JPS6253804B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6253804B2
JPS6253804B2 JP55088883A JP8888380A JPS6253804B2 JP S6253804 B2 JPS6253804 B2 JP S6253804B2 JP 55088883 A JP55088883 A JP 55088883A JP 8888380 A JP8888380 A JP 8888380A JP S6253804 B2 JPS6253804 B2 JP S6253804B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
projection
projection lens
semi
predetermined position
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55088883A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5714818A (en
Inventor
Hideo Hirose
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
Priority to JP8888380A priority Critical patent/JPS5714818A/ja
Priority to US06/272,760 priority patent/US4386833A/en
Publication of JPS5714818A publication Critical patent/JPS5714818A/ja
Publication of JPS6253804B2 publication Critical patent/JPS6253804B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/10Projectors with built-in or built-on screen
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/06Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor affording only episcopic projection

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来の反射照明型投影装置では、一般に投影レ
ンズが交換可能に設けられており、投影像の拡大
倍率を選択的に変えることが可能である。しかし
ながら、投影レンズの変換に際しては、各投影レ
ンズに反射照明用光束を供給するために、反射照
明系を移動させる必要があつた。具体的には、投
影レンズごとに供給すべき反射照明光が異なつて
おり、十分な照明光を供給するためには、照明系
全体を移動し、さらにテレセントリツク照明にな
るようにコンデンサーレンズや光源そのものを光
軸に沿つて移動させなければならなかつた。即
ち、投影レンズを変換するたびに照明系に2回の
調整を行なわなければならず、操作が極めて煩雑
であり、敏速な作業のためには大きな障害となつ
ていた。
本発明の目的はこれらの欠点を改善し、投影レ
ンズ変換時に反射照明装置の調節をまつたく行う
ことなしに最適な照明がなされる反射照明型投影
装置を提供することにある。
本発明による反射照明型投影装置は、異なる投
影像を形成するために互いに交換可能な複数の投
影レンズと、装置本体の所定位置に着脱可能に設
けられるこれらの投影レンズに照明光を供給する
ために、装置本体に設けられた反射照明用の光源
と主コンデンサーレンズとを有し、投影レンズは
それぞれ、その光軸に対して斜設された半透過鏡
と、この半透過鏡の被投影物体側に設けられた収
斂性レンズ群と、この半透過鏡の側方に設けられ
た補助コンデンサーレンズとを有している。そし
て、投影レンズ内に設けられた半透過鏡がその投
影レンズの光軸と交わる位置は、投影レンズが装
置本体に取り付けられる時に装置本体と接する胴
付面から全ての投影レンズにわたつて等しい距離
にあり、また、各投影レンズが本体の所定位置に
設けられた時に、本体側の主コンデンサーレンズ
と投影レンズ内に設けられた補助コンデンサーレ
ンズとの合成系による光源像が、半透過鏡の被投
影物体側に設けられた収斂性レンズ群の半透過鏡
側焦点位置又はその近傍に形成される。
以下、本発明の構成を実施例に基づいて説明す
る。
第1図は本発明をいわゆる投影検査器に適用し
た実施例の概略断面図である。図示のごとく、装
置本体1には反射照明用の光源11と主コンデン
サーレンズ12及び、透過照明用の光源31とコ
ンデンサーレンズ32が設けられている。そして
本体1の下部には試料10が載置され、図示なき
手段により上下、及び前後左右に移動可能なステ
ージ13が、また本体1の上部にはよく知られた
回転可能なターレツトマウント14が設けられて
いる。ターレツトマウント14には複数の各種投
影レンズ2a,2bが、それぞれの胴付面21
a,21bにより、ターレツトマウント14即ち
本体1に対して正確に位置決めされて、着脱可能
に設けられている。本体1に対して所定の位置に
位置付けられた投影レンズ2aにより、試料10
からの投影光束は第1反射鏡15、第2反射鏡1
6を経てスクリーン17上に集光され、こゝに試
料10の拡大投影像が形成される。
第2図は、各種投影レンズのうち比較的低倍率
の第1投影レンズ2aが、所定位置に設定された
時の反射照明の状態を示す概略断面図である。図
示のごとくこの第1投影レンズ2aは被投影物体
としての試料10側に設けられた収斂性の前方レ
ンズ群22aと、その後方に設けられた収斂性の
後方レンズ群23aと、両群の間に光軸に対して
斜設された半透過鏡24aとを有し、さらに半透
過鏡24aの側方で本体の光源側に設けられた負
の補助コンデンサーレンズ25aを有している。
そして、この第1投影レンズ2aにおいて、内蔵
された半透過鏡24aが光軸と交わる位置Pは、
このレンズ鏡筒の胴付面21aから距離lにあ
る。また、本体側の主コンデンサーレンズ12と
投影レンズに内蔵された補助コンデンサーレンズ
25aとの合成系による光源11の像は、収斂性
の前方レンズ群22aの半透過鏡24a側の焦点
Fa′の位置に形成され、光源11からの反射照明
