JPS6248162B2 - - Google Patents
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- JPS6248162B2 JPS6248162B2 JP18766080A JP18766080A JPS6248162B2 JP S6248162 B2 JPS6248162 B2 JP S6248162B2 JP 18766080 A JP18766080 A JP 18766080A JP 18766080 A JP18766080 A JP 18766080A JP S6248162 B2 JPS6248162 B2 JP S6248162B2
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、曲面形状を有する物体のある基準位
置からの等高位置を計測し、結果的にその物体の
形状を測定する方法に関するものである。
置からの等高位置を計測し、結果的にその物体の
形状を測定する方法に関するものである。
従来、モアレ縞を利用して立体形状を測定する
方法は知られているが、このモアレ方式では対象
物体の形状を等高線に相当する縞によつて表示で
きるとしても対象物体が凸または凹のいずれの方
向に変形しているのか不明であり、また縞が太く
なるとその中心位置が不明で精度のよい測定を行
うことができない。
方法は知られているが、このモアレ方式では対象
物体の形状を等高線に相当する縞によつて表示で
きるとしても対象物体が凸または凹のいずれの方
向に変形しているのか不明であり、また縞が太く
なるとその中心位置が不明で精度のよい測定を行
うことができない。
本発明は、このような問題を解決した物体形状
の測定方法を提供しようとするものである。
の測定方法を提供しようとするものである。
本発明の詳細な説明に先立ち、まず、第１図な
いし第３図を参照して本発明の基本的な測定原理
について説明する。
いし第３図を参照して本発明の基本的な測定原理
について説明する。
第１図において、投影装置１０はスリツト光
（スリツトは紙面に垂直）からなる投射光を対象
物体１１に投影するもので、上記投射光が光軸と
交る回転中心、例えば投影レンズ等の中心点Ｐに
おいて回転し、そのときの回転量が点Ｐからl1だ
け離れた位置にある軸線Ｌ上において一定ピツチ
Δｘの直線的移動で与えられるように構成する。
（スリツトは紙面に垂直）からなる投射光を対象
物体１１に投影するもので、上記投射光が光軸と
交る回転中心、例えば投影レンズ等の中心点Ｐに
おいて回転し、そのときの回転量が点Ｐからl1だ
け離れた位置にある軸線Ｌ上において一定ピツチ
Δｘの直線的移動で与えられるように構成する。
一方、ITVカメラ等からなる受光装置１２は、
その光電変換面１３を上記軸線Ｌ上に配置し、受
光レンズの中心点Ｑを上記投影レンズと同様に軸
線Ｌからl1だけ離れた位置に配置して、対象物体
１１からの反射方向が光電変換素子で受光される
ように構成する。
その光電変換面１３を上記軸線Ｌ上に配置し、受
光レンズの中心点Ｑを上記投影レンズと同様に軸
線Ｌからl1だけ離れた位置に配置して、対象物体
１１からの反射方向が光電変換素子で受光される
ように構成する。
このような構成を有する装置において、軸線Ｌ
上の点P1を通る投射光を点Ｐを通して対象物体１
１に投影したとすると、対象物体上の点A1でそ
の投射光が反射し、点Ｑを通つて光電変換面上の
点Q1にその像が得られる。また、投射光を点Ｐ
において回転させ、点P2から点Ｐを通して対象物
体１１に投射したとすると、その投射光は対象物
体１１上の点A2で反射して光電変換面上の点Q2
に結像する。
上の点P1を通る投射光を点Ｐを通して対象物体１
１に投影したとすると、対象物体上の点A1でそ
の投射光が反射し、点Ｑを通つて光電変換面上の
点Q1にその像が得られる。また、投射光を点Ｐ
において回転させ、点P2から点Ｐを通して対象物
体１１に投射したとすると、その投射光は対象物
体１１上の点A2で反射して光電変換面上の点Q2
に結像する。
ここで、対象物体１１上の点A1，A2が上記点
Ｐ，Ｑを結ぶ直線から距離l2だけ離れた等高面上
にあるとすると、 P1P2：A1A2＝Q1Q2：A1A2＝l1：l2 であるため、 P1P2＝Q1Q2 となり、即ち点P1，P2から発した投射光がそれぞ
れ対象物体の等高位置（PQを通り、紙面に垂直
な平面から等距離にある点）で反射して光電変換
面上に像をつくるとき、その像間の間隔Q1Q2は
必ずP1P2の長さに等しくなる。逆に、点P1，P2か
