JPS624899A - Anode device for electroplating equipment - Google Patents
Anode device for electroplating equipmentInfo
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- JPS624899A JPS624899A JP14331085A JP14331085A JPS624899A JP S624899 A JPS624899 A JP S624899A JP 14331085 A JP14331085 A JP 14331085A JP 14331085 A JP14331085 A JP 14331085A JP S624899 A JPS624899 A JP S624899A
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- plating
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- plated
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、可溶性陽極を使用する電気めっき設備の陽極
装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an anode device for electroplating equipment using a soluble anode.
〈従来技術とその問題点〉
可溶性陽極を使用する電気めっきに於いて、陽極となる
めっき金属として細粒化したものを使用する場合は従来
以下のようにして行われていた。<Prior art and its problems> In electroplating using a soluble anode, the use of fine-grained plating metal as the anode has conventionally been carried out as follows.
チタン等の酎めっき液性のある材質でバスケット状の給
電部分を形成させ、この中に細粒状の可溶性めっき金属
を充填し、これをめつき浴中に浸漬し、給電により電気
めっきを行う。A basket-shaped power supply part is formed from a material that has a plating liquid property such as titanium, and is filled with fine particles of soluble plating metal.The basket-shaped part is immersed in a plating bath, and electroplating is performed by power supply.
めっきを行うことにより、めっき金属は消耗し、バスケ
ット中のめつき金属が消失する直前でバスケットをめつ
き浴中よりとりだし、7へスケアト中に++f度めっき
金属を充填する。あるいは、別のバスケットにめっき金
属をあらかじめ充填しておき、これを前記のめっき金属
の消耗したバスケットと入れ科える。これは消失111
のめつき金属には不純物が多いためである。By plating, the plating metal is consumed, and just before the plating metal in the basket disappears, the basket is taken out of the plating bath, and the scaret 7 is filled with ++f plating metal. Alternatively, a separate basket may be pre-filled with plated metal and placed in conjunction with the basket depleted of plated metal. This is disappearance 111
This is because there are many impurities in plated metal.
しかし、上記従来方法は以下の欠点を有している。However, the above conventional method has the following drawbacks.
(1)めっき金属の消耗に伴い、パスケラ1の入れ科え
またはとりたしが生じることにより、連続的なめっきが
行えない。(1) Continuous plating cannot be performed due to the addition or removal of the pass-scaler 1 as the plating metal wears out.
C?)非連続めっきにより、めっき設備の稼動率が低下
するとともに、めっき品質の安定化が困難となる。C? ) Discontinuous plating reduces the operating rate of plating equipment and makes it difficult to stabilize plating quality.
(3)パスケントの入れ奸えまたはとりだし作業が必閥
となり、入れ十+え費用が必要となる。(3) It becomes necessary to put in or take out the passkent, and additional costs are required.
〈発明の目的〉
本発明は上述した現状に鑑みてなされたもので −1f
f溶性めっき金属細粒が充填されたバスケットの入れ替
えまたはとりだしを不要とすることにより、めっき設備
の稼動率の向−1−1めっき品質の安定化、入れ苔え費
用の不要化をはかることのできる電気めっき設備の陽極
装置を提供することをFI的とする。<Object of the invention> The present invention has been made in view of the above-mentioned current situation.
f By eliminating the need to replace or take out the basket filled with soluble plating metal fine particles, it is possible to improve the operation rate of plating equipment. FI's objective is to provide an anode device for electroplating equipment that can be used.
〈発明の構成〉 上記[1的は次の本発明により達成される。<Structure of the invention> The above item [1] is achieved by the following present invention.
すなわち、本発明は、めっきすべき金属スI・リップに
対向して配設される電気めっき設備の陽極装置であって
。That is, the present invention is an anode device for electroplating equipment that is disposed opposite a metal slip to be plated.
可溶性めっき金属細粒を1佇留するホッパーと。A hopper that holds one soluble plated metal fine particle.