光は投影レンズの収斂性前方レンズ群22aを射
出した後、平行光束となつて試料10に達し、い
わゆるテレセントリツク照明がなされる。
一方、上記第1投影レンズ2aと異なる比較的
高倍率の第2投影レンズ2bがターレツトマウン
トの回転により、装置本体に対して第1投影レン
ズ2aと同一の所定位置に設定された時の、反射
照明状態を概略断面図を第3図に示す。図示のご
とく第2投影レンズ2bは、第1投影レンズ2a
と同様に、試料10側に設けられた収斂性の前方
レンズ群22bとその後方に設けられた後方レン
ズ群23b、及び両群の間に斜設された半透過鏡
24b、そして半透過鏡の側方に設けられた補助
コンデンサーレンズ25bを有している。たゞ第
2投影レンズ2bは後方レンズ群23bが発散性
であり、補助コンデンサーレンズ25bが正レン
ズである点で異なつている。そして、この第2投
影レンズ2bにおいても、内蔵された半透過鏡2
4bが光軸と交わる位置Pは、このレンズ鏡筒の
胴付面21bから距離lにあり、主コンデンサー
レンズ12と補助コンデンサーレンズ25bとの
合成系による光源像は、収斂性前方レンズ群22
bの半透過鏡24b側の焦点Fb′の位置に形成さ
れ、第1投影レンズの場合と同様にテレセントリ
ツク照明がなされる。
従つて、ターレツトマウント14の回転によ
り、第1と第2の投影レンズ2a,2bが変換さ
れても常にテレセントリツクな反射照明が形成さ
れるため、本体側の光源や主コンデンサーレンズ
は所定位置に固設でき、照明のために何ら特別な
調整を要しない。また、ステージ上の試料とスク
リーンとの共役関係が、投影レンズを変換した場
合にも保たれておれば、投影レンズを変換するだ
けで、同一試料の異なつた最適投影像を簡単に得
ることができ望ましい。
尚、上記実施例においては、第1投影レンズ2
aも第2投影レンズ2bも共に収斂性の前方レン
ズ群22a,22bに加えて、収斂性又は発散性
の後方レンズ群23a,23bを有しているが、
後方レンズ群は必ずしも必要ではない。また、反
射照明の場合には、必ずしも厳密なテレセントリ
ツク照明が形成される必要がないため、本体側の
主コンデンサーレンズと投影レンズに内蔵された
補助コンデンサーレンズとの合成系による光源像
の位置は、前方収斂レンズ群の半透過鏡側焦点の
近傍であれば良く、投影レンズごとに最良状態と
なるように構成しておくことが望ましい。特に高
倍率の投影レンズのように明るさが優先する場合
には、いくぶん集光照明に近づけるように光源像
の位置を設定することができる。しかし、このよ
うな場合にも、投影レンズの変換以外に何ら調整
する必要はない。さらに、投影レンズの交換はタ
ーレツトマウントによる場合のみならず、シング
ルマウントであつても同様である。
以上のごとく、本発明によれば、投影レンズの
変換ごとに反射照明装置の調整が全く不要にな
り、操作性が格段に向上するとともに、敏速な作
業が可能になる。しかも、調整手段が不要のため
装置全体の構成が極めて簡単になり、製造及びコ
ストの点においても有利である。
尚、本発明による反射照明型投影装置は、第1
図に示したごとく、透過照明系との組合せによ
り、透過型としても使用可能なことはいうまでも
ない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を投影検査器に適用した実施例
の概略断面図、第2図は第1投影レンズが所定位
置に設定されたときの反射照明状態を示す概略断
面図、第3図は第2投影レンズが所定位置に設定
されたときの反射照明状態を示す概略断面図であ
る。 主要部分の符号の説明、1……装置本体、2a
……第1投影レンズ、2b……第2投影レンズ、
11……反射照明用光源、12……主コンデンサ
ーレンズ、24a……半透過鏡、22a,22b
……収斂性レンズ群、25a,25b……補助コ
ンデンサーレンズ、21a,21b……胴付面。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 本体に対して所定位置に着脱可能に設けられ
    る第1の投影レンズと、該第1投影レンズと交換
    して該所定位置に取り付け可能な第2投影レンズ
    と、該所定位置に設けられる前記投影レンズに照
    明光を供給するために前記本体内に設けられた光
    源とコンデンサーレンズとを有し、前記第1投影
    レンズと前記第2投影レンズとを交換することに
    よつて異なる投影像を形成することのできる反射
    照明型投影装置において、 前記両投影レンズは、それぞれ、該投影レンズ
    の光軸に対して斜設された半透過鏡と、該半透過
    鏡の被投影物体側に設けられた収斂性レンズ群
    と、前記半透過鏡の側方に設けられた補助コンデ
    ンサーレンズとを有し、前記半透過鏡と該投影レ
    ンズの光軸との各交点が各々の投影レンズの胴付
    面から等しい距離にあり、前記両投影レンズのそ
    れぞれが前記所定の位置に設けられた時、前記主
    コンデンサーレンズと前記補助コンデンサーレン
    ズとの合成系による前記光源像が、前記収斂性レ
    ンズ群の前記半透過鏡側焦点上又はその近傍に形
    成されることを特徴とする反射照明型投影装置。
JP8888380A 1980-06-20 1980-06-30 Reflection lighting type projector Granted JPS5714818A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8888380A JPS5714818A (en) 1980-06-30 1980-06-30 Reflection lighting type projector
US06/272,760 US4386833A (en) 1980-06-20 1981-06-11 Epi-illumination type projection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8888380A JPS5714818A (en) 1980-06-30 1980-06-30 Reflection lighting type projector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5714818A JPS5714818A (en) 1982-01-26
JPS6253804B2 true JPS6253804B2 (ja) 1987-11-12