ら発した投射光がP1P2と等しい間隔で結像しない
ときには、それらの点が等高面上に存在しないこ
とになる。
Ｐ，Ｑを結ぶ直線から距離l2だけ離れた等高面上
にあるとすると、 P1P2：A1A2＝Q1Q2：A1A2＝l1：l2 であるため、 P1P2＝Q1Q2 となり、即ち点P1，P2から発した投射光がそれぞ
れ対象物体の等高位置（PQを通り、紙面に垂直
な平面から等距離にある点）で反射して光電変換
面上に像をつくるとき、その像間の間隔Q1Q2は
必ずP1P2の長さに等しくなる。逆に、点P1，P2か
ら発した投射光がP1P2と等しい間隔で結像しない
ときには、それらの点が等高面上に存在しないこ
とになる。
従つて、上記軸線Ｌ上において投影装置を回転
させるためのある一定のピツチΔｘの直線的移動
を与えて、点P1，P2，……からのスリツト光を順
次対象物体１１上に投射し、その反射光を受光装
置１２の光電変換面に結像させると、第２図に示
すように、光電変換面１３上において対象物体の
表面の凹凸に応じて湾曲した像I1，I2，……が得
られ、これらの像I1，I2，……と、前記投影装置
を回転させるためのピツチΔｘに相応する間隔を
もつた走査線L1，L2との交点a1，a2，……，b1，
b2，……を求めれば、それらの点群がすべて同一
の等高面上にあり、その接続によつて等高線を得
ることができる。さらに具体的に説明すると、ま
ず、最初のスリツト光で光電変換面上に変形像I1
を得たとき、光電変換面を走査して走査線L1と
スリツト光の像I1との交点a1，b1を求め、次にス
リツト光を一定ピツチΔｘだけ移動させて変形像
I2を得たときに光電変換面を走査して上記走査線
L1と一定ピツチだけ離れた走査線L2との交点a2，
b2を求め、以下同様にして順次交点a3，b3，a4，
b4，……を求めることにより、等高面上の点群を
得ることができる。
させるためのある一定のピツチΔｘの直線的移動
を与えて、点P1，P2，……からのスリツト光を順
次対象物体１１上に投射し、その反射光を受光装
置１２の光電変換面に結像させると、第２図に示
すように、光電変換面１３上において対象物体の
表面の凹凸に応じて湾曲した像I1，I2，……が得
られ、これらの像I1，I2，……と、前記投影装置
を回転させるためのピツチΔｘに相応する間隔を
もつた走査線L1，L2との交点a1，a2，……，b1，
b2，……を求めれば、それらの点群がすべて同一
の等高面上にあり、その接続によつて等高線を得
ることができる。さらに具体的に説明すると、ま
ず、最初のスリツト光で光電変換面上に変形像I1
を得たとき、光電変換面を走査して走査線L1と
スリツト光の像I1との交点a1，b1を求め、次にス
リツト光を一定ピツチΔｘだけ移動させて変形像
I2を得たときに光電変換面を走査して上記走査線
L1と一定ピツチだけ離れた走査線L2との交点a2，
b2を求め、以下同様にして順次交点a3，b3，a4，
b4，……を求めることにより、等高面上の点群を
得ることができる。
また、上記スリツト光の像I1，I2，……と走査
線L1，L2，……の対応関係を変化させれば、第
３図から明らかなように、異なる等高面上の点群
を求めることができる。即ち、第３図において、
等高面S1上の点群A1，A2，A3，……は、点P1，
P2……を通るスリツト光の像と走査線L1，，L2，
……とのそれぞれの交点として得ることができ、
また等高面S2上の点群B1，B2，B3，……は点
P1，P2，……を通るスリツト光の像と走査線
L2，L3，……とのそれぞれの交点として、さら
に等高面S3上の点群C1，C2，C3，……は点P1，
P2，……を通るスリツト光の像と走査線L3，
L4，……とのそれぞれの交点として得ることが
できる。従つて、これらの多数の等高面上の点群
を求めて重畳することにより対象物体の形状を評
価することが可能となる。
線L1，L2，……の対応関係を変化させれば、第
３図から明らかなように、異なる等高面上の点群
を求めることができる。即ち、第３図において、
等高面S1上の点群A1，A2，A3，……は、点P1，
P2……を通るスリツト光の像と走査線L1，，L2，
……とのそれぞれの交点として得ることができ、
また等高面S2上の点群B1，B2，B3，……は点
P1，P2，……を通るスリツト光の像と走査線
L2，L3，……とのそれぞれの交点として、さら
に等高面S3上の点群C1，C2，C3，……は点P1，
P2，……を通るスリツト光の像と走査線L3，
L4，……とのそれぞれの交点として得ることが
できる。従つて、これらの多数の等高面上の点群
