JPS6254606B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6254606B2 JPS6254606B2 JP52127121A JP12712177A JPS6254606B2 JP S6254606 B2 JPS6254606 B2 JP S6254606B2 JP 52127121 A JP52127121 A JP 52127121A JP 12712177 A JP12712177 A JP 12712177A JP S6254606 B2 JPS6254606 B2 JP S6254606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- gap
- pulse
- discharge
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放電加工方法、特に加工パルスの発生
に関するものである。
に関するものである。
加工条件によつて設定されるパルス巾τpoと間
隔τpffを有する加工パルスのパルス列を用いて
加工するとき、安定加工するために従来通常採用
された手段は所定の時間々隔で前記パルス列を中
断することであり、中断することによつて間隙を
浄化し、アーク等の異常放電を防止するようにし
ていた。この場合、確かにパルス列の中間におい
てアーク等が発生しても次の中断時に消弧するこ
とができ、加工を安定することができるが、放電
を中断することによつて単位時間当りのパルス発
生数が減少し、また中断期間完了後に次の放電を
再開するとき間隙に放電起動のきつかけとなる加
工屑やガスの介在が無くなり容易に短時間には正
常放電に復帰しない、このことから加工速度が低
下し所期のスピードまでに向上できない欠点があ
つた。
隔τpffを有する加工パルスのパルス列を用いて
加工するとき、安定加工するために従来通常採用
された手段は所定の時間々隔で前記パルス列を中
断することであり、中断することによつて間隙を
浄化し、アーク等の異常放電を防止するようにし
ていた。この場合、確かにパルス列の中間におい
てアーク等が発生しても次の中断時に消弧するこ
とができ、加工を安定することができるが、放電
を中断することによつて単位時間当りのパルス発
生数が減少し、また中断期間完了後に次の放電を
再開するとき間隙に放電起動のきつかけとなる加
工屑やガスの介在が無くなり容易に短時間には正
常放電に復帰しない、このことから加工速度が低
下し所期のスピードまでに向上できない欠点があ
つた。
本発明はこの欠点を除去すべく提案されたもの
である。パルス列を用いた放電加工の加工速度を
所期の理論値まで近づけるよう制御したもので、
即ちパルス列のある期間に加工パルスの波高値Ip
を増大させるかまたはパルス間隔τpffを短縮、
パルス巾τpoの増大制御をして単位時間当りのエ
ネルギ供給量を急増させる制御を、放電電流の平
均値が一定値に保たれるように加工間隙を制御す
るサーボ送り制御の応答速度に比較して充分短
い、設定された所定の時間間隔又は加工間隙の放
電状態に応じた時間間隔で繰返すことにより、前
記加工パルスのパルス列による加工よりも加工間
隙を実質的に広げた状態で加工を行なうようにし
たことを特徴とするものである。
である。パルス列を用いた放電加工の加工速度を
所期の理論値まで近づけるよう制御したもので、
即ちパルス列のある期間に加工パルスの波高値Ip
を増大させるかまたはパルス間隔τpffを短縮、
パルス巾τpoの増大制御をして単位時間当りのエ
ネルギ供給量を急増させる制御を、放電電流の平
均値が一定値に保たれるように加工間隙を制御す
るサーボ送り制御の応答速度に比較して充分短
い、設定された所定の時間間隔又は加工間隙の放
電状態に応じた時間間隔で繰返すことにより、前
記加工パルスのパルス列による加工よりも加工間
隙を実質的に広げた状態で加工を行なうようにし
たことを特徴とするものである。
以下図面により本発明を説明する。第１図は加
工パルスのパルス列を、またそのある期間に行な
われる単位時間当りのエネルギ供給量急増制御を
説明するもので、加工条件、即ち仕上、中仕上、
荒加工によつて加工パルスのパルス巾τpo、間隔
τpffが設定される。τpo＝１〜100μｓ、τpff＝
10〜50μｓ程度に設定される。そしてイ図はこの
加工パルスのパルス列を所定時間中T2、間隔τpf
ｆを短縮τpff′して電流密度を増大する制御をし、
この電流密度増大制御を所定の時間々隔T1で繰
