JPS6255545A - 粒径測定装置 - Google Patents
粒径測定装置Info
- Publication number
- JPS6255545A JPS6255545A JP60194863A JP19486385A JPS6255545A JP S6255545 A JPS6255545 A JP S6255545A JP 60194863 A JP60194863 A JP 60194863A JP 19486385 A JP19486385 A JP 19486385A JP S6255545 A JPS6255545 A JP S6255545A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- particle size
- scattered light
- photo detector
- light intensity
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は微小な粒子の径を測定する粒径測定装置に関
する。
する。
従来から用いられている粒径測定法の1つに前方微小角
散乱法と呼ばれる方法がある。この方法を用いた装置と
して本願発明者は、先に第6図に示す装置を(特開昭5
9−70944号公報に掲載)発明した。
散乱法と呼ばれる方法がある。この方法を用いた装置と
して本願発明者は、先に第6図に示す装置を(特開昭5
9−70944号公報に掲載)発明した。
この装置の測定原理を簡単に説明する。レーザ装置1か
も出力される単色ビームをレンズ2を用いて適当な径の
平行ビーム3にし、被測定粒子4に照射する。被測定粒
子により散乱された光を測定すべき散乱角θ(θ=01
.θ2.・・・θR)に配置した光ファイバ5で受光し
、干渉フィルタ6を通して迷光を除去し、フォトディテ
クタ12、アンプ13により電気信号に変換・増巾した
のち1通常、ミニコンビコータあるいはマイクロコンピ
ュータで構成される散乱光強度分布−粒径分布変換袋な
10Vc入力し、測定した散乱光強度分布1)(f(θ
1)。
も出力される単色ビームをレンズ2を用いて適当な径の
平行ビーム3にし、被測定粒子4に照射する。被測定粒
子により散乱された光を測定すべき散乱角θ(θ=01
.θ2.・・・θR)に配置した光ファイバ5で受光し
、干渉フィルタ6を通して迷光を除去し、フォトディテ
クタ12、アンプ13により電気信号に変換・増巾した
のち1通常、ミニコンビコータあるいはマイクロコンピ
ュータで構成される散乱光強度分布−粒径分布変換袋な
10Vc入力し、測定した散乱光強度分布1)(f(θ
1)。
■(θ2)、・・・I(θ3)の集合)から(1)式を
用いて粒径分布n0を求める。
用いて粒径分布n0を求める。
■(o)= J’i (D 、θ)n(D) dD
(1)ここで、 l(D、θ)は、直径りの粒子
1個による散乱光強度で、あらかじめ散乱理論に基づい
て計算しておく。
(1)ここで、 l(D、θ)は、直径りの粒子
1個による散乱光強度で、あらかじめ散乱理論に基づい
て計算しておく。
この装置では、フォトディテクタ12としてシリコン、
フォトダイオードあるいは光電を増倍管 ・を用いて
いたため、レーザビーム内に粒子数が少ない場合には、
間欠的に散乱光強度分布を測定せざるを得なかった。ま
た、センサの感度に比して散乱光強度を高くしてS/N
の良い散乱光強度分布ヲ得ていた。しかし、近年には1
粒子数が少なくても連続的に、また散乱強度が低くても
S/Hの良い測定が望まれ、また、粒径分布を測定でき
ることが望まれてきた。
フォトダイオードあるいは光電を増倍管 ・を用いて
いたため、レーザビーム内に粒子数が少ない場合には、
間欠的に散乱光強度分布を測定せざるを得なかった。ま
た、センサの感度に比して散乱光強度を高くしてS/N
の良い散乱光強度分布ヲ得ていた。しかし、近年には1
粒子数が少なくても連続的に、また散乱強度が低くても
S/Hの良い測定が望まれ、また、粒径分布を測定でき
ることが望まれてきた。
この発明は上述した従来装置の要望に鑑み為されたもの
で、粒子数が小さい場合にも粒径分布を測定できる粒径
測定装置を提供することを目的とする。
で、粒子数が小さい場合にも粒径分布を測定できる粒径
測定装置を提供することを目的とする。
