JPH027646Y2 - - Google Patents
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- JPH027646Y2 JPH027646Y2 JP10907384U JP10907384U JPH027646Y2 JP H027646 Y2 JPH027646 Y2 JP H027646Y2 JP 10907384 U JP10907384 U JP 10907384U JP 10907384 U JP10907384 U JP 10907384U JP H027646 Y2 JPH027646 Y2 JP H027646Y2
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- Japan
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- storage chamber
- injection
- plasma
- plasma processing
- processing apparatus
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Landscapes
- Nozzles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
考案の目的
(産業上の利用分野)
この考案はバンパーその他の合成樹脂製品の被
塗装面にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理
装置に係り、詳しくはプラズマを噴射するための
プラズマ噴射管に噴射管に関するものである。
塗装面にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理
装置に係り、詳しくはプラズマを噴射するための
プラズマ噴射管に噴射管に関するものである。
(従来の技術)
P.P.(ポリプロピレン)、P.E.(ポリエチレン等
の非極性樹脂材料にて形成された合成樹脂製品は
一般に塗着性が悪く、塗装等を施しても剥離し易
いという問題があつた。そこで、近年、その塗装
面を活性化させて塗料等を塗着し易くするという
プラズマ処理が行なわれつつある。
の非極性樹脂材料にて形成された合成樹脂製品は
一般に塗着性が悪く、塗装等を施しても剥離し易
いという問題があつた。そこで、近年、その塗装
面を活性化させて塗料等を塗着し易くするという
プラズマ処理が行なわれつつある。
この種の装置としては本願出願人が先に出願し
た特願昭58−236546号(特開昭60−129157号公
報)に示す装置が提案されている。すなわち、第
7図に示すプラズマ処理装置であつて、合成樹脂
製のバンパーB等の被塗装品を収容する密封可能
な収容室51と、その被塗装品の表面にプラズマ
処理を施すためのプラズマガスを噴射する1個の
プラズマ噴射管52と、前記収容室51内を減圧
するための排気口55とを備えている。また、前
記収容室51内には一軸線の周りで回転する一対
の支持円盤53a,53bを設けるとともに、両
支持円盤53a,53b間に被塗装品を載置する
ための複数の支持台54を相対回動可能に支持し
た構造を有している。
た特願昭58−236546号(特開昭60−129157号公
報)に示す装置が提案されている。すなわち、第
7図に示すプラズマ処理装置であつて、合成樹脂
製のバンパーB等の被塗装品を収容する密封可能
な収容室51と、その被塗装品の表面にプラズマ
処理を施すためのプラズマガスを噴射する1個の
プラズマ噴射管52と、前記収容室51内を減圧
するための排気口55とを備えている。また、前
記収容室51内には一軸線の周りで回転する一対
の支持円盤53a,53bを設けるとともに、両
支持円盤53a,53b間に被塗装品を載置する
ための複数の支持台54を相対回動可能に支持し
た構造を有している。
ところが、本装置において、プラズマ噴射管5
2は前記収容室51内に一本しかなく、噴射管5
2の長さも被塗装品の長さより短いか高々等しい
程度の長さしかなかつた。このため、バンパーB
等の大型の被塗装品にプラズマ処理を施す場合、
バンパーB自体を公転させても、バンパーBの両
端部まで均一にプラズマ処理をするためには、長
い処理時間を必要としていた。
2は前記収容室51内に一本しかなく、噴射管5
2の長さも被塗装品の長さより短いか高々等しい
程度の長さしかなかつた。このため、バンパーB
等の大型の被塗装品にプラズマ処理を施す場合、
バンパーB自体を公転させても、バンパーBの両
端部まで均一にプラズマ処理をするためには、長
い処理時間を必要としていた。
(考案が解決しようとする問題点)
本考案はプラズマ噴射管から噴射されたプラズ
