JPS6254094A - ロジウムを基剤とした新規なアモルフアス金属合金及びハロゲン電極としてのその使用法 - Google Patents
ロジウムを基剤とした新規なアモルフアス金属合金及びハロゲン電極としてのその使用法Info
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- JPS6254094A JPS6254094A JP61147998A JP14799886A JPS6254094A JP S6254094 A JPS6254094 A JP S6254094A JP 61147998 A JP61147998 A JP 61147998A JP 14799886 A JP14799886 A JP 14799886A JP S6254094 A JPS6254094 A JP S6254094A
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- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
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- C22C38/50—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel with titanium or zirconium
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- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属性と考えることのできる、導電性のアモ
ルファス金属合金に関する。アモルファス金属合金材料
は、特に新たに出現した使用方法によく適した機械的、
化学的、電気的特性のユニークな組み合わせによって、
近年関心を集めている。アモルファス金属合金は、種々
の特性を組み合わせて有している。すなわち高い硬度と
強度、柔軟性、軟磁性、強誘電性、非常に高い耐蝕性と
耐摩耗性、独特の合金組成、及び高い放射線損傷耐性で
ある。これらの特性は低温溶接合金（ｗｅｌ−ｄｉｎｇ
ａｌｌｏｙｓ）、磁気バブルメモリー、高電界超電導
装置（ｈｉｇｈ ｆｉｅｌｄ ｓｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃ
ｔｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅｓ）及び電力変成器のコア用の
軟磁性材料のような用途には望ましいものである。
ルファス金属合金に関する。アモルファス金属合金材料
は、特に新たに出現した使用方法によく適した機械的、
化学的、電気的特性のユニークな組み合わせによって、
近年関心を集めている。アモルファス金属合金は、種々
の特性を組み合わせて有している。すなわち高い硬度と
強度、柔軟性、軟磁性、強誘電性、非常に高い耐蝕性と
耐摩耗性、独特の合金組成、及び高い放射線損傷耐性で
ある。これらの特性は低温溶接合金（ｗｅｌ−ｄｉｎｇ
ａｌｌｏｙｓ）、磁気バブルメモリー、高電界超電導
装置（ｈｉｇｈ ｆｉｅｌｄ ｓｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃ
ｔｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅｓ）及び電力変成器のコア用の
軟磁性材料のような用途には望ましいものである。
耐蝕性が付与されていることによって、本発明のアモル
ファス金属合金は、我々の係属中の出願である米国特許
出願第７０５．６８７号に記載されているようにハロゲ
ン発生処理における電極として有用となる。また他に電
極としてはフッ素、塩素酸塩、過塩素酸塩の生産や、有
機化合物の電気化学的フッ素化に使用することができる
。
ファス金属合金は、我々の係属中の出願である米国特許
出願第７０５．６８７号に記載されているようにハロゲ
ン発生処理における電極として有用となる。また他に電
極としてはフッ素、塩素酸塩、過塩素酸塩の生産や、有
機化合物の電気化学的フッ素化に使用することができる
。
アモルファス金属合金材料の有する緒特性のユニークな
組合わせは、アモルファス材料の不規則な原子構造によ
るものであろうが、その原子構造は、−アモルファス材
料が化学的に均質であって、結晶性材料の性能を制限す
るものとして知られている広範囲にわたる欠点に制限さ
れないということを保証するものである。
組合わせは、アモルファス材料の不規則な原子構造によ
るものであろうが、その原子構造は、−アモルファス材
料が化学的に均質であって、結晶性材料の性能を制限す
るものとして知られている広範囲にわたる欠点に制限さ
れないということを保証するものである。
一般にアモルファス材料は、溶融状態から材料を急速に
冷却する−ことによって得られる。そのような冷却は、
１０”Ｃ／秒の水準の速度で行われる。かかる冷却速度
の処理には、スパッタリング、真空蒸着、プラズマ溶射
及び液体状態からの直接急冷がある。液体状態からの直
接急冷は、この技術によって薄層フィルム、リボン及び
ワイヤー等の種々の形に加工されうる多様な合金が知ら
れていることから、商業的に非常な成功を収めた。
冷却する−ことによって得られる。そのような冷却は、
１０”Ｃ／秒の水準の速度で行われる。かかる冷却速度
の処理には、スパッタリング、真空蒸着、プラズマ溶射
及び液体状態からの直接急冷がある。液体状態からの直
接急冷は、この技術によって薄層フィルム、リボン及び
ワイヤー等の種々の形に加工されうる多様な合金が知ら
れていることから、商業的に非常な成功を収めた。
米国特許第３，８５６．５１３号には、溶融状態からの
直接急冷によって得られる新規な金属合金組成物が、こ
の処理に関する一般的な論考も含めて記載されている。
直接急冷によって得られる新規な金属合金組成物が、こ
の処理に関する一般的な論考も含めて記載されている。
この特許には、また合金組成物をその融点以上の温度か
ら急速に冷却することによって形成される磁性アモルフ
ァス金属が記載されている。溶融金属流は、室温に保た
れたダブルロールのニップに直接流れ込む。リボンの形
で得られた急冷金属は、Ｘ線回折計測に示されたように
実質的にアモルファスであったが、延性で、約２４ 、
６０５ ｋｇ ／ ｃｔ＆の引張強さを持っていた。
ら急速に冷却することによって形成される磁性アモルフ
ァス金属が記載されている。溶融金属流は、室温に保た
れたダブルロールのニップに直接流れ込む。リボンの形
で得られた急冷金属は、Ｘ線回折計測に示されたように
実質的にアモルファスであったが、延性で、約２４ 、
６０５ ｋｇ ／ ｃｔ＆の引張強さを持っていた。
米国特許第４，０３６，６３８号は、鉄またはコバルト
と硼素との二元アモルファスを記載している。その特許
請求の範囲に記載されたアモルファス合金は真空溶融放
出処理によって形成されるもので、その処理においては
溶融合金は約１００ミリトールの部分真空の中でオリフ
ィスを通して回転シリンダーに対して押し出される。か
かるアモルファス合金は連続的なリボンとして得られ、
すべて高い機械的強度と延性を示した。
と硼素との二元アモルファスを記載している。その特許
請求の範囲に記載されたアモルファス合金は真空溶融放
出処理によって形成されるもので、その処理においては
溶融合金は約１００ミリトールの部分真空の中でオリフ
ィスを通して回転シリンダーに対して押し出される。か
かるアモルファス合金は連続的なリボンとして得られ、
すべて高い機械的強度と延性を示した。