フォトディテクタとして蓄積型フォトディテクタを用い
ることにより、ある時間内に散乱された散乱光により励
起された電荷を蓄積し、電荷量が十分大きくなった時点
で、との′電荷量を取り出して粒径分布を測定する粒径
測定装置である。
ることにより、ある時間内に散乱された散乱光により励
起された電荷を蓄積し、電荷量が十分大きくなった時点
で、との′電荷量を取り出して粒径分布を測定する粒径
測定装置である。
この発明により粒子数が少ない場合にもまた小さい場合
にもまた散乱光強度が低くても粒径分布を測定すること
ができる。
にもまた散乱光強度が低くても粒径分布を測定すること
ができる。
この発明の実施例を第1図を用いて説明する。
レーザ装置lから出力される単色の平行ビームを、レン
ズ2を用いて適当な径の平行ビーム3にして、被測定粒
子4に照射する。被測定粒子4により散乱された光を、
測定すべき散乱角に配置した光ファイバ5により受光し
、蓄積型フォトディテクタ7に導びく。蓄積型フォトデ
ィテクタ7の前にシャッタ19を配置し、粒子数により
適当な時間シャッタを開き、散乱光による電荷が十分蓄
積された時点でシャッタ19を閉じる。
ズ2を用いて適当な径の平行ビーム3にして、被測定粒
子4に照射する。被測定粒子4により散乱された光を、
測定すべき散乱角に配置した光ファイバ5により受光し
、蓄積型フォトディテクタ7に導びく。蓄積型フォトデ
ィテクタ7の前にシャッタ19を配置し、粒子数により
適当な時間シャッタを開き、散乱光による電荷が十分蓄
積された時点でシャッタ19を閉じる。
次に蓄積型フォトディテクタ7F、72.・・・7Rの
アウトプットゲートを、マルチプレクサを用いて、順次
開くことにより、蓄積部フォトディテクタに蓄積された
電荷を順次アンプへ導き、電圧へ変換Φ増巾する0以上
のようにすると散乱光強度分布1(o) (1(θ1)
、I(θ2)、−I(θル)ノ集合)を測定することが
できる。
アウトプットゲートを、マルチプレクサを用いて、順次
開くことにより、蓄積部フォトディテクタに蓄積された
電荷を順次アンプへ導き、電圧へ変換Φ増巾する0以上
のようにすると散乱光強度分布1(o) (1(θ1)
、I(θ2)、−I(θル)ノ集合)を測定することが
できる。
第2に示した蓄積型フォトディテクタ21は、COD(
Charge−Coupled Device)の感光
部と同じもので、フォトダイオード22の光電変換部と
MOSキャパシタ23からなる蓄積部より構成されてい
る。入射した光24はフォトダイオード22で光電変、
換され、隣接したMOSキャパシタ23に信号電荷とし
て蓄積される。信号電荷を外部へ取り出す場合はアウト
プット・ゲート電極27にアウトプットゲート26から
電圧をかけると、蓄積された電荷を外部へ出力25から
取り出すことができる。
Charge−Coupled Device)の感光
部と同じもので、フォトダイオード22の光電変換部と
MOSキャパシタ23からなる蓄積部より構成されてい
る。入射した光24はフォトダイオード22で光電変、
換され、隣接したMOSキャパシタ23に信号電荷とし
て蓄積される。信号電荷を外部へ取り出す場合はアウト
プット・ゲート電極27にアウトプットゲート26から
電圧をかけると、蓄積された電荷を外部へ出力25から
取り出すことができる。
以上のように、観察時間を長くすることにより、粒子数
の小さい場合にも多数の粒子による散乱光強度分布を測
定することができる。この散乱光強度分布は前述、の(
1)式を用いて粒径分布を求める。
の小さい場合にも多数の粒子による散乱光強度分布を測
定することができる。この散乱光強度分布は前述、の(
1)式を用いて粒径分布を求める。
又保持されるので、増巾すべき信号が蓄積型フォトディ
テクタとマルチプレクサを用いることによね、電荷を電
圧に変換するアンプの数を1個にすることができる。
テクタとマルチプレクサを用いることによね、電荷を電
圧に変換するアンプの数を1個にすることができる。
すなわちアンプは第3図に示すようなチャージ・アンプ
を用いても、また、第4図に示すような回路を用いても
よい。
を用いても、また、第4図に示すような回路を用いても
よい。
第3図のチャージ・アンプ27の動作を次に述べる。ま
ず測定に入る前にリセットスイッチ28t−閉じコンデ
ンサ29に蓄えられている電荷をクリアし、リセットス