返すようにしたもの、ロ図はT2時間中加工パル
スの波高値Ipを増大Ip′することにより加工電流
の電流密度を高め、所定の時間々隔T1でこれを
繰返す制御を行つた例である。ハ図は間隔τpff
を狭めるτpff′ことと、波高値Ipを増大Ip′するこ
とを同時に行つて設定時間中T2電流密度を増大
させ、これを間隙の放電状態に応じて変更制御さ
れる時間間隔T1で繰返して行なうようにしたも
のである。
工パルスのパルス列を、またそのある期間に行な
われる単位時間当りのエネルギ供給量急増制御を
説明するもので、加工条件、即ち仕上、中仕上、
荒加工によつて加工パルスのパルス巾τpo、間隔
τpffが設定される。τpo＝１〜100μｓ、τpff＝
10〜50μｓ程度に設定される。そしてイ図はこの
加工パルスのパルス列を所定時間中T2、間隔τpf
ｆを短縮τpff′して電流密度を増大する制御をし、
この電流密度増大制御を所定の時間々隔T1で繰
返すようにしたもの、ロ図はT2時間中加工パル
スの波高値Ipを増大Ip′することにより加工電流
の電流密度を高め、所定の時間々隔T1でこれを
繰返す制御を行つた例である。ハ図は間隔τpff
を狭めるτpff′ことと、波高値Ipを増大Ip′するこ
とを同時に行つて設定時間中T2電流密度を増大
させ、これを間隙の放電状態に応じて変更制御さ
れる時間間隔T1で繰返して行なうようにしたも
のである。
この電流密度の増大制御によつて所定のτpo、
τpff加工パルスで繰返される加工間隙の放電状
態に変化をきたす。即ち加工間隙を形成する電極
に通常サーボ送り機構が設けてあり、サーボは間
隙、信号によつて制御される。加工間隙に流れる
電流が増大するときは間隙長を広げ、電流が低減
するときは間隙を狭めることによつて一定電流を
流すように制御している。このサーボによる間隙
の制御は一般に間隙長をｌとすれば ｌ＝ｋ（τpo）１／３Ip ｋ；定数 τpo；加工パルス巾 Ip；波高値 で表わされる。したがつてIpは１パルスの波高値
であるが、サーボが追従できない高周波の場合は
平均電流値と考えてよく、平均電流値を高めるこ
とによつて間隙長が広がることがわかる。第１図
のようにパルス列のある期間に電流密度を高める
制御を行なうことによつてサーボにより加工間隙
は広がる。サーボ機構の追従スピードは通常加工
パルス列の周波数に比べて充分遅いから第１図の
ようにして電流密度の増大制御をサーボ送り制御
の応答速度に比較して充分短い時間間隔で時々繰
返すことによつて実質的に加工間隙を広げた状態
で加工することができる。この電流密度の増大制
御は全パルス列の１〜30％程度の範囲で制御する
ことによつて充分であり、電流密度を増加するこ
とを繰返して常に間隙を広げた状態で加工するこ
とができる。
τpff加工パルスで繰返される加工間隙の放電状
態に変化をきたす。即ち加工間隙を形成する電極
に通常サーボ送り機構が設けてあり、サーボは間
隙、信号によつて制御される。加工間隙に流れる
電流が増大するときは間隙長を広げ、電流が低減
するときは間隙を狭めることによつて一定電流を
流すように制御している。このサーボによる間隙
の制御は一般に間隙長をｌとすれば ｌ＝ｋ（τpo）１／３Ip ｋ；定数 τpo；加工パルス巾 Ip；波高値 で表わされる。したがつてIpは１パルスの波高値
であるが、サーボが追従できない高周波の場合は
平均電流値と考えてよく、平均電流値を高めるこ
とによつて間隙長が広がることがわかる。第１図
のようにパルス列のある期間に電流密度を高める
制御を行なうことによつてサーボにより加工間隙
は広がる。サーボ機構の追従スピードは通常加工
パルス列の周波数に比べて充分遅いから第１図の
ようにして電流密度の増大制御をサーボ送り制御
の応答速度に比較して充分短い時間間隔で時々繰
返すことによつて実質的に加工間隙を広げた状態
で加工することができる。この電流密度の増大制
御は全パルス列の１〜30％程度の範囲で制御する
ことによつて充分であり、電流密度を増加するこ
とを繰返して常に間隙を広げた状態で加工するこ
とができる。
第２図はこのようなパルス発生制御を行なう放
電加工回路を示すもので、１は加工電極、２は被
加工体で、この両者の対向により加工間隙を形成
する。３は加工電力を供給する電源で、トランジ
スタ等のスイツチ４を介して加工間隔に並列接続
されている。スイツチ４のオン．オフスイツチン
グによつて電源３をオン．オフ制御して加工間隙
にパルスを加えるようにする。５は設定されたパ