を求めて重畳することにより対象物体の形状を評
価することが可能となる。
本発明は、このような原理を用いて対象物体上
における等高位置を求めようとするものであり、
前記モアレ方式に比して対象物体が凸または凹の
いずれの方向に変形しているのかを明確にした形
状測定を行うことができ、またスリツト光の像に
ついての細線化処理が容易であるため、高精度の
形状測定を行うことができるものである。
における等高位置を求めようとするものであり、
前記モアレ方式に比して対象物体が凸または凹の
いずれの方向に変形しているのかを明確にした形
状測定を行うことができ、またスリツト光の像に
ついての細線化処理が容易であるため、高精度の
形状測定を行うことができるものである。
即ち、本発明の測定方法は、光軸と交る回転中
心において回転可能な投影装置から対象物体に対
して上記回転方向と直交するスリツト光またはそ
の方向に振れるレーザ光を投射し、その反射光を
受光装置の光電変換面に結像させ、上記投影装置
をその回転の中心点から離れた位置にある軸線上
において一定のピツチの直線的移動を与えるよう
に回転させ、各回転位置において上記光電変換面
に得られる反射光のスリツト像またはスポツト光
の像の軌跡と上記ピツチに相応する間隔をもつた
直線との交点として、対象物体における等高面上
の点群を検出し、これに基づいて物体形状を測定
することを特徴とするものである。
心において回転可能な投影装置から対象物体に対
して上記回転方向と直交するスリツト光またはそ
の方向に振れるレーザ光を投射し、その反射光を
受光装置の光電変換面に結像させ、上記投影装置
をその回転の中心点から離れた位置にある軸線上
において一定のピツチの直線的移動を与えるよう
に回転させ、各回転位置において上記光電変換面
に得られる反射光のスリツト像またはスポツト光
の像の軌跡と上記ピツチに相応する間隔をもつた
直線との交点として、対象物体における等高面上
の点群を検出し、これに基づいて物体形状を測定
することを特徴とするものである。
さらに具体的に説明すると、第４図は投影装置
１０によつてスリツト光を投射する場合を示し、
また第５図及び第６図は投影装置によつてレーザ
光を投射する場合を示している。
１０によつてスリツト光を投射する場合を示し、
また第５図及び第６図は投影装置によつてレーザ
光を投射する場合を示している。
第４図の測定装置における投影装置１０は、基
台２０上に図示しないモータによつて回転駆動さ
れる回転台２１を備え、この回転台２１上に、そ
の中心点Ｐにスリツト２３を配置したスリツト光
の投光器２２を固定し、光源２４からの光を光学
系２５及び上記スリツト２３により上記回転方向
と直交する方向即ち紙面に垂直な方向に長い断面
をもつたスリツト光として投射できるように構成
している。この投影装置１０の回転位置は、その
突杆部２６の溝２７にガイド２８内を直線的に摺
動する摺動子２９上のピン３０を摺動自在に嵌入
し、上記摺動子２９に位置サーボ系を構成する位
置検出器３１を連結して計測するものである。
台２０上に図示しないモータによつて回転駆動さ
れる回転台２１を備え、この回転台２１上に、そ
の中心点Ｐにスリツト２３を配置したスリツト光
の投光器２２を固定し、光源２４からの光を光学
系２５及び上記スリツト２３により上記回転方向
と直交する方向即ち紙面に垂直な方向に長い断面
をもつたスリツト光として投射できるように構成
している。この投影装置１０の回転位置は、その
突杆部２６の溝２７にガイド２８内を直線的に摺
動する摺動子２９上のピン３０を摺動自在に嵌入
し、上記摺動子２９に位置サーボ系を構成する位
置検出器３１を連結して計測するものである。
一方、上記基台２０にはITVカメラからなる受
光装置１２を、その光電変換面３３が摺動子２９
の中心軸上に位置するように配設し、そのビデイ
オ信号がインターフエースを介して電子計算機に
入力されるように構成している。なお、以上にお
いては受光装置の光電変換面３３を摺動子２９の
中心軸線上に位置させる旨の説明をしているが、
必要な係数を用いることにより上記光電変換面３
３の位置を任意に設定することができる。
光装置１２を、その光電変換面３３が摺動子２９
の中心軸上に位置するように配設し、そのビデイ
オ信号がインターフエースを介して電子計算機に
入力されるように構成している。なお、以上にお
いては受光装置の光電変換面３３を摺動子２９の
中心軸線上に位置させる旨の説明をしているが、
必要な係数を用いることにより上記光電変換面３
３の位置を任意に設定することができる。
上記構成を有する装置においては、回転台２１