このホッパーよりめっき金属細粒が供給され、めっきに
より消耗しためっき金属細粒が排出されるよう構成され
たバスケットと、
このバスケットより排出された消耗めっき金属細粒とめ
っき液とを分離する固液分離手段とを具えることを特徴
とする電気めっき設備の陽極装置を提供するものである
。A basket configured to supply plated metal fine particles from this hopper and discharge the plated metal fine particles consumed by plating, and a solid liquid that separates the exhausted plated metal fine particles discharged from this basket from the plating solution. The present invention provides an anode device for electroplating equipment characterized by comprising a separation means.
本発明はまた。めっきすべき金属ストリップに対向して
配設される電気めっき設備の陽極装置であって。The present invention also includes: An anode device for electroplating equipment, which is disposed opposite a metal strip to be plated.
jrf溶性めっき金属細粒を貯留するホッパーと、
このホッパーよりめっき金属細粒が供給され、めっきに
より消耗しためっき金属細粒が排出されるよう構成され
たバスケットと。a hopper for storing jrf-soluble plated metal fine particles; and a basket configured such that the plated metal fine particles are supplied from the hopper and the plated metal fine particles consumed by plating are discharged.
このバスケットより11出された消耗めっき金属細粒と
めっき液とを分離する固液分離手段と、前記バスケット
から前記固液分離f段間のめっき金属細粒の移動通路の
少なくとも1部にめっき液の流れをつくり出すめっき液
流発生装置とを具えることを特徴とする電気めっき設備
の陽極装置を提供するものである。solid-liquid separation means for separating the consumable plating metal fine particles taken out from the basket 11 from the plating solution; The present invention provides an anode device for electroplating equipment, characterized in that it includes a plating solution flow generating device that generates a flow of plating solution.
以下、本発明による電気めっき設備の陽極装置を添付図
面に示す好適実施例につき詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The anode device for electroplating equipment according to the present invention will be described in detail below with reference to preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
第1図に本発明による電気めっき設備の陽極装置30を
配置しためっき槽の構造例を線図的に示す、第1図はた
て型めっき槽での例を示しているが、本発明はこれに限
定されることはない。FIG. 1 diagrammatically shows an example of the structure of a plating tank in which an anode device 30 of electroplating equipment according to the present invention is arranged. FIG. 1 shows an example of a vertical plating tank, but the present invention It is not limited to this.
めっき461中にはめっき液2を循環させ、めっき液中
に沈設されたバスケット3中に後述する方法で可溶性め
っき金属細粒4が充填される。Plating solution 2 is circulated through plating 461, and soluble plated metal fine particles 4 are filled into basket 3 submerged in the plating solution by a method described later.
第1図において、5は金属ストリップのような被めっき
物(陰極)、6は陰極への通電ロール、7は被めっき物
を案内、支持するジンクロールである。In FIG. 1, 5 is an object to be plated (cathode) such as a metal strip, 6 is a roll for supplying current to the cathode, and 7 is a zinc roll that guides and supports the object to be plated.
次に、本発明の電気めっき設備の陽極装置30の構成例
を第2図につき説IJ1する。本発明の陽極装置におい
ては、めっき金属細粒は連続的に供給され、めっきによ
り消耗された金属細粒は自動的に排出されるので、従来
のように陽極装置の取出再充填、あるいは交換の必要は
ない。Next, an example of the configuration of the anode device 30 of the electroplating equipment of the present invention will be explained with reference to FIG. In the anode device of the present invention, plated metal fine particles are continuously supplied, and metal fine particles consumed by plating are automatically discharged. There's no need.