マガスにより被塗装品全体を均一に活性化させる
ために長い処理時間を必要とするという問題点を
解決するためのものである。
マガスにより被塗装品全体を均一に活性化させる
ために長い処理時間を必要とするという問題点を
解決するためのものである。
考案の構成
(問題点を解決するための手段)
本考案は上記問題点に鑑み合成樹脂製バンパー
等の被塗装品を収容する収容室と、同収容室内へ
プラズマガスを噴射するプラズマ噴射管と、前記
収容室内を減圧する排気口とを備えたプラズマ処
理装置において、前記収容室内に前記被塗装品よ
りも長く、かつ、両端部まで噴射口を有する複数
の噴射室を収容室内周面に対して設けるという構
成を採つている。
等の被塗装品を収容する収容室と、同収容室内へ
プラズマガスを噴射するプラズマ噴射管と、前記
収容室内を減圧する排気口とを備えたプラズマ処
理装置において、前記収容室内に前記被塗装品よ
りも長く、かつ、両端部まで噴射口を有する複数
の噴射室を収容室内周面に対して設けるという構
成を採つている。
(作用)
3つの噴射管から噴射されたプラズマガスはす
みやかに収容室内に広がるとともに被塗装品表面
全体を短時間で均一に活性化する。
みやかに収容室内に広がるとともに被塗装品表面
全体を短時間で均一に活性化する。
(実施例)
以下、この考案を自動車のバンパー表面を活性
化させるためのプラズマ処理装置に具体化した一
実施例を第1〜6図にしたがつて説明する。
化させるためのプラズマ処理装置に具体化した一
実施例を第1〜6図にしたがつて説明する。
前記プラズマ処理装置の気密状の収容室1は中
空円筒状に形成され、第1図において、その正面
壁には収容室1を開閉し得る扉(図示しない)が
設けられている。また、前記第1図において、右
側壁中央部には前記収容室1内を減圧するための
排気口2が形成されており、パルプ2aを有して
いる。前記排気口2の下部内面には収容室1の軸
心方向に延びる酸素等のプラズマガスを噴射する
ための第1のステンレス製噴射管3が設けられて
いる。前記噴射管3aの位置から収容室1の中心
を回転中心として90度だけ反時計回りに回動した
位置には第2噴射管3bが同様に設けられてお
り、さらに90度反時計回りに回動した位置には第
3噴射管3cが同様に設けられている。そして、
3つの噴射管3a,3b,3cはバンパーBの全
長よりも、約1割ずつ両端部において長くなるよ
うに形成されている。前記3つの噴射管3a,3
b,3cの位置関係を述べると、同噴射管3a,
3b,3cは収容室1の軸心方向と各々平行に配
置されるとともに、収容室1内周面に設けられて
いる。
空円筒状に形成され、第1図において、その正面
壁には収容室1を開閉し得る扉(図示しない)が
設けられている。また、前記第1図において、右
側壁中央部には前記収容室1内を減圧するための
排気口2が形成されており、パルプ2aを有して
いる。前記排気口2の下部内面には収容室1の軸
心方向に延びる酸素等のプラズマガスを噴射する
ための第1のステンレス製噴射管3が設けられて
いる。前記噴射管3aの位置から収容室1の中心
を回転中心として90度だけ反時計回りに回動した
位置には第2噴射管3bが同様に設けられてお
り、さらに90度反時計回りに回動した位置には第
3噴射管3cが同様に設けられている。そして、
3つの噴射管3a,3b,3cはバンパーBの全
長よりも、約1割ずつ両端部において長くなるよ
うに形成されている。前記3つの噴射管3a,3
b,3cの位置関係を述べると、同噴射管3a,
3b,3cは収容室1の軸心方向と各々平行に配
置されるとともに、収容室1内周面に設けられて
いる。
第3〜5図に示すように前記噴射管3a,3
b,3cのほぼ中央に形成されたプラズマ導入口
(図示しない)には導入管4が接続され、その端
部が収容室1外のプラズマ供給装置(図示しな
い)に接続される。導入口の両側にて噴射管3
a,3b,3cの外周には噴射管3a,3b,3
cの端部側に向かつた配置間隔が漸滅し、かつ内
径が漸増する多数の噴射管5が形成されている。
そして、各噴射口5は垂直面Sに対して前側へ所
定角度θ1(この実施例では30度)傾斜する方向
に開口するもの5aと、後側へ所定角度θ2(こ
の実施例では30度)傾斜する方向へ開口するもの
5bとから構成されている。そして、前側へ傾斜
する噴射口5aと後側へ傾斜する噴射口5bとが
交互に配設されている。
b,3cのほぼ中央に形成されたプラズマ導入口
(図示しない)には導入管4が接続され、その端
部が収容室1外のプラズマ供給装置(図示しな
い)に接続される。導入口の両側にて噴射管3
a,3b,3cの外周には噴射管3a,3b,3
cの端部側に向かつた配置間隔が漸滅し、かつ内
径が漸増する多数の噴射管5が形成されている。