Family

ID=13955382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8888380A Granted JPS5714818A (en) 1980-06-20 1980-06-30 Reflection lighting type projector

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4386833A (ja)
JP (1) JPS5714818A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0536905U (ja) * 1991-10-18 1993-05-18 株式会社村田製作所 誘電体フイルタ

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59151126A (ja) * 1983-02-17 1984-08-29 Mitsutoyo Mfg Co Ltd 投影検査機
US4636050A (en) * 1983-12-26 1987-01-13 Kabushiki Kaisha Gakushu Kenkyusha Reflection type overhead projector
GB8721878D0 (en) * 1987-09-17 1987-10-21 Buxton Micrarium Ltd Microscope viewing arrangements
US5005967A (en) * 1988-07-01 1991-04-09 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Microfilm image processing apparatus having automatic focus control capabilities
US5276523A (en) * 1990-03-08 1994-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal television projector with automatic focus
US5537168A (en) * 1991-04-26 1996-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical apparatus comprising automatic adjustment unit
DE4140911A1 (de) * 1991-12-12 1993-06-17 Wolfgang Schulte Projektionssystem
JP2818752B2 (ja) * 1992-06-05 1998-10-30 秀俊 小林 植物の栽培装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB296042A (en) * 1927-05-24 1928-08-24 Josslyn Vere Ramsden Improvements in and relating to microscopes and photomicrographic cameras
US2373928A (en) * 1942-01-28 1945-04-17 Turrettini Fernand Episcopic illuminating device
US2373930A (en) * 1942-02-05 1945-04-17 Turrettini Fernand Optical control apparatus
US2853920A (en) * 1954-05-11 1958-09-30 Leitz Ernst Gmbh Profile projectors

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0536905U (ja) * 1991-10-18 1993-05-18 株式会社村田製作所 誘電体フイルタ

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5714818A (en) 1982-01-26
US4386833A (en) 1983-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5610763A (en) Illuminating optical apparatus
US5414551A (en) Afocal optical system and multibeam recording apparatus comprising the same
US5797674A (en) Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same
GB2168167A (en) Illumination systems for microscopes
US5731577A (en) Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same
US5270527A (en) Method for autofocusing of microscopes and autofocusing system for microscopes
JPS6253804B2 (ja)
JPH08179237A (ja) 照明光学装置
US4422755A (en) Frontal illumination system for semiconductive wafers
US5493400A (en) Arrangement for projecting a test pattern onto a surface to be investigated
US7119882B2 (en) Apparatus and method for projection exposure
US4934799A (en) Multi-lens focussing arrangement for laser graphics imaging apparatus
JPH08334668A (ja) 自動合焦点装置を備えた光学顕微鏡
JP3012681B2 (ja) 倍率可変型光学装置
JPS627853B2 (ja)
JP2013145123A (ja) 広角反射同軸照明付光学系
US4660966A (en) Optical alignment apparatus
JP2712590B2 (ja) 倒立顕微鏡
JPH0511560Y2 (ja)
JPH05241008A (ja) 回折格子プロッター
US7154648B2 (en) Apparatus and method for fabricating hologram
JPH01109720A (ja) 照明装置
JPH0434506Y2 (ja)
JPS57200004A (en) Centering method for eyepiece part
JPS6127737Y2 (ja)