第2図かられかるように、8は可溶性めつき金属細粒4
の貯蔵用ホッパーであり、めっき金属細粒4はホッパー
4からフィーダー9を経て連続的または間欠的にチタン
のような1酎めっき液性の材料製のバスケット3のなか
に供給される。バスケットはめっき+61中に支持体1
5により支持され適切に配置される。へスケッl−3の
内ではめつき金属細粒4は給電導体14により給電され
、めっき時に溶出しながら消耗してより細粒化しつつ下
方に移動し、バスケット3の下方に設けられた回収パイ
プIOより連続的に濾過手段11へ導かれる。濾過手段
11では消耗めっき金属細粒とめっき液との固液分離が
行われ、めっき液2はめっき液排出パイプ12を通り回
収される。As shown in Figure 2, 8 is soluble plated metal fine grain 4
The plated metal fine particles 4 are continuously or intermittently fed from the hopper 4 via a feeder 9 into a basket 3 made of a plating solution-based material such as titanium. Basket is plated +61 with support 1
5 and properly positioned. Inside the hesket 1-3, the plated metal fine particles 4 are supplied with electricity by the power supply conductor 14, and during plating, they are eluted and consumed, becoming finer particles and moving downward, and are sent to a recovery pipe provided below the basket 3. It is continuously guided to the filtering means 11 from the IO. In the filtration means 11, solid-liquid separation between the consumable plating metal fine particles and the plating solution is performed, and the plating solution 2 is recovered through the plating solution discharge pipe 12.
またバスケット3から回収パイプlOを経てめっき金属
細粒を円滑に移動させて排出できるようにするために、
バスケット3から回収パイプ10を経て吐過手段11に
至るめっき金属細粒の移動通路の少なくとも一部にめっ
き液の流れを発生せしめる手段を設けるのが好ましい。In addition, in order to smoothly move and discharge the plated metal fine particles from the basket 3 through the recovery pipe 1O,
It is preferable to provide means for generating a flow of the plating solution in at least a portion of the passage through which the plated metal fine particles travel from the basket 3 to the discharge means 11 via the recovery pipe 10.
第2図には、めっき液流発生装置の1例として、回収パ
イプ10にめっき液噴出管13を設けた例を示す。FIG. 2 shows an example of a plating solution flow generating device in which a plating solution jetting pipe 13 is provided in the recovery pipe 10.
この噴出管13よりめっき液を連続的にあるい・は間歇
的に噴出させることにより、めっき金属細粒4を排出す
るよう移動させることができ、これによりバスケット3
内でのめっき金属細粒4の棚つりなど移動障害を防止す
ることができる。By jetting out the plating solution continuously or intermittently from the spouting pipe 13, the fine plating metal particles 4 can be moved to be discharged, thereby causing the basket 3
Movement obstacles such as hanging of the fine plated metal particles 4 within the container can be prevented.
第3図には第2図に示すバスケット3の下方部分を拡大
断面図で示す、バスケット3の下方には開[126が形
成され、この開口にはネット16および濾過網17が支
持部材18により支持されている。この図かられかるよ
うに、バスケット3に充填されているめっき金属細粒4
のうちめっき時の消耗によりざらに細粒化しためっき金
属細粒4のみがネット16および濾過網17を経て回収
パイプ10に排出される。ネット16および濾過網17
の目の粗さはめっき金属細粒からの不純物の溶出をなる
べく小さくする範囲に適当に選択される。FIG. 3 shows an enlarged sectional view of the lower part of the basket 3 shown in FIG. Supported. As can be seen from this figure, fine plated metal particles 4 are filled in the basket 3.
Of these, only the fine plated metal particles 4, which have become coarsely refined due to wear during plating, are discharged into the recovery pipe 10 via the net 16 and the filtering net 17. Net 16 and filter net 17
The roughness of the pores is appropriately selected within a range that minimizes the elution of impurities from the plated metal fine particles.
第4図にバスケット3の横断面を示す、バスケット3の
陰極と対面する側はネット19、布20、ネット21の
三重構造にするのがよい、内側のネット21はめっき金
属細粒の円°滑な移動を行わせるよう摩擦係数の小さな
ものとするのがよい。このネット21による円滑な移動
ならびに前述しためっき液流発生装置による移動とあい
まって、めっき金属細粒はさらに円滑に移動でき、棚つ
りなどの移動障害は防1トされる。Figure 4 shows a cross section of the basket 3.The side of the basket 3 facing the cathode should preferably have a triple structure of a net 19, a cloth 20, and a net 21.The inner net 21 is a circle made of fine plated metal particles. It is preferable to use a material with a small coefficient of friction to ensure smooth movement. Combined with the smooth movement by the net 21 and the movement by the plating liquid flow generating device described above, the plated metal fine particles can be moved even more smoothly, and movement obstacles such as shelf hanging are prevented.