そして、各噴射口5は垂直面Sに対して前側へ所
定角度θ1(この実施例では30度)傾斜する方向
に開口するもの5aと、後側へ所定角度θ2(こ
の実施例では30度)傾斜する方向へ開口するもの
5bとから構成されている。そして、前側へ傾斜
する噴射口5aと後側へ傾斜する噴射口5bとが
交互に配設されている。
前記第1噴射管3aの下方には基台10が設け
られており、同基台10の上部には後述する回転
装置11が設けられている。同回転装置11は第
2図に示すようにスライド可能な機構(図示しな
い)を有する四角枠状のフレーム12と、同フレ
ーム12の両側に互いに対向する支柱13より支
持されており、次に述べる構造を有している。す
なわち、両支柱13の上端部間には回転軸14が
回転可能に支持され、その回転軸14の両端には
一対の支持円盤15a,15bが一体回転可能に
固着されている。前記支持円盤15a,15bの
内側面には被塗装置品、例えば、ポリプロピレン
等の合成樹脂からなるバンパーBを載置するため
の3個の支持台16が所定の角度間隔をおいて配
設されている。
られており、同基台10の上部には後述する回転
装置11が設けられている。同回転装置11は第
2図に示すようにスライド可能な機構(図示しな
い)を有する四角枠状のフレーム12と、同フレ
ーム12の両側に互いに対向する支柱13より支
持されており、次に述べる構造を有している。す
なわち、両支柱13の上端部間には回転軸14が
回転可能に支持され、その回転軸14の両端には
一対の支持円盤15a,15bが一体回転可能に
固着されている。前記支持円盤15a,15bの
内側面には被塗装置品、例えば、ポリプロピレン
等の合成樹脂からなるバンパーBを載置するため
の3個の支持台16が所定の角度間隔をおいて配
設されている。
第6図に示すように、各支持台16は金属板に
て折曲形成された一対の支持片17と、両支持片
17間に架設された架設棒18aと、各架設棒1
8aの各端部間を連結するように各支持片17の
下面に配設された連結棒18bとから構成され、
各支持片17はその上端部において金具19等に
より各支持円盤15a,15bに相対回転可能に
支持されている。従つて、前記回転軸14及び支
持円盤15a,15bの回転時及び静止時におい
て各支持台16は水平位置に保持される。また、
各支持片17の中央切欠部にはプラズマガスの通
過を許容するためのネツト20が調節されてい
る。
て折曲形成された一対の支持片17と、両支持片
17間に架設された架設棒18aと、各架設棒1
8aの各端部間を連結するように各支持片17の
下面に配設された連結棒18bとから構成され、
各支持片17はその上端部において金具19等に
より各支持円盤15a,15bに相対回転可能に
支持されている。従つて、前記回転軸14及び支
持円盤15a,15bの回転時及び静止時におい
て各支持台16は水平位置に保持される。また、
各支持片17の中央切欠部にはプラズマガスの通
過を許容するためのネツト20が調節されてい
る。
また、第1図に示すように、前記回転軸14の
正面側端部には鎖車21が挿嵌されるとともに、
前記フレーム12上には一軸線上の回りで回転す
る鎖車22及び伝達ギア23が設けられ、両鎖車
21,22間にはチエーン24が掛装されるとと
もに、前記伝達ギア23には図示しない駆動モー
タにて回転駆動される駆動ギア25が噛合されて
いる。
正面側端部には鎖車21が挿嵌されるとともに、
前記フレーム12上には一軸線上の回りで回転す
る鎖車22及び伝達ギア23が設けられ、両鎖車
21,22間にはチエーン24が掛装されるとと
もに、前記伝達ギア23には図示しない駆動モー
タにて回転駆動される駆動ギア25が噛合されて
いる。
そして、駆動ギア25の回転に伴い、伝達ギア
23、鎖車22、チエーン24及び鎖車21を解
して回転軸14とともに支持円盤15a,15b
が回転される。
23、鎖車22、チエーン24及び鎖車21を解
して回転軸14とともに支持円盤15a,15b
が回転される。
次に、その作用効果を説明する。
まず、前記収容室1の扉を開き、前記回転装置
11をフレーム12とともに収容室1外方向にス
ライドさせ、各支持台にプラズマ処理を施すバン
パーをBを載置する。
11をフレーム12とともに収容室1外方向にス
ライドさせ、各支持台にプラズマ処理を施すバン
パーをBを載置する。
続いて、前記回転装置11を収容室1内にスラ
イドさせるとともに、収容室1の扉を閉じ排気口
2のバルブ2aを開き、収容室1内を所定圧に減
圧する(減圧装置は図示しない)。所定圧に達す
ると前記バルブ2aを閉じ前記回転装置11の駆
動モータを作動させれば、駆動ギヤ25、伝達ギ
ヤ23、鎖車22、チエーン24及び鎖車21を
解して回転軸14及び支持円盤15が回転され、
かつバンパーBとともに各支持台16がその上端