ルス巾τpoと間隔τpffを有する加工パルスを発生
する発振器、６は放電回路に挿入した抵抗回路で
加工パルス放電の電流波高値Ipを決定し制御す
る。７は所定の時間々隔で発振器５を制御し発振
出力パルスの間隔τpffをτpff′に変更し、また回
路６を制御し放電々流波高値IpをIp′に変更制御
する時間制御装置で、マルチバイブレータ等の発
振出力パルスを信号として発振器５及び回路６の
定数変更制御を行なう。８は加工間隙の放電状態
を検出する検出回路で、これは例えば間隙の平均
電圧、電流を検出し判別し、また加工パルスの放
電々圧、電流をデジタルに検出し判別し、また積
分検出し判別する。また正常放電の際に認められ
る、高周波成分の検出が行なわれ、判別が行なわ
れる。検出信号の判別はシユミツト等により判別
レベルを設定して上下を判別し、複数レベルの判
別を行なう。９は検出回路８の判別信号によつて
作動する制御回路で、時間制御装置７の時間変更
制御を行なう。
電加工回路を示すもので、１は加工電極、２は被
加工体で、この両者の対向により加工間隙を形成
する。３は加工電力を供給する電源で、トランジ
スタ等のスイツチ４を介して加工間隔に並列接続
されている。スイツチ４のオン．オフスイツチン
グによつて電源３をオン．オフ制御して加工間隙
にパルスを加えるようにする。５は設定されたパ
ルス巾τpoと間隔τpffを有する加工パルスを発生
する発振器、６は放電回路に挿入した抵抗回路で
加工パルス放電の電流波高値Ipを決定し制御す
る。７は所定の時間々隔で発振器５を制御し発振
出力パルスの間隔τpffをτpff′に変更し、また回
路６を制御し放電々流波高値IpをIp′に変更制御
する時間制御装置で、マルチバイブレータ等の発
振出力パルスを信号として発振器５及び回路６の
定数変更制御を行なう。８は加工間隙の放電状態
を検出する検出回路で、これは例えば間隙の平均
電圧、電流を検出し判別し、また加工パルスの放
電々圧、電流をデジタルに検出し判別し、また積
分検出し判別する。また正常放電の際に認められ
る、高周波成分の検出が行なわれ、判別が行なわ
れる。検出信号の判別はシユミツト等により判別
レベルを設定して上下を判別し、複数レベルの判
別を行なう。９は検出回路８の判別信号によつて
作動する制御回路で、時間制御装置７の時間変更
制御を行なう。
発振器５によつて発生する加工パルスは前記し
たように加工条件によつてτpo、τpff等が予じめ
設定され、加工面粗さが決定され、加工速度、加
工性能が決定される。この発振器５によりスイツ
チ４をオン．オフ制御し続けることによつて予定
された加工が行なわれる。又、サーボ送りによる
間隙の広狭制御に関しては、間隙に印加される加
工パルスの全てが放電起動するような間隙状態で
はアークに移行しやすく安定した加工を行なうこ
とができないため、印加して加工パルスの数10
％、多くても80％程度の放電発生率となるように
サーボ送りすることが必要であり、従つて、サー
ボ送り制御の基準となる平均電流値の設定は、パ
ルス幅τonとパルス間隔τoffの比及び波高値Ip
だけでなく放電発生率も考慮して設定される。そ
して時間制御装置７によつて、T2時間中加工パ
ルスは間隔τpffが短縮τpff′制御され（イ図）電
流密度が増大され、T2時間が経過すると、再度
間隔τpffに戻つて加工パルスが繰返され、T1時
間が経過するとまた電流密度の増大制御が行なわ
れ、この時々電流密度の増大制御を行なうパルス
列の繰返しによつて電極のサーボ送り制御により
加工間隙を通常より広げた間隔での加工が続けら
れ、加工屑の排除効果を高め加工液の流動の効果
を高め、アーク．短絡等が発生し難い状態で安定
した加工を行なうことができる。時間々隔T1、
T2等は制御装置７により最も安定した放電状態
で加工が続けられるよう設定され、単位時間当り
のエネルギ供給量の急増制御を行なう時間間隔
T1は、サーボ送り制御の応答速度に比較して充
分短く設定される。また時間制御装置７によつて
抵抗回路６の制御をすればT2時間中波高値Ipを
Ip′に増大制御して（ロ図）電流密度を高めるこ
とができ、これをT1経過後に繰返すことにより
前記と同様の間隙増大制御とそれによる安定加工
を続けることができる。また時間制御装置７によ
り発振器５と回路６の制御を同時に行なえば（ハ
図）のように制御でき、いずれも安定加工を行な
える。
たように加工条件によつてτpo、τpff等が予じめ
設定され、加工面粗さが決定され、加工速度、加
工性能が決定される。この発振器５によりスイツ