上記のアモルファス°金属合金について、本発明の実施
に使用する合金と区別すれば、電解法における電極とし
ての使用が示唆されていないという点を挙げることがで
きる。塩化ナトリウム溶液から塩素を発生させる方法に
関しては、ある種の燐酸パラジウムを基剤とした金属合
金が調製され、米国特許第４．３３９．２７０号に記載
されている。この特許公報は１０〜４０アトミツクパー
セント（ａ ｔ−ｍ１ｃ ｐｅｒｃｅｎｔ）の燐皮び／
またはシリコンと、９０〜６０アトミツクパーセントの
パラジウム、ロジウムと白金の二種またはそれ以上とか
らなる各種の三元アモルファス金属合金を開示している
。
に使用する合金と区別すれば、電解法における電極とし
ての使用が示唆されていないという点を挙げることがで
きる。塩化ナトリウム溶液から塩素を発生させる方法に
関しては、ある種の燐酸パラジウムを基剤とした金属合
金が調製され、米国特許第４．３３９．２７０号に記載
されている。この特許公報は１０〜４０アトミツクパー
セント（ａ ｔ−ｍ１ｃ ｐｅｒｃｅｎｔ）の燐皮び／
またはシリコンと、９０〜６０アトミツクパーセントの
パラジウム、ロジウムと白金の二種またはそれ以上とか
らなる各種の三元アモルファス金属合金を開示している
。
ありうべき付加元素としては、
チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、及び／また
はイリジウムがある。その合金は電解法の電極として使
用しうるちのであり、その特許公報はハロゲン化溶液の
電解において高い耐蝕性を示すことを報告している。
はイリジウムがある。その合金は電解法の電極として使
用しうるちのであり、その特許公報はハロゲン化溶液の
電解において高い耐蝕性を示すことを報告している。
これらの合金の陽極特性は３人の特許権者、Ｍ・ハラ、
Ｋ・ハシモト、Ｋ・マツモトによって研究されており、
種々の雑誌に報告されている。そのような刊行物の一つ
としては、ｒ Ｎａｃｌ溶液におけるアモルファスＰｄ
−Ｔｉ−Ｐ合金の陽極分極作用（エレクトロキミカ・ア
クタ、２５、ＰＰ。
Ｋ・ハシモト、Ｋ・マツモトによって研究されており、
種々の雑誌に報告されている。そのような刊行物の一つ
としては、ｒ Ｎａｃｌ溶液におけるアモルファスＰｄ
−Ｔｉ−Ｐ合金の陽極分極作用（エレクトロキミカ・ア
クタ、２５、ＰＰ。
１２１５−１２２０，１９８０）Ｊ （“Ｔｈｅ ａ
ｎｏ−ｄｉｃ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ Ｂｅｈａｖ
ｉｏｒ ｏｆ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｐｄ −Ｔ ｉ
−Ｐａｌｌｏｙｓ ｉｎ Ｎａｃｌ ５ｏｌｕｔｉｏｎ
” ＩＥｌｅｃｔｒｏ−ｃｈｉｍｉｃａ ａｃｔａ、
２５．ｐｐ、１２１５−１２２０（１９８’０） ）が
あり、ここには高温でパラジウムチップと燐が反応して
パラジウムホスフィトを形成し、そしてパラジウムホス
フィトをチタンと溶融させることが記載されている。生
成した合金は次いで回転輪法（ｒｏｔａｔｉｎｇ ｗｈ
ｅｅｌ ｍｅｔｈｏｄ）によって１０〜３０ミクロンの
リボンに形成される。
ｎｏ−ｄｉｃ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ Ｂｅｈａｖ
ｉｏｒ ｏｆ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｐｄ −Ｔ ｉ
−Ｐａｌｌｏｙｓ ｉｎ Ｎａｃｌ ５ｏｌｕｔｉｏｎ
” ＩＥｌｅｃｔｒｏ−ｃｈｉｍｉｃａ ａｃｔａ、
２５．ｐｐ、１２１５−１２２０（１９８’０） ）が
あり、ここには高温でパラジウムチップと燐が反応して
パラジウムホスフィトを形成し、そしてパラジウムホス
フィトをチタンと溶融させることが記載されている。生
成した合金は次いで回転輪法（ｒｏｔａｔｉｎｇ ｗｈ
ｅｅｌ ｍｅｔｈｏｄ）によって１０〜３０ミクロンの
リボンに形成される。
「熱濃縮塩化ナトリウム溶液における、ルテニウム、ロ
ジウム、イリジウムまたは白金を含むアモルファス三元
パラジウム−燐合金の陽極特性（ジャーナル 主）
アプライド エレクトロケミストリー１３． ＰＰ、２
９５−３０６．１９８３） Ｊ （”ａｎｏｄｉｃｃ
ｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ａｍｏｒｐｈｏ
ｕｓ Ｔｅｒｎａｒｙ Ｐａｌｌａｄ−ｉｕｍ−Ｐｈｏ
ｓｐｈｏｒｕｓ ａｌｌｏｙｓ Ｃｏｎｔａｉｎｉ
ｎｇ Ｒｕｔｈｅｎｉｕｍ。
ジウム、イリジウムまたは白金を含むアモルファス三元
パラジウム−燐合金の陽極特性（ジャーナル 主）
アプライド エレクトロケミストリー１３． ＰＰ、２
９５−３０６．１９８３） Ｊ （”ａｎｏｄｉｃｃ
ｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ａｍｏｒｐｈｏ
ｕｓ Ｔｅｒｎａｒｙ Ｐａｌｌａｄ−ｉｕｍ−Ｐｈｏ
ｓｐｈｏｒｕｓ ａｌｌｏｙｓ Ｃｏｎｔａｉｎｉ
ｎｇ Ｒｕｔｈｅｎｉｕｍ。
Ｒｈｏｄｉｕｍ 、Ｉｒ１ｄｉｕｏ＋、ｏｒ Ｐｌａ
ｔｉｎｕｍ ｉｎ ａ Ｈｏｔ Ｃｏｎ−ｃｅｎｔ
ｒａｔｅｄ Ｓｏｄｉｕｍ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ ５ｏｌ
ｕｔｉｏｎ″ 、ｒｅｐｏｒｔｅｄｉｎ ｔｈｅ Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ ａ １ｉｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ旦、ＰＰ、２９５−３０６（１９８
３） ）には表題の合金が記載さされており、やはり溶
融状態から回転輪法によって調製されている。パラジウ
ム−シリコン合金も調製され評価されているが、陽極と
しては不満足であることがわかった。報告された陽極合
金はＤＳＡより、耐蝕性が高く、塩素活性が高く、酸素
活性が低いことがわかった。
ｔｉｎｕｍ ｉｎ ａ Ｈｏｔ Ｃｏｎ−ｃｅｎｔ
ｒａｔｅｄ Ｓｏｄｉｕｍ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ ５ｏｌ
ｕｔｉｏｎ″ 、ｒｅｐｏｒｔｅｄｉｎ ｔｈｅ Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ ａ １ｉｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ旦、ＰＰ、２９５−３０６（１９８
３） ）には表題の合金が記載さされており、やはり溶
融状態から回転輪法によって調製されている。パラジウ
ム−シリコン合金も調製され評価されているが、陽極と
しては不満足であることがわかった。報告された陽極合
金はＤＳＡより、耐蝕性が高く、塩素活性が高く、酸素
活性が低いことがわかった。
最後に［熱濃縮塩化ナトリウム溶液におけるアモルファ
ス パラージウムーイリジウムー燐合金の陽極特性（ジ
ャーナル 主１ ノンクリスタライｌ ソリッド５４．
’ＰＰ、 ８５−１００（１９８３）Ｊ〔ａｎｏｄｉｃ
ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ａｍｏｒｐ
ｈｏｕｓ Ｐａｌｌ−ａｄｉｕｍ −Ｉｒｉｄｉｕｍ−
Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ ａｌｌｏｙｓ ｉｎ Ｊｏｕｒ
ｎａｌｏｆ ｎｏｎ−Ｃｒ ５ｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌ
ｉｄｓ、５４．ＰＰ、ａｓ−ｔｏ。
ス パラージウムーイリジウムー燐合金の陽極特性（ジ
ャーナル 主１ ノンクリスタライｌ ソリッド５４．
’ＰＰ、 ８５−１００（１９８３）Ｊ〔ａｎｏｄｉｃ
ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ａｍｏｒｐ
ｈｏｕｓ Ｐａｌｌ−ａｄｉｕｍ −Ｉｒｉｄｉｕｍ−
Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ ａｌｌｏｙｓ ｉｎ Ｊｏｕｒ
ｎａｌｏｆ ｎｏｎ−Ｃｒ ５ｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌ
ｉｄｓ、５４．ＰＰ、ａｓ−ｔｏ。
（１９８３） ）は、やはり回転輪法によって調製され
る合金について記載している。ここｔも、中程度の耐蝕
性と、高い塩素活性と、低い酸素活性が報告されている
。
る合金について記載している。ここｔも、中程度の耐蝕
性と、高い塩素活性と、低い酸素活性が報告されている
。
著者らは、これらの合金の電気接触的選択性（ｔｈｅ
ｅｌｅｃｔｒｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ５ｅｌｅｃｔｉｖ
ｉｔｙ）が、金属チタンによって支持されたルテニウム
とチタンの酸化混合物からなる公知の寸法安定性陽極（
ＤＳＡ）のそれより非常に高いことを発見した。ＤＳＡ
の不利な点は、塩化ナトリウムの電解が完全に塩素選択
的ではなく、いくらかの酸素を生産してしまうことであ
る。報告された合金は、酸素発生の活性がＤＳＡより低
かった。
ｅｌｅｃｔｒｏｃａｔａｌｙｔｉｃ ５ｅｌｅｃｔｉｖ
ｉｔｙ）が、金属チタンによって支持されたルテニウム
とチタンの酸化混合物からなる公知の寸法安定性陽極（
ＤＳＡ）のそれより非常に高いことを発見した。ＤＳＡ
の不利な点は、塩化ナトリウムの電解が完全に塩素選択
的ではなく、いくらかの酸素を生産してしまうことであ
る。報告された合金は、酸素発生の活性がＤＳＡより低
かった。
寸法安定性陽極は、次る３つの初期の米国特許に記載さ
れている、まず米国特許第３．２３４．１１０号では、
チタンまたはチタン合金の芯部材（ｃｏｒｅ）を有し、
少なくとも部分的にはチタン酸化物でコーティングされ
た電極が必要とされる。そしてそのチタン酸化物のコー
ティングは、次いで白金やロジウム、イリジウム及びそ
れらの合金等の貴金属でコーティングされている。
れている、まず米国特許第３．２３４．１１０号では、
チタンまたはチタン合金の芯部材（ｃｏｒｅ）を有し、
少なくとも部分的にはチタン酸化物でコーティングされ
た電極が必要とされる。そしてそのチタン酸化物のコー
ティングは、次いで白金やロジウム、イリジウム及びそ
れらの合金等の貴金属でコーティングされている。
米国特許第３．２３６，７５６号は、チタンの芯部材と
、該芯部材上の白金及び／またはロジウムの多孔性コー
ティングと、芯部材上のコーティングが多孔性となって
いる部分のチタン酸化物の層とを有する電極を開示して
いる。
、該芯部材上の白金及び／またはロジウムの多孔性コー
ティングと、芯部材上のコーティングが多孔性となって
いる部分のチタン酸化物の層とを有する電極を開示して
いる。
また米国特許第３，７７１．３８５号は、白金、イリジ
ウム、ロジウム、パラジウム、ルテニウム及びオスミウ
ムからなる群から選ばれた少くとも一つの白金金属の金
属酸化物の外層をになう、チタン、タンタル、ジルコニ
ウム、ニオブ及びタングステンからなるフィルム形成金
属の芯部材を有する電極に関するものである。
ウム、ロジウム、パラジウム、ルテニウム及びオスミウ
ムからなる群から選ばれた少くとも一つの白金金属の金
属酸化物の外層をになう、チタン、タンタル、ジルコニ
ウム、ニオブ及びタングステンからなるフィルム形成金
属の芯部材を有する電極に関するものである。
これらの３つの電極のすべては、本発明の陽極とは異な
りいずれもアモルファスではないが、電解処理において
は有用である。それゆえ、アモルファス金属合金の技術
的状況にもかかわらず、ハロゲン発生処理における陽極
としてのロジウムを基剤とした新規なアモルファス金属
合金の使用は従来教示されて来なかった。ここに開示さ
れた特別な合金は極めて耐蝕性が高く、実質的に１００
パーセント塩素選択的である。
りいずれもアモルファスではないが、電解処理において
は有用である。それゆえ、アモルファス金属合金の技術
的状況にもかかわらず、ハロゲン発生処理における陽極
としてのロジウムを基剤とした新規なアモルファス金属
合金の使用は従来教示されて来なかった。ここに開示さ
れた特別な合金は極めて耐蝕性が高く、実質的に１００
パーセント塩素選択的である。
本発明は、支持材料と、該支持材料をコーティングする
ロジウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを含む
陽極であって、該アモルファス金属合金は式ＲｈｒＡａ
で表され、 ただし式中； ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり；ｒは５
０〜９６パーセントであり；そしてａは４〜５０パーセ
ントであり：そしてｒ＋ａ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極である。
ロジウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを含む
陽極であって、該アモルファス金属合金は式ＲｈｒＡａ
で表され、 ただし式中； ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり；ｒは５
０〜９６パーセントであり；そしてａは４〜５０パーセ
ントであり：そしてｒ＋ａ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極である。
また本発明は、支持材料と、該支持材料をコーティング
するロジウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを
含む陽極であって、該アモルファス金属合金は式Ｒｈ、
、ＢｂＤａで表され、ただし式中； ＤはＩｒ、 Ｐｄ、 Ｒｕ、、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ。
するロジウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを
含む陽極であって、該アモルファス金属合金は式Ｒｈ、
、ＢｂＤａで表され、ただし式中； ＤはＩｒ、 Ｐｄ、 Ｒｕ、、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ。
Ｔａ、Ｙ、Ｈｆまたはそれらの混合物であり；ｒは５０
〜９６パーセントであり； ｂは４〜５０パーセントであり；そしてｄは０〜６０パ
ーセントであり；そしてｒ＋ｂ＋ｄ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極である。
〜９６パーセントであり； ｂは４〜５０パーセントであり；そしてｄは０〜６０パ
ーセントであり；そしてｒ＋ｂ＋ｄ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極である。
更に本発明は式ＲｈｒＡａ及び式Ｒｈ、ＢｂＤａの合金
からなる群より選ばれた、ロジウムを基剤とするアモル
ファス金属陽極を有する電解槽中で、ハロゲン化物含有