部を中心として各支持円盤15に対し相対回動し
ながら、各支持円盤15の回転中においても各バ
ンパーBが水平状態に保持される。
イドさせるとともに、収容室1の扉を閉じ排気口
2のバルブ2aを開き、収容室1内を所定圧に減
圧する(減圧装置は図示しない)。所定圧に達す
ると前記バルブ2aを閉じ前記回転装置11の駆
動モータを作動させれば、駆動ギヤ25、伝達ギ
ヤ23、鎖車22、チエーン24及び鎖車21を
解して回転軸14及び支持円盤15が回転され、
かつバンパーBとともに各支持台16がその上端
部を中心として各支持円盤15に対し相対回動し
ながら、各支持円盤15の回転中においても各バ
ンパーBが水平状態に保持される。
前記回転装置11の駆動と同時に、前記導入管
4を解して各々の噴射室3a,3b,3cに酸素
等のプラズマガスを導入すれば、各噴射口5より
プラズマガスが均一的に噴射される。また、前記
排気口2はバルブ2aを少し開くことによつて、
収容室1内を減圧して、プラズマガスの供給によ
つて生ずる収容室1内の圧力上昇を防ぎ、所定圧
力に保つようにしている。
4を解して各々の噴射室3a,3b,3cに酸素
等のプラズマガスを導入すれば、各噴射口5より
プラズマガスが均一的に噴射される。また、前記
排気口2はバルブ2aを少し開くことによつて、
収容室1内を減圧して、プラズマガスの供給によ
つて生ずる収容室1内の圧力上昇を防ぎ、所定圧
力に保つようにしている。
このとき、3つの噴射管3a,3b,3cの各
噴射口5から一斉にプラズマガスが噴射されるた
め、噴射管3a1本のみの場合に比べ、はるかに
短時間で収容室1内全体にプラスラマガスが行き
渡る。
噴射口5から一斉にプラズマガスが噴射されるた
め、噴射管3a1本のみの場合に比べ、はるかに
短時間で収容室1内全体にプラスラマガスが行き
渡る。
また、前記噴射管3a,3b,3cが同一内周
面上に互いに平行状態で収容室1の内壁に設けら
れているため、バンパーBが前記回転軸14を回
転中心として一回転する間に3回プラスラマガス
の直接噴射を受けることとなり、プラズマ処理効
率を上げることができ、処理時間も1/3〜1/2程度
に短縮することができる。さらに、前記各々の噴
射管3a,3b,3cの全長が被塗装品としての
バンパーBの全長よりも両側において約1割づつ
長いため、バンパーBの両端部までプラズマガス
の直接噴射を受けることができ、バンパーB表面
を均一に活性化させることができる。
面上に互いに平行状態で収容室1の内壁に設けら
れているため、バンパーBが前記回転軸14を回
転中心として一回転する間に3回プラスラマガス
の直接噴射を受けることとなり、プラズマ処理効
率を上げることができ、処理時間も1/3〜1/2程度
に短縮することができる。さらに、前記各々の噴
射管3a,3b,3cの全長が被塗装品としての
バンパーBの全長よりも両側において約1割づつ
長いため、バンパーBの両端部までプラズマガス
の直接噴射を受けることができ、バンパーB表面
を均一に活性化させることができる。
なお、本考案は前記実施例に限定されるもので
はなく、例えば、次のように具体化することも可
能である。
はなく、例えば、次のように具体化することも可
能である。
前記噴射管3cから90度だけ反時計回りに回
転した位置にもう1つの噴射管を設けること。
転した位置にもう1つの噴射管を設けること。
前記噴射管3a,3b,3cの長さを両端部
において、非塗装品の長さに対してさらに1割
程度長くすること。
において、非塗装品の長さに対してさらに1割
程度長くすること。
前記噴射口5の形状及び配列は本実施例に限
定されるものではなく、例えば噴射口5の断面
形状をだ円状にしたり、配列も前記所定角θ1
及びθ2を0〜60度程度の範囲で任意に設定し
ても良い。
定されるものではなく、例えば噴射口5の断面
形状をだ円状にしたり、配列も前記所定角θ1
及びθ2を0〜60度程度の範囲で任意に設定し
ても良い。
(考案の効果)
以上詳述したように、本考案はプラズマガスを
噴射する噴射管を複数本設けたことにより、きわ
めて短い時間で収容室全体にプラスラマガスを行
き渡せることができるとともに、噴射管の長さを
被塗装品の長さよりも長くし、回転装置の上方に
設けたことにより回転装置の一回の回転で数回の
プラズマガスの直接噴射を受けることができるた
めプラズマ処理時間を短縮することができるばか
りでなく、被塗装品全体を均一に処理することが
できるという優れた効果を奏する。
噴射する噴射管を複数本設けたことにより、きわ
めて短い時間で収容室全体にプラスラマガスを行
き渡せることができるとともに、噴射管の長さを
被塗装品の長さよりも長くし、回転装置の上方に
設けたことにより回転装置の一回の回転で数回の
プラズマガスの直接噴射を受けることができるた