チ４をオン．オフ制御し続けることによつて予定
された加工が行なわれる。又、サーボ送りによる
間隙の広狭制御に関しては、間隙に印加される加
工パルスの全てが放電起動するような間隙状態で
はアークに移行しやすく安定した加工を行なうこ
とができないため、印加して加工パルスの数10
％、多くても80％程度の放電発生率となるように
サーボ送りすることが必要であり、従つて、サー
ボ送り制御の基準となる平均電流値の設定は、パ
ルス幅τonとパルス間隔τoffの比及び波高値Ip
だけでなく放電発生率も考慮して設定される。そ
して時間制御装置７によつて、T2時間中加工パ
ルスは間隔τpffが短縮τpff′制御され（イ図）電
流密度が増大され、T2時間が経過すると、再度
間隔τpffに戻つて加工パルスが繰返され、T1時
間が経過するとまた電流密度の増大制御が行なわ
れ、この時々電流密度の増大制御を行なうパルス
列の繰返しによつて電極のサーボ送り制御により
加工間隙を通常より広げた間隔での加工が続けら
れ、加工屑の排除効果を高め加工液の流動の効果
を高め、アーク．短絡等が発生し難い状態で安定
した加工を行なうことができる。時間々隔T1、
T2等は制御装置７により最も安定した放電状態
で加工が続けられるよう設定され、単位時間当り
のエネルギ供給量の急増制御を行なう時間間隔
T1は、サーボ送り制御の応答速度に比較して充
分短く設定される。また時間制御装置７によつて
抵抗回路６の制御をすればT2時間中波高値Ipを
Ip′に増大制御して（ロ図）電流密度を高めるこ
とができ、これをT1経過後に繰返すことにより
前記と同様の間隙増大制御とそれによる安定加工
を続けることができる。また時間制御装置７によ
り発振器５と回路６の制御を同時に行なえば（ハ
図）のように制御でき、いずれも安定加工を行な
える。
このようにして、パルス間隔τoffと波高値Ip
の制御により加工間隙を実質的に広げた状態で加
工が行なわれ、しかも、T2時間中は単位時間当
りのエネルギ供給量が大きいためにT1時間中の
加工パルス列による加工よりも多量の加工屑が生
成され、間隙が広げられても間隙には放電起動の
きつかけとなる加工屑がほど良く介在することに
より放電発生率が低下するようなことがなく、所
期の放電発生率で能率の良い加工を行なうことが
できる。又、単位時間当りのエネルギ急増制御を
間隙の放電状態に応じて行なうようにすれば、よ
り一層加工を安定化させて能率の良い加工を行な
うことができる。即ち、サーボ送り制御の応答速
度は加工パルス列の周波数に比べて遅いため、サ
ーボ送り制御では放電状態が不安定になつた時に
機敏に対応することができず、例えば加工パルス
が印加されても放電が起動しない無負荷放電が増
大して放電発生率が低下しても、間隙を狭めて所
期の放電発生率を回復させるのに時間がかかり加
工速度を低下させることになる。又、エネルギ供
給量急増制御を所定の時間間隔で行なう場合は、
例えばアーク発生時にたまたまエネルギ供給量が
増大されて放電状態が一層悪化することにもなり
かねない。従つて、検出回路８により放電状態を
検出し、間隙の平均電圧や電流から無負荷放電の
増大が検知された時は、制御回路９により時間制
御装置７を制御してエネルギ供給量を急増させ、
放電起動のきつかけとなる加工屑を増大させて速
やかに所期の放電発生率に復帰させ、又、放電電
圧や電流或いは正常放電の際に認められる高周波
成分の検出結果からアークや短絡状態が検知され
た時は、制御回路９により時間制御装置７を制御
してエネルギ供給量の急増を行なわせないように
することにより、安定した加工状態で能率の良い
加工を行なうことができる。尚、検出回路８によ
りアークや短絡の発生が検知された時は、制御回
路９の出力信号により発振器５の出力を停止させ
て加工パルスの間隙への供給を一時停止させるよ
うにすることが望ましい。
の制御により加工間隙を実質的に広げた状態で加
工が行なわれ、しかも、T2時間中は単位時間当
りのエネルギ供給量が大きいためにT1時間中の
加工パルス列による加工よりも多量の加工屑が生
成され、間隙が広げられても間隙には放電起動の
きつかけとなる加工屑がほど良く介在することに
より放電発生率が低下するようなことがなく、所
期の放電発生率で能率の良い加工を行なうことが
できる。又、単位時間当りのエネルギ急増制御を
間隙の放電状態に応じて行なうようにすれば、よ
り一層加工を安定化させて能率の良い加工を行な
うことができる。即ち、サーボ送り制御の応答速
度は加工パルス列の周波数に比べて遅いため、サ