イッチ28を開く。次にマルチプレクサ30がアクセス
した蓄積型フォトディテクタのアウトプット・ゲート電
極26に電圧が印加され、アウトプットゲートが開き、
蓄積型フォトディテクタ21に蓄えられた電荷がコンデ
ンサ29に流入する。コンデンサ29に蓄えられた電荷
をチャージ・アンプ27で電圧に変換・増巾する。
ず測定に入る前にリセットスイッチ28t−閉じコンデ
ンサ29に蓄えられている電荷をクリアし、リセットス
イッチ28を開く。次にマルチプレクサ30がアクセス
した蓄積型フォトディテクタのアウトプット・ゲート電
極26に電圧が印加され、アウトプットゲートが開き、
蓄積型フォトディテクタ21に蓄えられた電荷がコンデ
ンサ29に流入する。コンデンサ29に蓄えられた電荷
をチャージ・アンプ27で電圧に変換・増巾する。
第4図はCCDの出力部として用いられているものであ
る。リセットスイッチ28を閉じ、コンデンサ29の電
位をソース電圧に固定したのち、リセットスイッチ28
を開く。次にマルチプレクサ30がアクセスするとアウ
トプットゲート27が開き、蓄えられた電荷がコンデン
f29に流入。
る。リセットスイッチ28を閉じ、コンデンサ29の電
位をソース電圧に固定したのち、リセットスイッチ28
を開く。次にマルチプレクサ30がアクセスするとアウ
トプットゲート27が開き、蓄えられた電荷がコンデン
f29に流入。
電位が降下する。この電位降下をFET )ランジスタ
31のソースホロワにて検知、出力する。
31のソースホロワにて検知、出力する。
測定された散乱光強度分布■(のは、通常ミニコンビコ
ータあるいはマイクロコンピュータで枯成される散乱光
強度分布−粒径分布変換装置rcA/D変換器等を用い
て入力される。′ 散乱光強度分布−粒径分布変換装置1ilo内では次の
2つの計算方法を用いて、散乱光強度分布から粒径分布
へ変換する。
ータあるいはマイクロコンピュータで枯成される散乱光
強度分布−粒径分布変換装置rcA/D変換器等を用い
て入力される。′ 散乱光強度分布−粒径分布変換装置1ilo内では次の
2つの計算方法を用いて、散乱光強度分布から粒径分布
へ変換する。
1つは1分布関数近似法と名付けた方法である。
まず粒径分布n(2)の分布関数1例えば正規分布、対
数正規分布等を仮定する。
数正規分布等を仮定する。
次vc(2)式のEが最小になるように分布パラメータ
、例えば平均、標準偏差を決定する。
、例えば平均、標準偏差を決定する。
E=い(θ)−Ji(D、θ)n(D)dD 12(2
)もう1つは束縛積分方程式法と名付けた方法である。
)もう1つは束縛積分方程式法と名付けた方法である。
(1)式において、測定すべき粒径範囲を〔Dml□。
Dmax )とし、この区間をN分割すると。
となる。ここで分割小区間(Dj’−1,Dj)内でn
oが一定としてn(DJ)と近似すれば となる。
oが一定としてn(DJ)と近似すれば となる。
と置けば、(3)式は
I(の;、Σ i、(Dj、θ)n(DJ)
(6)コ=1 となる。散乱光強度分布の測定散乱角をθ1.θ2゜・
・・θaとすると となる。こζで /Itメ下蒙り とおくと、(7)式は +=Gn(lυ とベクトル表示できる。
(6)コ=1 となる。散乱光強度分布の測定散乱角をθ1.θ2゜・
・・θaとすると となる。こζで /Itメ下蒙り とおくと、(7)式は +=Gn(lυ とベクトル表示できる。
0υ式の、■;n1.n2.・・・nNが滑らかである
という第1の条件、具体的には粒径分布の3次の差分の
2乗和、すなわち をある値以下に押えるという条件と■; n1sn2+
・・・nNが正あるいはOであるというfg2の条件の
もとての最小二乗率を求める。第1の条件のもとでの最
小二乗率は、Lagrangeの未定乗数法により、未
定乗数をrとして (Gn−1)米(Gn−1)+rn% i2 ’ti小にすればよい。az式では q = (KQ)米cKrl) = n’KX41 *
n’Hn (13ここで(Gn−1)“は
Gn−1の転送行列を示し。
という第1の条件、具体的には粒径分布の3次の差分の
2乗和、すなわち をある値以下に押えるという条件と■; n1sn2+
・・・nNが正あるいはOであるというfg2の条件の
もとての最小二乗率を求める。第1の条件のもとでの最
小二乗率は、Lagrangeの未定乗数法により、未
