JPS6254492A - 焼成炉 - Google Patents

焼成炉

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Publication number
JPS6254492A
JPS6254492A JP19435785A JP19435785A JPS6254492A JP S6254492 A JPS6254492 A JP S6254492A JP 19435785 A JP19435785 A JP 19435785A JP 19435785 A JP19435785 A JP 19435785A JP S6254492 A JPS6254492 A JP S6254492A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thick film
circuit board
hybrid circuit
film hybrid
furnace
Prior art date
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Pending
Application number
JP19435785A
Other languages
English (en)
Inventor
村田 幸男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、混成集積回路基板のペースト類を焼成する
焼成炉に関するものである。
〔従来の技術〕
第8図は、従来の焼成炉を示す図である。図においてI
ll ri加熱炉、(2)は焼成される厚膜混成回路基
板、(7)は厚膜混成回路基板(2)全搬送する金属性
メツシュベルト、(8)ri上記金属性メツシュベルト
(7)を駆動する駆動用ローラ、(61に駆動用モータ
である。
次に動作について説明する・ +llZ +lff1田モー /J fgl (7”r
 roIa;、力fi ml +ml田v:y −% 
fRI V 袋達され金属性メツシュペル)t71回転
させる。
焼成される厚膜混成回路基板(21は金属性メツシュペ
ル) +7)により、搬送され、加熱炉(1) ’i通
りぬけ焼成される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の焼成炉は以上のように構成されているので、金属
性メツシュベルトが高温度(約900℃)と室温の間を
通過している為ヒートストレスによる酸化が進み、金属
性スケールが発生する欠点があった。この金属スケール
は特にファインパターンの厚膜回路基板の抵抗体や導体
と反応して、特性が満足するものが得られなかった口こ
の発明は上記のような問題点を解消する為になされたも
ので0、金属性メツシュベルトのスケール発生を極力お
さえることが出来る焼成炉を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る焼成炉は、セラミックや石英の非金褐性
材料を用いた、棒状ローラを回転することに焼成物体を
搬送させる構造とし7)、 4のである。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図において、1llri加熱炉、(2)は焼成され
る厚膜混成回路基板、(3)は厚膜混成回路基板(2)
を搬送するセラミックローラ、(4)はギヤー、(5)
はセラミックローラ(31ヲ回転力を与えるチェーン、
(6)はチェーン(6)に駆動力を与える駆動モータで
ある。
第2図は第1図の断面図である。
111は加熱炉、(21は厚膜混成回路基板、(3)は
厚膜混成回路基板を搬送するセラミックローラ、(4)
はギヤー、(5)は!1瞥、動力を伝達させるチェーン
、(8)は加熱用ランプ、(7)は断熱材である。
駆動モータ(6)の回転力がチェーン(5)に伝達され
、ギヤー(4)及びセラミックローラ(3)が回転する
O 焼成されるべき厚膜混成回路基板121はセラミックロ
ーラ(31によって搬送され加熱炉(1]ヲ通りぬけて
焼成される。
第2図は加熱炉II+の断面図である。
セラミックローラ(310回転力によって搬送された厚
膜混成回路基板(21は、加熱炉11+において、断熱
材(7)によってかこまれた加熱用ランプ(8)の熱源
によって、高温加熱される。
セラミックローラ(31の回転力はチェーン(5)とギ
ヤー+41によって加熱炉+1)の外部から伝達されて
いるので、高温に上昇しない構造となっている。
普た、上記実施例では、加熱源をランプヒータとしたが
、抵抗コイルによる加熱方式やマイクロ波の高周波茄熱
源を用いても、上記実施例と同様な効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、こ、の発明によれば、金属メツシュベル
トラ用いた搬送に比べ、ベルトからの塵あい発生がなく
、クリーンな状態で厚膜混成回路基板が焼成用きるので
、性能が良い。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による焼成炉を示す図、第
2図は第1図の断面図、第8図は従来の焼成炉を示す図
である。 図において、fi+は加熱′炉、+21 rIま厚膜混
成回路基板、131はセラミックローラ、(4)はギヤ
、(5)はチェーン、(61は駆動モータ、(7)は断
熱材、(8)は加熱用ランプ。 なお図中、同一符号に同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミック又は石英を用いた、棒状ローラーを回
    転することにより焼成物体を搬送することを特徴とする
    焼成炉。
JP19435785A 1985-09-02 1985-09-02 焼成炉 Pending JPS6254492A (ja)

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