溶液を電解する工程を含む、ハロゲン化物含有溶液から
ハロゲンを発生させる方 ′法。
からなる群より選ばれた、ロジウムを基剤とするアモル
ファス金属陽極を有する電解槽中で、ハロゲン化物含有
溶液を電解する工程を含む、ハロゲン化物含有溶液から
ハロゲンを発生させる方 ′法。
ただし式中：
ＡはＢ、Ｐ、Ａｓそれらの混合物であり；ＤはＩｒ、
Ｐｄ、 Ｒｕ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ。
Ｐｄ、 Ｒｕ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ。
Ｔａ、Ｙ、Ｈｆ−それらの混合物であり；ｒは５０〜９
６であり； ａは４〜５０であり； ｂは４〜５０であり； ｄはθ〜６０であり；そしてただし ｒ＋ａ＝１００であってｒ＋ｂ＋ｄ＝１００であり； 該陽極の腐蝕度は年間１０ミクロン未満である。
６であり； ａは４〜５０であり； ｂは４〜５０であり； ｄはθ〜６０であり；そしてただし ｒ＋ａ＝１００であってｒ＋ｂ＋ｄ＝１００であり； 該陽極の腐蝕度は年間１０ミクロン未満である。
本発明はロジウムを基剤とした新規なアモルファス金属
合金を使用するものであり、該アモルファス金属合金は
次式で表される： ＲｈｒＡａ １ 式中、ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり； ｒは５０〜９６パーセントであり； ａは４〜５０パーセントであり； ａ＋ｒ＝１００である； Ｒｈ、ＢｂＤ、 ［ 式中、ＤはＩｒ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ。
合金を使用するものであり、該アモルファス金属合金は
次式で表される： ＲｈｒＡａ １ 式中、ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり； ｒは５０〜９６パーセントであり； ａは４〜５０パーセントであり； ａ＋ｒ＝１００である； Ｒｈ、ＢｂＤ、 ［ 式中、ＤはＩｒ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ。
Ｔａ、Ｙ、’Ｈｆまたはそれらの混合物であり；
ｒは５０〜９６バーセントであり；
ｂは４−５０パーセントであり；
ｄは０〜６０パーセントであり；
そしてｒ＋ｂ＋ｄ＝１００である
該金属合金は二元または三元であってよく、前者の例に
おいては、ある種の三元元素は任意である。本明細書中
「アモルファス金属合金」という語句は、１種または２
種以上の前述の非金属元素をも含んでよいアモルファス
金属含有合金を含む意味で使われる。それゆえアモルフ
ァス金属合金は硼素、シリコン、燐及び炭素のような非
金属元素を含んでよい。いくつかの好ましい元素の組合
わせには、Ｒｈ／Ｐ ；Ｒｈ／Ｂ ；Ｒｈ／Ａｓ ；Ｒ
ｈ／Ｐ／Ｂ ；Ｒｈ／Ｂ／Ｐｄ ： Ｒｈ／Ｂ／Ｒｕ及
びＲｈ ／ Ｂ ／ Ｔ ｉが含まれる。ここに列挙し
たものは本発明を制限するものではなく、単に例示する
ものと解釈すべきである。
おいては、ある種の三元元素は任意である。本明細書中
「アモルファス金属合金」という語句は、１種または２
種以上の前述の非金属元素をも含んでよいアモルファス
金属含有合金を含む意味で使われる。それゆえアモルフ
ァス金属合金は硼素、シリコン、燐及び炭素のような非
金属元素を含んでよい。いくつかの好ましい元素の組合
わせには、Ｒｈ／Ｐ ；Ｒｈ／Ｂ ；Ｒｈ／Ａｓ ；Ｒ
ｈ／Ｐ／Ｂ ；Ｒｈ／Ｂ／Ｐｄ ： Ｒｈ／Ｂ／Ｒｕ及
びＲｈ ／ Ｂ ／ Ｔ ｉが含まれる。ここに列挙し
たものは本発明を制限するものではなく、単に例示する
ものと解釈すべきである。
本発明においては、これらの合金の結晶相とアモルファ
ス相の間に存在する耐蝕性及び電気化学的特性の差異が
発見された。例えば、酸素、塩素及び水素発生に対する
異なる過電圧特性、水素の不足電圧電気化学的吸収にお
ける差異、及び陽極バイアス下の耐蝕性は、すべて観察
され、前述の係属中の出願において報告されている。
ス相の間に存在する耐蝕性及び電気化学的特性の差異が
発見された。例えば、酸素、塩素及び水素発生に対する
異なる過電圧特性、水素の不足電圧電気化学的吸収にお
ける差異、及び陽極バイアス下の耐蝕性は、すべて観察
され、前述の係属中の出願において報告されている。
技術的に公知の現存するアモルファス金属合金と異なり
、本発明の合金においては、パラジウムは少量成分とし
ては存在しうるが、基剤として存在するものではない。
、本発明の合金においては、パラジウムは少量成分とし
ては存在しうるが、基剤として存在するものではない。
更に本発明の合金は、アモルファスであることによって
、特定の形態や共融組成物に限定されるものではない。
、特定の形態や共融組成物に限定されるものではない。
本発明のアモルファス金属合金は、成分元素の相当量が
独特のものであるために新規性を有する。
独特のものであるために新規性を有する。
現存するアモルファス合金は同様の元素を含有せず、そ
れらのアトミックパーセンテージも同様ではない。これ
らの合金を特徴づける電気化学的活性と耐蝕性は、元素
のユニークな組み合わせと、元素のそれぞれの配合量に
よるものである。
れらのアトミックパーセンテージも同様ではない。これ
らの合金を特徴づける電気化学的活性と耐蝕性は、元素
のユニークな組み合わせと、元素のそれぞれの配合量に
よるものである。
これらの合金は、アモルファス金属合金を製造する標準
的な技術によって調製することができる。
的な技術によって調製することができる。
それゆえ、蒸着（ｅｖａｐｏｌａｔｉｏｎ）、化学的及
び／または物理的分解、イオン・クラスターエレクトロ
・ンビームまたはスパッター処理のようないずれの物
理的または化学的方法をも適用することができる。アモ
ルファス合金は固形、粉体または薄層フィルム形でもよ
いし、それ自体独立したものでも支持材料に付着しても
よい。０、Ｎ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ及びＡｒ等の微量不純物
が、材料の調製及び性能に極めて有害であるとは思われ
ない。材料が調製または操作される条件の中で唯一の制
限は、どちらの場合にも温度がアモルファス金属合金の
結晶温度より低くなければならないということである。
び／または物理的分解、イオン・クラスターエレクトロ
・ンビームまたはスパッター処理のようないずれの物
理的または化学的方法をも適用することができる。アモ
ルファス合金は固形、粉体または薄層フィルム形でもよ
いし、それ自体独立したものでも支持材料に付着しても
よい。０、Ｎ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ及びＡｒ等の微量不純物
が、材料の調製及び性能に極めて有害であるとは思われ
ない。材料が調製または操作される条件の中で唯一の制
限は、どちらの場合にも温度がアモルファス金属合金の
結晶温度より低くなければならないということである。
本発明において用いられるアモルファス金属合金は、最
終的にハロゲン発生のための種々の電気化学的処理にお
ける陽極として使用される支持材料金属のコーティング
に特に好適である。電極として使用するに好ましい少く
とも一つの支持材料は、他の金属や各種の非金属も所期
の使用法に従えば適切ではあるが、チタンである。支持
材料は第一にアモルファス金属合金を支持するために有
用なのであって、それゆえ導体または半導体材料であっ
てもよい。コーティングは、後に例示するようにスパッ
タリングによって支持材料にすみやかに付着せしめられ
る。コーティングの厚さは重要ではなく、広い範囲であ