を所要の位置にセツトして投光器２２によりスリ
ツト光を対象物体１１に投射し、その反射光を受
光装置１２によつて受光するが、この受光装置に
おいては、光電変換面３３を256×256程度の画素
に分割し、また各画素の明暗信号を６ビツト程度
にAD変換し、スリツト光の像をデイジタル画像
として電子計算機のメモリに格納する。これらの
操作が終了した後、電子計算機による制御で回転
台２１を位置検出器３１がΔｘだけ移動するまで
回転させる。この回転は、回転台のモータと位置
検出器３１からなる位置サーボ系によつて制御さ
れる。その後、再びスリツト光の像を受光装置で
とらえ、それをデイジタル画像として電子計算機
のメモリに格納し、これを必要回数にわたつて繰
返した後に、各フレームのデイジタル画像を空間
微分することにより、得られたスリツト像の細線
化処理を行い、そのスリツト像を適当な関数式
f1，f2，……で近似する。以後は、上記スリツト
像の関数式で表わされた曲線群と、回転台２１を
回転させる場合の摺動子２９のピツチΔｘと同一
間隔をもつ直線群との交点をそれぞれ求めること
により、等高面上に位置する点群を得ることがで
き、これによつて前述の如く対象物体の形状を測
定することができる。
を所要の位置にセツトして投光器２２によりスリ
ツト光を対象物体１１に投射し、その反射光を受
光装置１２によつて受光するが、この受光装置に
おいては、光電変換面３３を256×256程度の画素
に分割し、また各画素の明暗信号を６ビツト程度
にAD変換し、スリツト光の像をデイジタル画像
として電子計算機のメモリに格納する。これらの
操作が終了した後、電子計算機による制御で回転
台２１を位置検出器３１がΔｘだけ移動するまで
回転させる。この回転は、回転台のモータと位置
検出器３１からなる位置サーボ系によつて制御さ
れる。その後、再びスリツト光の像を受光装置で
とらえ、それをデイジタル画像として電子計算機
のメモリに格納し、これを必要回数にわたつて繰
返した後に、各フレームのデイジタル画像を空間
微分することにより、得られたスリツト像の細線
化処理を行い、そのスリツト像を適当な関数式
f1，f2，……で近似する。以後は、上記スリツト
像の関数式で表わされた曲線群と、回転台２１を
回転させる場合の摺動子２９のピツチΔｘと同一
間隔をもつ直線群との交点をそれぞれ求めること
により、等高面上に位置する点群を得ることがで
き、これによつて前述の如く対象物体の形状を測
定することができる。
第５図に示す測定装置は、レーザ光を投射する
もので、基本的には第４図の装置と共に共通性を
有しているが、レーザ光がスポツト光として投射
されるので、それをスリツト光と等価なものに変
換するための手段を有している。即ち、第５図の
測定装置における投影装置１０は、第６図に詳細
に示すように、機枠４０上にミラー４１を回転さ
せる回転軸４２を水平に支持させ、この回転軸４
２を駆動用モータ４３によつて回転させると共
に、その回転軸４２に取付けた回転角度検出器４
４によつてミラー４１の回転角度を検出できるよ
うにして、それらによりサーボ系を構成させ、ま
た機枠４０上に上記ミラー４１の中心に向つてレ
ーザ光を投射するレーザ光源４５を固定し、その
軸線が投影装置の回転台２１（第５図）の中心点
Ｐと一致するようにして上記機枠４０を回転台２
１上に固定している。
もので、基本的には第４図の装置と共に共通性を
有しているが、レーザ光がスポツト光として投射
されるので、それをスリツト光と等価なものに変
換するための手段を有している。即ち、第５図の
測定装置における投影装置１０は、第６図に詳細
に示すように、機枠４０上にミラー４１を回転さ
せる回転軸４２を水平に支持させ、この回転軸４
２を駆動用モータ４３によつて回転させると共
に、その回転軸４２に取付けた回転角度検出器４
４によつてミラー４１の回転角度を検出できるよ
うにして、それらによりサーボ系を構成させ、ま
た機枠４０上に上記ミラー４１の中心に向つてレ
ーザ光を投射するレーザ光源４５を固定し、その
軸線が投影装置の回転台２１（第５図）の中心点
Ｐと一致するようにして上記機枠４０を回転台２
１上に固定している。
一方、基台２０において対象物体１１からの反
射光を検出する受光装置１２としては、セルスポ
ツトの商品名で市販されている半導体位置検出器
を使用している。この検出器は、光電変換面４６
において受光したスポツト光の図心の座標に相当
する信号を出力する半導体位置検出器で、ｘ座標
検出用AD変換器及びｙ座標検出用AD変換器、並
びにインターフエースを介して電子計算機に接続