また、ネット19は被めっき物5の破断等によるん20
の破損頻度を減少させる作用をする。In addition, the net 19 is caused by breakage of the plated object 5, etc. 20
It acts to reduce the frequency of damage.
11s 20は細い]」とし、めっき液の通過を防11
ニするようにしておく方が好ましい。これにより第1図
に示すバスケット3の」二部からのめっき液2の流れを
形成させることにより、陽極であるめっき金属細粒4を
冷却し、高電流密度でのめっきを可能とする。11s 20 is thin] to prevent the plating solution from passing through.
It is preferable to leave it as is. This causes the plating solution 2 to flow from the second part of the basket 3 shown in FIG. 1, thereby cooling the plating metal fine particles 4, which are the anode, and making it possible to perform plating at a high current density.
ネット19、ン1j20、ネッ]・21はねじ28のよ
うな適当な緊締具により連結部材27に取り付けられ、
連結部材27は背板23に取り伺けられ、めっき槽l内
に固定できるようになっている。The nets 19, 1j20, 21 are attached to the connecting member 27 by suitable fasteners such as screws 28,
The connecting member 27 is recessed into the back plate 23 and can be fixed in the plating tank l.
尚、23はバスケットの背板であり、24.25は格子
−Lに組まれた縦部材、横部材である。Note that 23 is the back plate of the basket, and 24 and 25 are the vertical and horizontal members assembled into the grid L.
また、27はこれらの部材と背板23の連結部材である
と同時にここから(被覆されていない部分)!’f板2
3とともにめっき金属細粒に給電するよう構成されてい
る。Also, 27 is a connecting member between these members and the back plate 23, and at the same time, from here (uncovered part)! 'f board 2
3 and is configured to supply power to the plated metal fine particles.
〈発明の効果〉
本発明の陽極装置は、可溶性めっき金属細粒が自動的に
供給排出されるので、従来のようにめっきに中断を生じ
ない、また、めっき液流を発生させる装置を本発明の陽
極装置に組み込めば、上記めっき金属細粒の自動供給排
出はより一層円滑に行え、そのめっき液流は陽極となる
めっき金属細粒を冷却する作用を果すので、高電流密度
でのめっきを行うことができる。<Effects of the Invention> Since the anode device of the present invention automatically supplies and discharges soluble plated metal fine particles, there is no interruption in plating unlike in the past, and the present invention provides an apparatus that generates a plating solution flow. If it is incorporated into an anode device, the automatic supply and discharge of the plated metal fine particles described above can be performed even more smoothly, and the plating solution flow has the effect of cooling the plated metal fine particles that become the anode, allowing plating at high current density. It can be carried out.
第1図は本発明の陽極装置をめっき槽中に配設した状f
島を示す線図的断面図である。
第2図は本発明の陽極装置の斜視図である。
第3図は本発明の陽極装置のバスケット底部の部分断面
図である。
第4図はバスケットの横断面図である。
符号の説明
l・・・・めっき槽、2・・・・めっき液、3・・・・
バスケット、4・・・・可溶性めっき金属細粒、5・・
・・被めっき物(陰極)、6・・・・通電ロール、7・
・φ・ジンクロール、8・・・・ホッパー。
9・・・・フィーダー、10・・・・回収パイプ、11
・・・・吐過手段、12・・・・めっき液排出パイプ、
13・・・・陽極移動用めっき液配管、14・・・・給
電導体、15・・・・バスケット支持体、16・・・・
ネット、17・・・・症過あみ、18・・・・支持部材
、19・・・・ネット、20・・・・布、21・・・・
ネット、22・・・・バスケット溶出防止用被覆、23
・・・・背板、24・・・・縦部材。Figure 1 shows a state in which the anode device of the present invention is installed in a plating tank.
FIG. 2 is a diagrammatic cross-sectional view showing an island. FIG. 2 is a perspective view of the anode device of the present invention. FIG. 3 is a partial sectional view of the basket bottom of the anode device of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of the basket. Explanation of symbols 1...Plating tank, 2...Plating solution, 3...