ってよい。例えば、コーティングの厚さはそれが所期の
使用法において実際的である限りは他の範囲を制限する
必要はないが、１００ミクロン以上であることができる
。
終的にハロゲン発生のための種々の電気化学的処理にお
ける陽極として使用される支持材料金属のコーティング
に特に好適である。電極として使用するに好ましい少く
とも一つの支持材料は、他の金属や各種の非金属も所期
の使用法に従えば適切ではあるが、チタンである。支持
材料は第一にアモルファス金属合金を支持するために有
用なのであって、それゆえ導体または半導体材料であっ
てもよい。コーティングは、後に例示するようにスパッ
タリングによって支持材料にすみやかに付着せしめられ
る。コーティングの厚さは重要ではなく、広い範囲であ
ってよい。例えば、コーティングの厚さはそれが所期の
使用法において実際的である限りは他の範囲を制限する
必要はないが、１００ミクロン以上であることができる
。
後述の作業において例示した好ましい厚さは、３０００
人である。望ましい厚さのいく分かは電極の調製の方法
に従い、つく分かは所期の使用法に従って規制されるこ
とが理解されるであろう。
人である。望ましい厚さのいく分かは電極の調製の方法
に従い、つく分かは所期の使用法に従って規制されるこ
とが理解されるであろう。
それゆえ液体急冷によって調製されたそれ自体独立した
ものであるかまたは非支持の電極は、約・１００ミクロ
ンの厚さを有することができる。あるいはアモルファス
合金電極は粉体のアモルファス合金をあらかじめ決めら
れた形にプレスすることによっても調製することができ
、自体独立したものであるために十分な厚さを有してい
てもよい。
ものであるかまたは非支持の電極は、約・１００ミクロ
ンの厚さを有することができる。あるいはアモルファス
合金電極は粉体のアモルファス合金をあらかじめ決めら
れた形にプレスすることによっても調製することができ
、自体独立したものであるために十分な厚さを有してい
てもよい。
スパッタリング処理が用られる場合は、比較的薄い層を
付着することができ、これらは好ましくは前述のような
適切な支持材料によって支持される。それゆえ、実際の
本発明の電極は、支持されているかまたは支持されてい
ないアモルファス金属合金であることが理解されるであ
ろう。非常に薄い層が用られる場合、結合性を付与する
ために支持材料は便が良いであろうし、必要でさえある
だろう。
付着することができ、これらは好ましくは前述のような
適切な支持材料によって支持される。それゆえ、実際の
本発明の電極は、支持されているかまたは支持されてい
ないアモルファス金属合金であることが理解されるであ
ろう。非常に薄い層が用られる場合、結合性を付与する
ために支持材料は便が良いであろうし、必要でさえある
だろう。
コーティングまたは固形生成物としてのアモルファス金
属合金の使用に関りなく、この合金は実質的にアモルフ
ァスである。本明細書中アモルファス金属合金に関して
使用される「実質的に」という語句は、金属合金が少く
とも５０パ一セントアモルファスであることを意味する
。金属合金は好ましくは、Ｘ線回折分析によるところの
、少くとも８０パ一セントアモルファスであり、さらに
好ましくはほぼ１００パーセントアモルファスである。
属合金の使用に関りなく、この合金は実質的にアモルフ
ァスである。本明細書中アモルファス金属合金に関して
使用される「実質的に」という語句は、金属合金が少く
とも５０パ一セントアモルファスであることを意味する
。金属合金は好ましくは、Ｘ線回折分析によるところの
、少くとも８０パ一セントアモルファスであり、さらに
好ましくはほぼ１００パーセントアモルファスである。
本発明はまた、本明細書中に記載された新規なアモルフ
ァス金属合金を陽極として用いる、ハロゲン化物含有溶
液からハロゲンを発生させる方法をも提供するものであ
る−０かかる方法は、すなわち式ＲｈｒＡａ及び式Ｒｈ
、Ｂ、Ｄ、の合金からなる群より選ばれた、ロジウムを
基剤とするアモルファス金属陽極を有する電解槽中で、
ハロゲン化物含有溶液を電解する工程を含む、ハロゲン
化物含有溶液からハロゲンを発生させる方法である。
ァス金属合金を陽極として用いる、ハロゲン化物含有溶
液からハロゲンを発生させる方法をも提供するものであ
る−０かかる方法は、すなわち式ＲｈｒＡａ及び式Ｒｈ
、Ｂ、Ｄ、の合金からなる群より選ばれた、ロジウムを
基剤とするアモルファス金属陽極を有する電解槽中で、
ハロゲン化物含有溶液を電解する工程を含む、ハロゲン
化物含有溶液からハロゲンを発生させる方法である。
ただし式中：
ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり；ＤはＩ
ｒ、 Ｐｄ、 Ｒｕ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ、’Ｔａ
。
ｒ、 Ｐｄ、 Ｒｕ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｎｂ、’Ｔａ
。
Ｙ、Ｈｆまたはそれらの混合物であり；ｒは５０〜９６
であり； ａは４〜５０であり； ｂは４〜５０であり； ｄは０〜６０であり；そしてただし ｒ＋ａ＝１００であってｒ＋ｂ＋ｄ、＝１００である。
であり； ａは４〜５０であり； ｂは４〜５０であり； ｄは０〜６０であり；そしてただし ｒ＋ａ＝１００であってｒ＋ｂ＋ｄ、＝１００である。
塩素発生の工程において、陽極で発生する特定の反応は
、次の通りである： ２ Ｃｌ −２ｅ −−〉Ｃｌ ｚ 同様に陰極では、これに限定する必要はないが、対応す
る次の反応が発生しうる。
、次の通りである： ２ Ｃｌ −２ｅ −−〉Ｃｌ ｚ 同様に陰極では、これに限定する必要はないが、対応す
る次の反応が発生しうる。
２ＨｚＯ＋、２ｅ−−〉 Ｈｚ ＋２０Ｈ−上述のよう
に、ここで用いられるアモルファス金属合金は、ＤＳＡ
材料の約９７バーセントに対して、実質的に１００パー
セント塩素選択的である。
に、ここで用いられるアモルファス金属合金は、ＤＳＡ
材料の約９７バーセントに対して、実質的に１００パー
セント塩素選択的である。
この活性の増加が、２つの重要な結果をもたらしている
。第１に、（入力した電気エネルギ一単位当りの）塩素
発生効果はほぼ１００パーセントであり、約３パーセン
トの改良がなされた。第２に、酸素含有量を無視しうろ
ことから、分離工程が不要である。
。第１に、（入力した電気エネルギ一単位当りの）塩素
発生効果はほぼ１００パーセントであり、約３パーセン
トの改良がなされた。第２に、酸素含有量を無視しうろ
ことから、分離工程が不要である。
当業者であれば理解するであろうが、広範な種類のハロ
ゲン化物含有溶液が、例えば、塩化ボ・ノタジウム、塩
化リチウム、塩化セシウム、塩化水素、塩化鉄、塩化亜
鉛、塩化銅及びそれらの類似物等が、塩化ナトリウムと
置換されうる。塩素に加えて生成物としては、例えば塩
素酸塩、過塩素酸塩、及び他の塩素酸化物等を含むこと
ができる。
ゲン化物含有溶液が、例えば、塩化ボ・ノタジウム、塩
化リチウム、塩化セシウム、塩化水素、塩化鉄、塩化亜
鉛、塩化銅及びそれらの類似物等が、塩化ナトリウムと
置換されうる。塩素に加えて生成物としては、例えば塩
素酸塩、過塩素酸塩、及び他の塩素酸化物等を含むこと
ができる。
同様に他のハロゲン化物も塩素化物の代わりに存在しう
る。そしてそれゆえ他の生成物も発生する。・本発明は
、それゆえ何らかの特定のハロゲン化物含有溶液の使用
によって制限されるものではない。
る。そしてそれゆえ他の生成物も発生する。・本発明は
、それゆえ何らかの特定のハロゲン化物含有溶液の使用
によって制限されるものではない。