している。
射光を検出する受光装置１２としては、セルスポ
ツトの商品名で市販されている半導体位置検出器
を使用している。この検出器は、光電変換面４６
において受光したスポツト光の図心の座標に相当
する信号を出力する半導体位置検出器で、ｘ座標
検出用AD変換器及びｙ座標検出用AD変換器、並
びにインターフエースを介して電子計算機に接続
している。
なお、その他の構成は第４図の場合と同様であ
る。
る。
この測定装置による測定に際しては、まず、電
子計算機の制御により回転台２１を適当な初期位
置にセツトし、この状態でミラー４１を上から下
へ回転させる。電子計算機は、インタフエースを
介してミラー４１のサーボ系へミラー回転信号を
出力すると同時に、ミラーの各回転位置における
受光装置１２からのスポツトの像の座標を逐次メ
モリへ格納する。その後、回転台２１を電子計算
機による制御で位置検出器３１において一定ピツ
チΔｘだけ移動させることにより回転させて、同
様の操作を行い、回転台の各回転位置に対してそ
れを繰返す。而して、各回転位置において光電変
換面４６に得られる反射光の像の軌跡について、
第４図で説明した場合と同様の関数式による近似
を行い、上記軌跡と上記一定ピツチΔｘに相応す
る間隔をもつた直線群との交点を求めることによ
り、対象物体の等高面上に位置する点群を得るこ
とができ、これに基づいて対象物体の形状を測定
することが可能となる。
子計算機の制御により回転台２１を適当な初期位
置にセツトし、この状態でミラー４１を上から下
へ回転させる。電子計算機は、インタフエースを
介してミラー４１のサーボ系へミラー回転信号を
出力すると同時に、ミラーの各回転位置における
受光装置１２からのスポツトの像の座標を逐次メ
モリへ格納する。その後、回転台２１を電子計算
機による制御で位置検出器３１において一定ピツ
チΔｘだけ移動させることにより回転させて、同
様の操作を行い、回転台の各回転位置に対してそ
れを繰返す。而して、各回転位置において光電変
換面４６に得られる反射光の像の軌跡について、
第４図で説明した場合と同様の関数式による近似
を行い、上記軌跡と上記一定ピツチΔｘに相応す
る間隔をもつた直線群との交点を求めることによ
り、対象物体の等高面上に位置する点群を得るこ
とができ、これに基づいて対象物体の形状を測定
することが可能となる。
以上に詳述したところから明らかなように、本
発明の測定方法は、一般に利用されている三角測
量等の原理に基づくことなく、本発明に特有の原
理に基づいている。即ち、本発明は、スリツト光
をその回転の中心点から離れた位置にある軸線上
において一定のピツチの直線的移動を与えること
により回転させながら、対象物体を照射し、その
各位置において反射光の像を光電変換面に結像さ
せれば、その像は直線あるいは曲線となるが、そ
の像を構成する各点のうち、上記ピツチに対応し
た間隔の直線上に存する点は、上記物体における
等高点から反射した光であるという原理に基づい
て構成されたものであり、そのため、投射スリツ
ト光を回転させる場合の上記直線的移動のピツチ
のみを一定に保つだけでよく、スリツト光が投射
された後に物体で反射して戻つてくるまでの光の
経路の角度を測定したり、各機器や対象物体の反
射点間の距離等を測る必要はなく、それにより構
成を著しく簡単なものとして、対象物件の形状
を、それが凸または凹のいずれの方向に変形して
いるのかを含めて、正確かつ簡単に測定すること
ができる。
発明の測定方法は、一般に利用されている三角測
量等の原理に基づくことなく、本発明に特有の原
理に基づいている。即ち、本発明は、スリツト光
をその回転の中心点から離れた位置にある軸線上
において一定のピツチの直線的移動を与えること
により回転させながら、対象物体を照射し、その
各位置において反射光の像を光電変換面に結像さ
せれば、その像は直線あるいは曲線となるが、そ
の像を構成する各点のうち、上記ピツチに対応し
た間隔の直線上に存する点は、上記物体における
等高点から反射した光であるという原理に基づい
て構成されたものであり、そのため、投射スリツ
ト光を回転させる場合の上記直線的移動のピツチ
のみを一定に保つだけでよく、スリツト光が投射
された後に物体で反射して戻つてくるまでの光の
経路の角度を測定したり、各機器や対象物体の反
射点間の距離等を測る必要はなく、それにより構
成を著しく簡単なものとして、対象物件の形状
を、それが凸または凹のいずれの方向に変形して
いるのかを含めて、正確かつ簡単に測定すること
ができる。
第１図ないし第３図は本発明における測定原理