ーボ送り制御では放電状態が不安定になつた時に
機敏に対応することができず、例えば加工パルス
が印加されても放電が起動しない無負荷放電が増
大して放電発生率が低下しても、間隙を狭めて所
期の放電発生率を回復させるのに時間がかかり加
工速度を低下させることになる。又、エネルギ供
給量急増制御を所定の時間間隔で行なう場合は、
例えばアーク発生時にたまたまエネルギ供給量が
増大されて放電状態が一層悪化することにもなり
かねない。従つて、検出回路８により放電状態を
検出し、間隙の平均電圧や電流から無負荷放電の
増大が検知された時は、制御回路９により時間制
御装置７を制御してエネルギ供給量を急増させ、
放電起動のきつかけとなる加工屑を増大させて速
やかに所期の放電発生率に復帰させ、又、放電電
圧や電流或いは正常放電の際に認められる高周波
成分の検出結果からアークや短絡状態が検知され
た時は、制御回路９により時間制御装置７を制御
してエネルギ供給量の急増を行なわせないように
することにより、安定した加工状態で能率の良い
加工を行なうことができる。尚、検出回路８によ
りアークや短絡の発生が検知された時は、制御回
路９の出力信号により発振器５の出力を停止させ
て加工パルスの間隙への供給を一時停止させるよ
うにすることが望ましい。
なお単位時間当りのエネルギ供給量の制御は加
工パルス巾のτpoを制御してもよいわけである。
τpoを増大しても加工面粗さは約1/3乗程度しか
粗くはならず容易に実用できる。また前記のIpを
増大した場合、例えば、Ipが２倍になつても加工
面粗さは約1.2倍程度にしか増加せず、10μRmax
の加工においてIpを２倍に増大制御する場合に加
工面粗さは約11〜12μRmax程度に増加するだけ
であり充分実用になる。
工パルス巾のτpoを制御してもよいわけである。
τpoを増大しても加工面粗さは約1/3乗程度しか
粗くはならず容易に実用できる。また前記のIpを
増大した場合、例えば、Ipが２倍になつても加工
面粗さは約1.2倍程度にしか増加せず、10μRmax
の加工においてIpを２倍に増大制御する場合に加
工面粗さは約11〜12μRmax程度に増加するだけ
であり充分実用になる。
以上のように本発明は、サーボ送り制御の応答
速度に比較して充分短い時間間隔で単位時間当り
のエネルギ供給量を増大して間隙を広げる制御を
行ない、この制御を繰返すようにしたので、実質
的に加工間隙は従来の定パルスを繰返す加工に比
較して平均的に広がつた間隙で加工が行なわれる
ことになり加工屑の排除効果、加工液の流動効果
等が良好になり、またアーク．短絡の発生が防止
でき極めて安定した加工を続けることができる。
加工パルス列は加工条件等により設定された値で
繰返され、目的とする加工を容易に行なうことが
できる。加工が安定化されることにより、加工間
隙に生成する加工屑やガスの排除のために行なわ
れるパルス列の中断制御や電極の急速ジヤンプ制
御の回数を従来に比べて減らすことができるた
め、加工停止時間が減少し加工速度を向上させる
ことができる。又、加工間隙が広げられても、加
工間隙には放電起動のきつかけとなる加工屑が一
定量（一定濃度）介在することになるため、所期
の放電発生率の放電を発生させて、所期の加工速
度で能率の良い加工を行なうことができる。加工
能率は従来能率が悪かつた仕上加工において特に
優れ、ほゞ２〜３倍にも向上することができた。
速度に比較して充分短い時間間隔で単位時間当り
のエネルギ供給量を増大して間隙を広げる制御を
行ない、この制御を繰返すようにしたので、実質
的に加工間隙は従来の定パルスを繰返す加工に比
較して平均的に広がつた間隙で加工が行なわれる
ことになり加工屑の排除効果、加工液の流動効果
等が良好になり、またアーク．短絡の発生が防止
でき極めて安定した加工を続けることができる。
加工パルス列は加工条件等により設定された値で
繰返され、目的とする加工を容易に行なうことが
できる。加工が安定化されることにより、加工間
隙に生成する加工屑やガスの排除のために行なわ
れるパルス列の中断制御や電極の急速ジヤンプ制
御の回数を従来に比べて減らすことができるた
め、加工停止時間が減少し加工速度を向上させる
ことができる。又、加工間隙が広げられても、加
工間隙には放電起動のきつかけとなる加工屑が一
定量（一定濃度）介在することになるため、所期
の放電発生率の放電を発生させて、所期の加工速
度で能率の良い加工を行なうことができる。加工
能率は従来能率が悪かつた仕上加工において特に