電解の工程は、当業者において公知の標準的条件におい
て導電することができる。これには以下の条件が含まれ
る。約θ〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃の温度；
約１．１０〜１．７０の範囲の電圧；そして約１０〜１
０００ｍＡ／ｃｎｌの電流密度である。電解溶液は一般
にｐＨ１〜６であり、モル濃度は０．５〜４Ｍである。
て導電することができる。これには以下の条件が含まれ
る。約θ〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃の温度；
約１．１０〜１．７０の範囲の電圧；そして約１０〜１
０００ｍＡ／ｃｎｌの電流密度である。電解溶液は一般
にｐＨ１〜６であり、モル濃度は０．５〜４Ｍである。
電池の形状は本発明の方法を実施するについて重要では
なく、それゆえ本発明を制限するものではない。
なく、それゆえ本発明を制限するものではない。
次に記載する実施例において、６個のロジウムを基剤と
するアモルファス合金がアルゴンガス中で高周波スパッ
タリングによって調製された。スパソタードフィルムス
社製Ａ２″リサーチＳ−銃が使用された。知られている
ように、ＤＣスパッタリングも使用されうる。各実施例
において、スパッターされたアモルファス合金を付着さ
せるためにチタン支持材が配置された。ターゲットと支
持材の間の距離は各実施例において約ＩＱｃｍであった
。各合金の組成物はＸ線分析によって検定され、以下に
示すようなアモルファスであった。
するアモルファス合金がアルゴンガス中で高周波スパッ
タリングによって調製された。スパソタードフィルムス
社製Ａ２″リサーチＳ−銃が使用された。知られている
ように、ＤＣスパッタリングも使用されうる。各実施例
において、スパッターされたアモルファス合金を付着さ
せるためにチタン支持材が配置された。ターゲットと支
持材の間の距離は各実施例において約ＩＱｃｍであった
。各合金の組成物はＸ線分析によって検定され、以下に
示すようなアモルファスであった。
第 １ 表
アモルファス金属合金ハロゲン電極
実施例番号 合 金
Ｉ Ｒｈ、５Ｂｚｓ
２ Ｒｈ？。Ｂ２゜ＰＩＯ３Ｒｈａ。
Ｂ２゜Ｐｄ、。
４ ＲｈａｓＢｉ。Ｐｄ、Ｂ５
Ｒｈ４ｏＢ：＋ｏＲｔ！＋。
Ｒｈ４ｏＢ：＋ｏＲｔ！＋。
６ Ｒｈ ６６Ｂ ｚｏ’ｒ’ｉ ｚ
。
。
第１表に示した６個の合金は、溶液中で陽極にバイアス
がかかった時に塩素を発生させるために、４Ｍ Ｎａ
ｃｌ溶中で個々に分離して使用された。電圧が記録され
、各々の合金の腐蝕度が測定され、下記の第２表に示さ
れている。
がかかった時に塩素を発生させるために、４Ｍ Ｎａ
ｃｌ溶中で個々に分離して使用された。電圧が記録され
、各々の合金の腐蝕度が測定され、下記の第２表に示さ
れている。
第 ２ 表
１ １．２１ ０．０４
２ １．２１ ０．０６
３ １．２４ ４．７２
４ １．１８ ８．７６
５ １．２４ ７．６４
６ １．２６ ０．０７
本発明に係る合金陽極の示す卓越した耐蝕性を証明する
ために、腐蝕度を５つの異った陽極について比較した。
ために、腐蝕度を５つの異った陽極について比較した。
比較された陽極は：パラジウム；ハラら（Ｈａｒａ、
ｅｔａｌ）により報告されているア、モルファスＰ ｄ
／ Ｓ ｉ合金及びアモルファスＰｄ／Ｉ ｒ ／
Ｒｈ ／ Ｐ合金、ツバｙり（Ｎｏｖａｋ）らにより報
告されているＤＳＡ、及びハラらにより報告されている
アモルファスＰ ｄ ／ Ｉ ｒ ／ Ｔ ｉ ／ Ｐ
合金であるが上記に示す方法で調製したものを用いた。
ｅｔａｌ）により報告されているア、モルファスＰ ｄ
／ Ｓ ｉ合金及びアモルファスＰｄ／Ｉ ｒ ／
Ｒｈ ／ Ｐ合金、ツバｙり（Ｎｏｖａｋ）らにより報
告されているＤＳＡ、及びハラらにより報告されている
アモルファスＰ ｄ ／ Ｉ ｒ ／ Ｔ ｉ ／ Ｐ
合金であるが上記に示す方法で調製したものを用いた。
１０００人／ｍ、 ４Ｍ Ｎａｃｌ、 ８０℃、
ＰＨ＝４におけるこれら陽極のそれぞれの腐蝕度を測定
し、下記第３表に示す。
ＰＨ＝４におけるこれら陽極のそれぞれの腐蝕度を測定
し、下記第３表に示す。
第 ３ 表
ａ Ｐ ｄ ＋４１１’ｌ ｒ （３６１Ｒｈ ＋１０
ＪＰ （＋９１ ４ＤＳＡ ０．３１ ａ Ｐｄ＋４ｏ＋Ｉｒ＋：＋ｏ＋Ｔｉｔｔｏ＋Ｐ＋ｚｏ
＋ １２．４ａ）原ら、（ｈａｒａ ｅｔ ａｌ、）、
ジャーナル オブアブライド エレクトロケストリー（
ｊ□ｕｒｎａｌｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）＋ １ ３ 、 Ｐ、
２９５（１９８３）、 ｂ）原ら、（ｈａｒａ ｅｔ’ ａｌ、）、ジャーナル
オブノンークリスタリンソリッド（ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ ｎｏｎ −Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌｉｄ
ｓ） 、５４、Ｐ Ｐ 、 ８５ ’（１９８３）ｃ）
［）、ツバツク（Ｄ、 Ｎｏｖａｋ）、Ｂ、ティラック
（Ｂ、Ｔｉ１ａｋ）、Ｂ、コンウェイ （ｉ、ｃｏｎｗ
ｏｙ） 、モダンアスペクツ オブ エレクトロケミス
トリー（Ｍｏｄｅｒｎ Ａｓｐｅｃｔｓ ｏｆ Ｅｌｅ
ｔｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ） 、チャプター（Ｃｈａｐ
ｔ、） ４ （１９８３）ｄ）スパッターされた２００
０人フィルム、ａＰｄ＋ｓ。） Ｓ ｉ （２０１陽極
について報告されたデータはＰｄに対し相対値で与えら
れている分極のデータから推定した。ａ Ｐ ｄ （
４１１１ｒ （３０１Ｒｈ ＜＋ｏ＋ Ｐ （＋９１陽
極はジャーナル オブ ノンクリスタリン ソリッド（
ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎ
ｅ ５ｏｌｉｄｓ）において報告されたように、もっと
も耐蝕性の大きい物質である。第２．３表からもわかる
ように、本発明の３本のアモルファス金属合金陽極は、
どんな公知の陽極物質よりもはるかに良好な腐蝕度を有
することがわかった。
ＪＰ （＋９１ ４ＤＳＡ ０．３１ ａ Ｐｄ＋４ｏ＋Ｉｒ＋：＋ｏ＋Ｔｉｔｔｏ＋Ｐ＋ｚｏ
＋ １２．４ａ）原ら、（ｈａｒａ ｅｔ ａｌ、）、
ジャーナル オブアブライド エレクトロケストリー（
ｊ□ｕｒｎａｌｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｅｌｅｃｔ
ｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）＋ １ ３ 、 Ｐ、
２９５（１９８３）、 ｂ）原ら、（ｈａｒａ ｅｔ’ ａｌ、）、ジャーナル
オブノンークリスタリンソリッド（ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ ｎｏｎ −Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏｌｉｄ
ｓ） 、５４、Ｐ Ｐ 、 ８５ ’（１９８３）ｃ）
［）、ツバツク（Ｄ、 Ｎｏｖａｋ）、Ｂ、ティラック
（Ｂ、Ｔｉ１ａｋ）、Ｂ、コンウェイ （ｉ、ｃｏｎｗ
ｏｙ） 、モダンアスペクツ オブ エレクトロケミス
トリー（Ｍｏｄｅｒｎ Ａｓｐｅｃｔｓ ｏｆ Ｅｌｅ
ｔｒｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ） 、チャプター（Ｃｈａｐ
ｔ、） ４ （１９８３）ｄ）スパッターされた２００