Basket, 4...Soluble plated metal fine particles, 5...
... Plating object (cathode), 6... Current roll, 7.
・φ・Zinchlor, 8...hopper. 9...Feeder, 10...Recovery pipe, 11
...Discharge means, 12...Plating solution discharge pipe,
13... Plating solution piping for anode movement, 14... Power supply conductor, 15... Basket support, 16...
Net, 17...Sickness, 18...Support member, 19...Net, 20...Cloth, 21...
Net, 22...Basket elution prevention coating, 23
... Back plate, 24... Vertical member.
Claims (2)
る電気めっき設備の陽極装置であって、可溶性めっき金
属細粒を貯留するホッパーと、このホッパーよりめっき
金属細粒が供給され、めっきにより消耗しためっき金属
細粒が排出されるよう構成されたバスケットと、 このバスケットより排出された消耗めっき金属細粒とめ
っき液とを分離する固液分離手段とを具えることを特徴
とする電気めっき設備の陽極装置。(1) An anode device for electroplating equipment, which is disposed opposite to the metal strip to be plated, and includes a hopper for storing soluble plating metal fine particles, and a plating metal fine particle supplied from this hopper, which is used for plating. An electroplating method comprising: a basket configured to discharge spent fine plated metal particles; and solid-liquid separation means for separating the spent fine plated metal particles discharged from the basket from a plating solution. Facility anode device.
る電気めっき設備の陽極装置であって、可溶性めっき金
属細粒を貯留するホッパーと、このホッパーよりめっき
金属細粒が供給され、めっきにより消耗しためっき金属
細粒が排出されるよう構成されたバスケットと、 このバスケットより排出された消耗めっき金属細粒とめ
っき液とを分離する固液分離手段と、前記バスケットか
ら前記固液分離手段間のめっき金属細粒の移動通路の少
なくとも1部にめっき液の流れをつくり出すめっき液流
発生装置とを具えることを特徴とする電気めっき設備の
陽極装置。(2) An anode device for electroplating equipment, which is disposed facing the metal strip to be plated, and includes a hopper for storing soluble plated metal fine particles, and a plated metal fine particle supplied from this hopper, which is used for plating. a basket configured to discharge spent fine plated metal particles; a solid-liquid separation means for separating the spent fine plated metal particles discharged from the basket from a plating solution; and a space between the basket and the solid-liquid separation means. 1. An anode device for electroplating equipment, comprising: a plating solution flow generating device for generating a plating solution flow in at least a portion of a movement passage for plating fine metal particles.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14331085A JPS624899A (en) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | Anode device for electroplating equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14331085A JPS624899A (en) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | Anode device for electroplating equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624899A true JPS624899A (en) | 1987-01-10 |
| JPH0480997B2 JPH0480997B2 (en) | 1992-12-21 |
Family
ID=15335788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14331085A Granted JPS624899A (en) | 1985-06-29 | 1985-06-29 | Anode device for electroplating equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624899A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149970U (en) * | 1987-03-20 | 1988-10-03 | ||
| JPH0433661U (en) * | 1990-07-09 | 1992-03-19 | ||
| JPH07118898A (en) * | 1993-10-19 | 1995-05-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Granular raw material feeder |
| JPH07118897A (en) * | 1993-10-19 | 1995-05-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Micro pellet discharge device |
| JP2006054984A (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Yuji Akiyama | Electric blower |
-
1985
- 1985-06-29 JP JP14331085A patent/JPS624899A/en active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149970U (en) * | 1987-03-20 | 1988-10-03 | ||
| JPH0433661U (en) * | 1990-07-09 | 1992-03-19 | ||
| JPH07118898A (en) * | 1993-10-19 | 1995-05-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Granular raw material feeder |
| JPH07118897A (en) * | 1993-10-19 | 1995-05-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Micro pellet discharge device |
| JP2006054984A (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Yuji Akiyama | Electric blower |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0480997B2 (en) | 1992-12-21 |
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