定乗数をrとして (Gn−1)米(Gn−1)+rn% i2 ’ti小にすればよい。az式では q = (KQ)米cKrl) = n’KX41 *
n’Hn (13ここで(Gn−1)“は
Gn−1の転送行列を示し。
である。
03式を最小にするnは。
jl=(Q米G+rH)−’G米1(19である。
(l!9式で与えられるnが第2の条件を満足する解で
あるためにはKuhn−Tuckerの定理を変形した
次の定理を満足すればよい。
あるためにはKuhn−Tuckerの定理を変形した
次の定理を満足すればよい。
く(定理)〉
V=G米(Gnl )+rHn11
なるyが
nj=oなるjに対してはyj≧onηn j>Oなる
jに対してはyj=o ((υである。
jに対してはyj=o ((υである。
すなわち上の定理を満足する。(t9式のnが第1およ
び第2のもとてのα9式の最小二乗解である。゛以上が
束縛積分方程式法である。
び第2のもとてのα9式の最小二乗解である。゛以上が
束縛積分方程式法である。
散乱光強度分布の測定強度範囲が広く、対数アンプを用
いて測定範囲を圧縮した場合などは(1)式・二に換え
てα9式 %式% を用いたほうがよい。この場合は、分布関数近似法と束
縛積分方程式法も1式に対応して変形した対数分布関数
近似法、対数束縛積分方程式法を用いる必要がある。
いて測定範囲を圧縮した場合などは(1)式・二に換え
てα9式 %式% を用いたほうがよい。この場合は、分布関数近似法と束
縛積分方程式法も1式に対応して変形した対数分布関数
近似法、対数束縛積分方程式法を用いる必要がある。
対数分布関数近似法は(2)式に換えて(イ)式を最小
にする。
にする。
E’= LogI(の−Log(Up、θ)n(D)
dD) 2 @対数束縛積分方程式法では、
1.Gに対数変換の↑を左から乗じた σ=TG @〒=T+
(至)IG、lに換えて
用いればよい。
dD) 2 @対数束縛積分方程式法では、
1.Gに対数変換の↑を左から乗じた σ=TG @〒=T+
(至)IG、lに換えて
用いればよい。
第5図に本発明の他の実施例を示す、これは、散乱光強
度分布の測定部を測定グローブ2oにまとめたものであ
る。レーザ光をレンズ32光フアイバ33を用いて測定
領域近傍まで導き、コリメータレンズ34で平行ビーム
にして、測定領域35に照射する。測定領域内に存在す
る粒子4による散乱光を光ファイバ5で受光し散乱光強
度分布を測定する。
度分布の測定部を測定グローブ2oにまとめたものであ
る。レーザ光をレンズ32光フアイバ33を用いて測定
領域近傍まで導き、コリメータレンズ34で平行ビーム
にして、測定領域35に照射する。測定領域内に存在す
る粒子4による散乱光を光ファイバ5で受光し散乱光強
度分布を測定する。
ここで、コリメータレンズによる散乱光が粒子による散
乱光を測定する際のノイズとなるので、このノイズを除
去するためにコリメータの前方に開口36を備えた筒3
7を設けた。
乱光を測定する際のノイズとなるので、このノイズを除
去するためにコリメータの前方に開口36を備えた筒3
7を設けた。
その他の動作は先に述べた実施例と同じである。
このように測定プローブにまとめることにより、蒸気タ
ービン中の水滴径の測定などが容易に行なえる。
ービン中の水滴径の測定などが容易に行なえる。
第1図はこの発明の一実施例を示す構成図、第2図は蓄
積型フォトディテクタの構造を示断面図。 第3図および第4図は電荷を測定するだめの回路図、第
5図はこの発明の他の実施例を示す構成図、第6図は従
来装置を示す構成図である。 1・・・レーザ 2・・・レンズ 3・・・平行・単
色ビーム4・・・被測定粒子 5・・・光ファイバ6・
・・干渉フィルタ 7・・・蓄積型フォトディテクタ8
・・・アンプ 9・・・マルチプレクサio・・・散乱
光強度分布−粒径分布変換装置11・・・表示装置 1
2・・・フすトディテクタ13・・・アンプ 14・・
・レンズ 15・・・光ファイバ16・・・コリメータ
レンズ 17・・・開口を備えた筒18・・・測定領域
19・・・シャッタ20・・・測定グローブ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 θ \ −1++ 第 2 図
積型フォトディテクタの構造を示断面図。 第3図および第4図は電荷を測定するだめの回路図、第