０人フィルム、ａＰｄ＋ｓ。） Ｓ ｉ （２０１陽極
について報告されたデータはＰｄに対し相対値で与えら
れている分極のデータから推定した。ａ Ｐ ｄ （
４１１１ｒ （３０１Ｒｈ ＜＋ｏ＋ Ｐ （＋９１陽
極はジャーナル オブ ノンクリスタリン ソリッド（
ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎ
ｅ ５ｏｌｉｄｓ）において報告されたように、もっと
も耐蝕性の大きい物質である。第２．３表からもわかる
ように、本発明の３本のアモルファス金属合金陽極は、
どんな公知の陽極物質よりもはるかに良好な腐蝕度を有
することがわかった。
従って、前記実施例は新規なロジウムベースのアモルフ
ァス金属合金の組成及び使用を示すものである。上記に
よりわかるように又証明されたように本発明のアモルフ
ァス金属は種々の電気化学的プロセスにおいて有用であ
る。そのように用いられたときの他のアモルファス合金
の腐蝕に対する卓越した耐性は前述の係属中の米国特許
出願（Ｕ、Ｓ、Ｓｅｒ、Ｎｏ、）７０５，６８７中に証
明されており、その主題は本明細書中、参考文献として
取り入れている。このことより、本発明のアモルファス
合金を含む電極も又、電極過程における腐蝕に対して高
度に耐性があることが推定できる。
ァス金属合金の組成及び使用を示すものである。上記に
よりわかるように又証明されたように本発明のアモルフ
ァス金属は種々の電気化学的プロセスにおいて有用であ
る。そのように用いられたときの他のアモルファス合金
の腐蝕に対する卓越した耐性は前述の係属中の米国特許
出願（Ｕ、Ｓ、Ｓｅｒ、Ｎｏ、）７０５，６８７中に証
明されており、その主題は本明細書中、参考文献として
取り入れている。このことより、本発明のアモルファス
合金を含む電極も又、電極過程における腐蝕に対して高
度に耐性があることが推定できる。
本発明に係る合金はチタンのような金属支持材の上に合
金を付着させるための有用な方法であるスパッター法に
より製造されるが、合金は他の方法により製造するεと
ができ、又他の形を保有することができるのであるから
、スパッターリングの工程も支持材の被覆工程も本発明
を限定するものと解釈してはならない。同様に本発明の
アモルファス金属合金の組成もすべての開示した明細書
の範囲内で変化させることができる。したがって、例証
した合金中の特定の成分も、相対成分も本発明の限定と
解釈してはならない。
金を付着させるための有用な方法であるスパッター法に
より製造されるが、合金は他の方法により製造するεと
ができ、又他の形を保有することができるのであるから
、スパッターリングの工程も支持材の被覆工程も本発明
を限定するものと解釈してはならない。同様に本発明の
アモルファス金属合金の組成もすべての開示した明細書
の範囲内で変化させることができる。したがって、例証
した合金中の特定の成分も、相対成分も本発明の限定と
解釈してはならない。
さらに、ここで例証されるアモルファス合金の１つは、
塩水や海水のような塩化ナトリウム溶液から塩素ガスが
発生する関係において利用されてきたが、一方では、従
来のＤＳＡ物質又は他の電極を、本発明のアモルファス
金属陽極で置き換えることにより、公知の電気分解法を
用いて他の塩素含有化合物を製造することができるとい
うことを、当業者は容易よ理解することができる。同様
に、他のハロゲン化物含有電解溶液は、ここで得られた
種々の生成物とともに報告されている塩化ナトリウムの
かわりに用いることができる。さらに、これら陽極は他
の従来の電解槽中でも利用できるかもしれない。
塩水や海水のような塩化ナトリウム溶液から塩素ガスが
発生する関係において利用されてきたが、一方では、従
来のＤＳＡ物質又は他の電極を、本発明のアモルファス
金属陽極で置き換えることにより、公知の電気分解法を
用いて他の塩素含有化合物を製造することができるとい
うことを、当業者は容易よ理解することができる。同様
に、他のハロゲン化物含有電解溶液は、ここで得られた
種々の生成物とともに報告されている塩化ナトリウムの
かわりに用いることができる。さらに、これら陽極は他
の従来の電解槽中でも利用できるかもしれない。
従って、ここで開示されたいかなる変数も、ここで開示
され、記述さた発明の精神からはずれることなく、容易
に決定し、制御することができる、さらに本発明の範囲
には、すべての修正及び変更で添付フレイムの範囲に入
るものを含み、ここで述べた関連データ及び実施例によ
り限定されるものでない。これらは、単に合金の製造法
及びアモルファスな性質の証明をするために与えられた
にすぎないからである。
され、記述さた発明の精神からはずれることなく、容易
に決定し、制御することができる、さらに本発明の範囲
には、すべての修正及び変更で添付フレイムの範囲に入
るものを含み、ここで述べた関連データ及び実施例によ
り限定されるものでない。これらは、単に合金の製造法
及びアモルファスな性質の証明をするために与えられた
にすぎないからである。
Claims (14)
- （１）支持材料と、該支持材料をコーティングするロジ
ウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを含む陽極
であって、該アモルファス金属合金は式Ｒｈ＿ｒＡ＿ａ
で表され、 ただし式中； ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり； ｒは５０〜９６パーセントであり；そして ａは４〜５０パーセントであり；そして ｒ＋ａ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極。 - （２）アモルファス金属合金が１００％アモルファスで
ある特許請求の範囲第（１）項記載の陽極。 - （３）支持材料がチタンである特許請求の範囲第（１）
項記載の陽極。 - （４）支持材料に付着したアモルファス金属合金の厚さ
が３０００Åである特許請求の範囲第（１）項記載の陽
極。 - （５）支持材料と、該支持材料をコーティングするロジ
ウムを基剤としたアモルファス金属合金、とを含む陽極
であって、該アモルファス金属合金は式Ｒｈ＿ｒＢ＿ｂ
Ｄ＿ｄで表され、 ただし式中； ＤはＩｒ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙ、
Ｈｆまたはそれらの混合物であり；ｒは５０〜９６パー
セントであり； ｂは４〜５０パーセントであり；そして ｄは０〜６０パーセントであり；そして ｒ＋ｂ＋ｄ＝１００である； 腐蝕度が年間１０ミクロン未満の該陽極。 - （６）アモルファス金属合金が１００パーセントアモル
ファスである特許請求の範囲第（５）項記載の陽極。 - （７）支持材料がチタンである特許請求の範囲第（５）
項記載の陽極。 - （８）支持材料に付着したアモルファス金属合金の厚さ
が３０００Åである特許請求の範囲第（５）項記載の陽
極。 - （９）式ＲｈｒＡａ及び式ＲｈｒＢｂＤｄの合金からな
る群より選ばれた、ロジウムを基剤とするアモルファス
金属陽極を有する電解槽中で、ハロゲン化物含有溶液を
電解する工程を含む、ハロゲン化物含有溶液からハロゲ
ンを発生させる方法。 ただし式中； ＡはＢ、Ｐ、Ａｓまたはそれらの混合物であり； ＤはＩｒ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙ、
Ｈｆまたはそれらの混合物であり；ｒは５０〜９６であ
り； ａは４〜５０であり； ｂは４〜５０であり； ｄは０〜６０であり；そしてただし ｒ＋ａ＝１００であってｒ＋ｂ＋ｄ＝１００であり； 該陽極の腐蝕度は年間１０ミクロン未満である。 - （１０）アモルファス金属合金が１００パーセントアモ