についての説明図、第４図及び第５図は本発明の
異なる装置例の構成図、第６図は第５図の投影装
置の構成を示す斜視図である。 １０……投影装置、１１……対象物体、１２…
…受光装置、１３，３３，４６……光電変換面。
についての説明図、第４図及び第５図は本発明の
異なる装置例の構成図、第６図は第５図の投影装
置の構成を示す斜視図である。 １０……投影装置、１１……対象物体、１２…
…受光装置、１３，３３，４６……光電変換面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光軸と交る回転中心において回転可能な投影
装置から対象物体に対して上記回転方向と直交す
るスリツト光からなる投射光を投射し、その反射
光を受光装置の光電変換面に結像させ、上記投影
装置をその回転の中心点から離れた位置にある軸
線上において一定のピツチの直線的移動を与える
ように回転させ、各回転位置において上記光電変
換面に得られる反射光の像と上記ピツチに相応す
る間隔をもつた直線との交点として、対象物体に
おける等高面上の点群を検出し、これに基づいて
物体形状を測定することを特徴とする物体形状の
測定方法。 ２ 光軸と交る回転中心において回転可能な投影
装置から対象物体に対して上記回転方向と直交す
る方向に振れるレーザ光を投射し、その反射光を
受光装置の光電変換面に結像させ、上記投影装置
をその回転の中心点から離れた位置にある軸線上
において一定のピツチの直線的移動を与えるよう
に回転させ、各回転位置において上記光電変換面
に得られる反射光の像の軌跡と上記ピツチに相応
する間隔をもつた直線との交点として、対象物体
における等高面上の点群を検出し、これに基づい
て物体形状を測定することを特徴とする物体形状
の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18766080A JPS57110908A (en) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | Measuring method for shape of object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18766080A JPS57110908A (en) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | Measuring method for shape of object |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57110908A JPS57110908A (en) | 1982-07-10 |
| JPS6248162B2 true JPS6248162B2 (ja) | 1987-10-13 |
Family
ID=16209950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18766080A Granted JPS57110908A (en) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | Measuring method for shape of object |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57110908A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60152909A (ja) * | 1984-01-21 | 1985-08-12 | Sanwa Seiki Kk | 非接触型３次元測定器 |
| DE10212364A1 (de) * | 2002-03-20 | 2003-10-16 | Steinbichler Optotechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Absolut-Koordinaten eines Objekts |
-
1980
- 1980-12-27 JP JP18766080A patent/JPS57110908A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57110908A (en) | 1982-07-10 |
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