めプラズマ処理時間を短縮することができるばか
りでなく、被塗装品全体を均一に処理することが
できるという優れた効果を奏する。
第1図は本考案を具体化したプラズマ処理装置
を示す断面図、第2図は第1図の斜視図、第3図
は噴射管の正面図、第4図は第3図におけるA−
A線断面図、第5図は第3図におけるB−B線断
面図、第6図は支持台の一部を示す拡大斜視図、
第7図は従来のプラズマ装置を示す斜視図であ
る。 合成樹脂製バンパー……B、収容室……1、プ
ラズマ噴射管……3a,3b,3c、排気口……
2、噴射口……5。
を示す断面図、第2図は第1図の斜視図、第3図
は噴射管の正面図、第4図は第3図におけるA−
A線断面図、第5図は第3図におけるB−B線断
面図、第6図は支持台の一部を示す拡大斜視図、
第7図は従来のプラズマ装置を示す斜視図であ
る。 合成樹脂製バンパー……B、収容室……1、プ
ラズマ噴射管……3a,3b,3c、排気口……
2、噴射口……5。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 合成樹脂製バンパーB等の被塗装品を収容す
る収容室1と、同収容室1内へプラズマガスを
噴射するプラズマ噴射管3aと、前記収容室1
内を減圧する排気口2とを備えたプラズマ処理
装置において、前記収容室1内に前記被塗装品
よりも長く、かつ、両端部まで噴射口5を有す
る複数の噴射管3a,3b,3cを収容室1内
周面に対して設けたことを特徴とするプラズマ
処理装置。 2 前記噴射管3a,3b,3cは前記収容室1
内に等間隔をおいて3本設けられていることを
特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項記載
のプラズマ処理装置。 3 前記3本の噴射管3a,3b,3cは前記収
容室1の1つの噴射管3aから収容室1の中心
部を基準として90度ごとに設けられていること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第2項記
載のプラズマ処理装置。 4 前記噴射管3a,3b,3cの長さは両端に
おいて被塗装品の全長より約1割ずつ長くなつ
ていることを特徴とする実用新案登録請求の範
囲第1項記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10907384U JPS6125972U (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | プラズマ処理装置 |
| DE19853520924 DE3520924A1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasmaverfahrensanlage |
| CA000483614A CA1249926A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasma processing apparatus |
| US06/744,061 US4668479A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing apparatus |
| AU43492/85A AU565026B2 (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10907384U JPS6125972U (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6125972U JPS6125972U (ja) | 1986-02-15 |
| JPH027646Y2 true JPH027646Y2 (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=30668240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10907384U Granted JPS6125972U (ja) | 1984-06-12 | 1984-07-19 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6125972U (ja) |
-
1984
- 1984-07-19 JP JP10907384U patent/JPS6125972U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6125972U (ja) | 1986-02-15 |
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