開口するもの5
bとが交互に配列されている。
次に、第1〜2図に示すように収容室1内にはその底部
の基台10上に回転装置11が収納されている。この回
転装置llは四角枠状のフレーム12とその両側に互い
に対向された一対の支柱13a、13bとにより支持さ
れており、概略以下のように構成されている。
すなわち、両支社13a、13bの上端部間には回転軸
14が、また、この回転軸14の正面側端部には鎖車2
1aがそれぞれ嵌挿されている。
また、フレーム12上には一軸綿の周りで回転する鎖車
21b、伝達ギア23がそれぞれ設けられ、この伝達ギ
ア23には図示しない駆動モータ−によって回転駆動さ
れる駆動ギア25が噛合されている。さらにまた、両鎖
車21a、21b間にはチェーン24が掛装されており
、駆動ギア25の回転にともなって伝達ギア23、鎖車
21b、ヂエーン24および鎖車21aを介して回転軸
14が回転されるようになっている。
上記基台10、フレーム12、支柱13a、13bおよ
び回転軸14はいずれも炭素鋼材からなり、その表面に
はいずれも前記熱硬化性アクリル樹脂塗料からなる塗膜
が形成されている。
次に、この回転軸14の両端には同じく表面に前記塗料
の塗膜が形成された一対の炭素鋼製支持円盤15a、1
5bが一体回転可能に固着されており、さらにこれらの
支持円盤15a、15b間にはポリプロピレン、ポリウ
レタンなどの合成樹脂バンパーBを載置するだめのハン
ガー16が所定の角度間隔をおいて大台設けられている
第7図に示すように、各ハンガー16は板材を折曲げ形
成してなる一対の支持片17と、それらの下面にあって
平行に架設された一対の架設棒18a、18bと、これ
らの架設棒18a、18bを連結する連結棒19と、バ
ンパーBの端部を支えるためのネット20とから構成さ
れている。
また、上記ハンガー16、支持片17、架設棒18a、
18b、連結棒19およびネット20はいずれも炭素鋼
材からなり、その表面には酸化防止を目的として高周波
イオンブレーティング法による酸化ニッケルの薄膜層が
形成されている。
なお、各ハンガー16は両支持片17の」二端部位置で
金具22を介して両支持円盤15a、15bにそれぞれ
相対回転可能に取着されているため、回転軸14すなわ
ち支持円盤15a、15bの静止時および回転時におい
て、常に水平に保たれるようになっている。
次に、上記構成からなる本実施例のプラズマ処理装置を
用いたポリプロピレン製バンパーBの処理工程を説明す
る。
まず、収容室1の扉を開いてその中央部に収納されてい
る回転装置11をフレーム12とともに手前方向にスラ
イドさせ、プラズマ処理の施されルハンバーBを各ハン
ガー16の所定位置に載置する。次いで、回転装置11
を収容室1の中央部るまで減圧する。収容室11内が所
定圧まで減圧されたらバルブ2aを閉じ、駆動モーター
を作動させることにより支持円盤15a、15bを回転
させる。このとき、バンパーBの載置された各ハンガー
16はその上端部位置で両支持円盤15a。
15bにそれぞれ相対回転可能に取着されているため、
バンパーBは水平状態を保持したまま両支持円盤15a
、15bとともに回転することになる。一方、回転装置
11の始動と同時にプラズマ発生装置が作動し、ここか
ら供給されるプラズマガスが導入管4を経てプラズマ噴
射管3の各噴射口5から収容室1内に噴射される。
このとき、排気口2に設けられたバルブ2aは゛キ干開
放され、プラズマガスの噴射による気圧上騨を防いで収
容室1内が常に所定圧に保たれるようになっている。
上記プラズマ処理装置の収容室1の内壁および回転装置
11の主要部の表面にはいずれも酸化防止のための各種
被膜が形成されているため、長期間の使用においても基
材(炭素鋼)の腐食を防止することができる。また、従
来のステンレス・スチールを用いたプラズマ処理装置に
比べて安価で加工性の良好な基材を用いているため、装
置の製造コストは極めて安価である。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
その要旨を逸脱しない範囲で細部の仕様を適宜変更する
ことが可能である。例えば、■ 熱硬化性アクリル樹脂
傅料に代え、アミノアルキッド系、アクリル変性アルキ
ッド系、エポキシ系およびウレタン系塗料など、耐食性
の良好な各種の塗料を用いてもよ(、メッキもクロムの
みならずニッケルその他各種の金属を用いることも可能
である。
■ 高周波イオンブレーティング法のみならずスパッタ
リング法、真空蒸着法などの各種乾式メッキ法を用いて
耐食性の良好な各種金属並びに金属酸化物からなる被膜
を形成してもよい。
■ 基材としては炭素鋼のみならず他の安価な金属を用
いてもよく、部分的には合成樹脂を使用することも可能
である。
■ 複数のプラズマ噴射管を備えた他のタイプのプラズ
マ処理装置にも適用可能である。
発明の効果 以上詳述したように、本発明のプラズマ処理装置は、装
置を構成する収容室の内壁、プラズマ噴射管、支持円盤
、ハンガーなどの各基材に安価で加工性の良好な材料を
使用し、さらにそれら基材の表面、とりわけプラズマ照
射量の多いハンガーの基材表面に塗装、湿式メンキある
いは乾式メッキなどによる酸化防止被膜を形成したもの
であって、耐食性に優れ、かつ、製造コストも安価であ
るという効果を発揮し、プラズマ処理装置として優れた
発明である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を具体化したプラズマ処理装置の一実施
例を示す断面図、第2図は第1図の斜視図・第3図は噴
射管の正面図、第4図は噴射管の破断面を示す部分拡大
図、第5図は第3図のA−A線断面図、第6図は第3図
のB−B線断面図、また、第7図はハンガーの端部を示
す拡大斜視図である。 1・・収容室、2・・排気口、5・・噴射口、3・・プ
ラズマ噴射管、B・・合成樹脂バンパー。 特許出願人       豊田合成株式会社代理人  
   弁理士     恩田博宣第2図 図面その2 図面その4 待図WJ無し 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、合成樹脂バンパー(B)等の被塗装品を収容する収
    容室(1)と、同収容室(1)内壁に配設され、同収容
    室(1)内へプラズマガスを噴射するプラズマ噴射管(
    3)と、同収容室(1)内を減圧する排気口(2)と、
    被塗装品が載置される複数個のハンガー(16)とを備
    えたプラズマ処理装置において、少なくともハンガー(
    16)基材の表面には酸化防止被膜(8)が形成されて
    いることを特徴とするプラズマ処理装置。
JP18609585A 1985-08-24 1985-08-24 プラズマ処理装置 Pending JPS6245631A (ja)

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JP18609585A JPS6245631A (ja) 1985-08-24 1985-08-24 プラズマ処理装置

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JP18609585A JPS6245631A (ja) 1985-08-24 1985-08-24 プラズマ処理装置

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JPS6245631A true JPS6245631A (ja) 1987-02-27

Family

ID=16182278

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18609585A Pending JPS6245631A (ja) 1985-08-24 1985-08-24 プラズマ処理装置

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JP (1) JPS6245631A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5513417A (en) * 1993-07-19 1996-05-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Silencing device for vacuum cleaner

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5513417A (en) * 1993-07-19 1996-05-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Silencing device for vacuum cleaner

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