ルファスである特許請求の範囲第（９）項記載のロジウ
ムを基剤としたアモルファス金属合金陽極。 - （１１）ハロゲン化物が塩化物である特許請求の範囲第
（９）項記載のロジウムを基剤としたアモルファス金属
合金陽極。 - （１２）塩素化物含有溶液の電解において、塩素、塩素
酸塩、過塩素酸塩及び他の塩素酸化物からなる群より選
ばれる生成物を生産する特許請求の範囲第（１１）項記
載のロジウムを基剤としたアモルファス金属合金陽極。 - （１３）ハロゲン化物含有溶液が塩化ナトリウム溶液を
含む特許請求の範囲第（９）項記載のロジウムを基剤と
したアモルファス金属合金陽極。 - （１４）塩素が実質的に酸素なしで発生するところの特
許請求の範囲第（１３）項記載のロジウムを基剤とした
アモルファス金属合金陽極。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74799885A | 1985-06-24 | 1985-06-24 | |
| US747998 | 1985-06-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254094A true JPS6254094A (ja) | 1987-03-09 |
Family
ID=25007556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61147998A Pending JPS6254094A (ja) | 1985-06-24 | 1986-06-24 | ロジウムを基剤とした新規なアモルフアス金属合金及びハロゲン電極としてのその使用法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0209264A1 (ja) |
| JP (1) | JPS6254094A (ja) |
| KR (1) | KR870000445A (ja) |
| CN (1) | CN86105607A (ja) |
| AU (1) | AU5919786A (ja) |
| BR (1) | BR8602910A (ja) |
| ES (1) | ES8706852A1 (ja) |
| IN (1) | IN171851B (ja) |
| NO (1) | NO862524L (ja) |
| ZA (1) | ZA864667B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019183198A (ja) * | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | ロジウムリンめっき被膜および積層体材料 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10040591C1 (de) | 2000-08-15 | 2001-11-08 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf einem feuerfesten Bauteil und deren Verwendung |
| GB201413723D0 (en) * | 2014-08-01 | 2014-09-17 | Johnson Matthey Plc | Rhodium alloys |
| CN115874216B (zh) * | 2022-12-02 | 2024-12-20 | 深圳大学 | 一种用于析氯反应的铂基非晶合金多孔催化剂及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55152143A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Amorphous alloy electrode material for electrolysis |
| JPS6063336A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-11 | Daiki Gomme Kogyo Kk | 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金 |
| US4560454A (en) * | 1984-05-01 | 1985-12-24 | The Standard Oil Company (Ohio) | Electrolysis of halide-containing solutions with platinum based amorphous metal alloy anodes |
-
1985
- 1985-06-23 CN CN198686105607A patent/CN86105607A/zh active Pending
-
1986
- 1986-06-23 EP EP86304802A patent/EP0209264A1/en not_active Ceased
- 1986-06-23 NO NO862524A patent/NO862524L/no unknown
- 1986-06-23 ES ES556440A patent/ES8706852A1/es not_active Expired
- 1986-06-23 AU AU59197/86A patent/AU5919786A/en not_active Abandoned
- 1986-06-23 ZA ZA864667A patent/ZA864667B/xx unknown
- 1986-06-24 IN IN547/DEL/86A patent/IN171851B/en unknown
- 1986-06-24 KR KR1019860005044A patent/KR870000445A/ko not_active Withdrawn
- 1986-06-24 JP JP61147998A patent/JPS6254094A/ja active Pending
- 1986-06-24 BR BR8602910A patent/BR8602910A/pt unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019183198A (ja) * | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | ロジウムリンめっき被膜および積層体材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO862524D0 (no) | 1986-06-23 |
| KR870000445A (ko) | 1987-02-18 |
| ES8706852A1 (es) | 1987-07-01 |
| EP0209264A1 (en) | 1987-01-21 |
| CN86105607A (zh) | 1987-02-25 |
| IN171851B (ja) | 1993-01-23 |
| AU5919786A (en) | 1987-01-08 |
| NO862524L (no) | 1986-12-29 |
| ES556440A0 (es) | 1987-07-01 |
| ZA864667B (en) | 1987-02-25 |
| BR8602910A (pt) | 1987-02-17 |
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