優れ、ほゞ２〜３倍にも向上することができた。
第１図は本発明を説明するパルス波形図、第２
図は本発明の一実施例回路図である。 １は電極、２は被加工体、３は電源、４はスイ
ツチ、５は加工パルス発振器、６は電流制御抵抗
回路、７は時間制御装置、８は放電状態検出回
路、９は制御回路である。
図は本発明の一実施例回路図である。 １は電極、２は被加工体、３は電源、４はスイ
ツチ、５は加工パルス発振器、６は電流制御抵抗
回路、７は時間制御装置、８は放電状態検出回
路、９は制御回路である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工条件により設定されるパルス幅τonと
間隔τoffを有する加工パルスのパルス列を加工
間隙に供給して放電を行ない、該放電電流を検出
して平均電流値が一定に保たれるように前記加工
間隙を形成する電極被加工体間にサーボ送り制御
を行なうようにした放電加工に於て、前記加工パ
ルスの波高値Ipの増大制御、パルス間隔τoffの
短縮制御、又はパルス幅τonの増大制御の１若
しくは２以上の制御により単位時間当りのエネル
ギ供給量を前記パルス列のある期間急増させる制
御を前記サーボ送り制御の応答速度に比較して充
分短い時間間隔で繰返すことにより、前記加工パ
ルスのパルス列による加工よりも加工間隙を実質
的に広げた状態で加工を行なうようにしたことを
特徴とする放電加工方法。 ２ サーボ送り制御の応答速度に比較して充分短
い時間間隔が、設定される所定の時間間隔である
特許請求の範囲第１項に記載の放電加工方法。 ３ サーボ送り制御の応答速度に比較して充分短
い時間間隔が、加工間隙の放電状態に応じて変更
制御される時間間隔である特許請求の範囲第１項
に記載の放電加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12712177A JPS5461395A (en) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | Electric spark machining |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12712177A JPS5461395A (en) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | Electric spark machining |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5461395A JPS5461395A (en) | 1979-05-17 |
| JPS6254606B2 true JPS6254606B2 (ja) | 1987-11-16 |
Family
ID=14952117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12712177A Granted JPS5461395A (en) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | Electric spark machining |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5461395A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6411717A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-17 | Shizuoka Seiki Co Ltd | Pulse feed method in electrochemical machine |
| JP5190973B1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-04-24 | 株式会社ソディック | ワイヤカット放電加工方法およびワイヤカット放電加工装置 |
-
1977
- 1977-10-21 JP JP12712177A patent/JPS5461395A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5461395A (en) | 1979-05-17 |
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