5図はこの発明の他の実施例を示す構成図、第6図は従
来装置を示す構成図である。 1・・・レーザ 2・・・レンズ 3・・・平行・単
色ビーム4・・・被測定粒子 5・・・光ファイバ6・
・・干渉フィルタ 7・・・蓄積型フォトディテクタ8
・・・アンプ 9・・・マルチプレクサio・・・散乱
光強度分布−粒径分布変換装置11・・・表示装置 1
2・・・フすトディテクタ13・・・アンプ 14・・
・レンズ 15・・・光ファイバ16・・・コリメータ
レンズ 17・・・開口を備えた筒18・・・測定領域
19・・・シャッタ20・・・測定グローブ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 θ \ −1++ 第 2 図
Claims (1)
- レーザ装置、光ファイバ、フォトディテクタより成る散
乱光強度分布(散乱角と散乱光強度との関係)の測定系
と測定した散乱光強度分布を粒径分布へ変換装置とから
構成され前記フォトディテクタを蓄電型のフォトディテ
クタ粒径測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60194863A JPS6255545A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 粒径測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60194863A JPS6255545A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 粒径測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6255545A true JPS6255545A (ja) | 1987-03-11 |
Family
ID=16331545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60194863A Pending JPS6255545A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 粒径測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6255545A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63199055U (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-21 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5970944A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Toshiba Corp | 粒径測定装置 |
| JPS59122913A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-16 | Toshiba Corp | スラツジレベル測定装置 |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP60194863A patent/JPS6255545A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5970944A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Toshiba Corp | 粒径測定装置 |
| JPS59122913A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-16 | Toshiba Corp | スラツジレベル測定装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63199055U (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-21 |
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