JPS625680A - 半導体レ−ザ装置 - Google Patents
半導体レ−ザ装置Info
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- JPS625680A JPS625680A JP60146200A JP14620085A JPS625680A JP S625680 A JPS625680 A JP S625680A JP 60146200 A JP60146200 A JP 60146200A JP 14620085 A JP14620085 A JP 14620085A JP S625680 A JPS625680 A JP S625680A
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- electrodes
- semiconductor laser
- electrode
- voltage
- semiconductor
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- Pending
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Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光情報処理等に用いられる牛橋体レーザ装置に
関する。
関する。
(従来技術とその問題点)
半導体レーザは光ティヌク等の光情報処理用光源として
広く用いられている。しかし、徨々の装置に実装し1使
用する際に龜装置内の光学系からの戻シ光によって半導
体レーザの動作が不安定化して過剰雑音を発生する所謂
戻シ光誘起雑音を発生する。この戻シ光雑音は、半導体
レーザを多モード発振させて可干渉性を低下させること
により低減できる。
広く用いられている。しかし、徨々の装置に実装し1使
用する際に龜装置内の光学系からの戻シ光によって半導
体レーザの動作が不安定化して過剰雑音を発生する所謂
戻シ光誘起雑音を発生する。この戻シ光雑音は、半導体
レーザを多モード発振させて可干渉性を低下させること
により低減できる。
従来、松本等h[昭和59年春季応用物理学会講演集J
、29a−M−8において、横モード不安定性を利用し
て自励パルス発振を起し、多モード発振を観劇した。し
かし、仁の従来例では、自励パルス発振を起こす素子の
歩留シが恋く、自励パルス発振の時性を制御するのが難
しいといった欠点があった〇 また、バーター()larder)等Vi雑誌「アプラ
イド・フィックスmレター(Applied Phys
icsLetters)J 、 1982年40巻12
4頁において、共振器内に2つの分離されfc電極をも
つ半導体レーザを用い11つの電極に逆バイアスを印加
することによって自励パルス発掘を得ている。しかし、
このハーダー等の報告した自励パルス発掻社、安定な自
励パルス発mf与える動作条件の範囲が狭いと共に、そ
の動作に2電源を必要とするといった欠点を有していた
。
、29a−M−8において、横モード不安定性を利用し
て自励パルス発振を起し、多モード発振を観劇した。し
かし、仁の従来例では、自励パルス発振を起こす素子の
歩留シが恋く、自励パルス発振の時性を制御するのが難
しいといった欠点があった〇 また、バーター()larder)等Vi雑誌「アプラ
イド・フィックスmレター(Applied Phys
icsLetters)J 、 1982年40巻12
4頁において、共振器内に2つの分離されfc電極をも
つ半導体レーザを用い11つの電極に逆バイアスを印加
することによって自励パルス発掘を得ている。しかし、
このハーダー等の報告した自励パルス発掻社、安定な自
励パルス発mf与える動作条件の範囲が狭いと共に、そ
の動作に2電源を必要とするといった欠点を有していた
。
(発明の目的)
本発明の目的h1これらの欠点を廃去し、−電源によシ
安定な自励パルス発振動作を行う半導体レーザ装置を提
供することにある。
安定な自励パルス発振動作を行う半導体レーザ装置を提
供することにある。
(発明の構成)
本発明の半導体レーザ装置の構成は、共振器内に少なく
とも2以上に分離された電極をもつ半導体レーザを備え
、この半導体レーザの少なくとも1以上の電極の電圧が
、活性層を構成する半導体の県制帯−よシ/」・さく保
たれることを%徴とする。
とも2以上に分離された電極をもつ半導体レーザを備え
、この半導体レーザの少なくとも1以上の電極の電圧が
、活性層を構成する半導体の県制帯−よシ/」・さく保
たれることを%徴とする。
(実施例)
次に図面によシ本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一′*流側の一部断面を含む構成図で
ある。この実施例は、半導体レーザlとダイオード2と
から構成されている。半導体レーザ1に、n型GaAs
基板20上に構成された埋め込み構造をもち、A I
G a A s系混晶を組成とする活性層21.クラッ
ド層22.23からなるタプルヘテロレーザダイオード
で、活性42162μm1その厚さ0.1μmである。
ある。この実施例は、半導体レーザlとダイオード2と
から構成されている。半導体レーザ1に、n型GaAs
基板20上に構成された埋め込み構造をもち、A I
G a A s系混晶を組成とする活性層21.クラッ
ド層22.23からなるタプルヘテロレーザダイオード
で、活性42162μm1その厚さ0.1μmである。
この活性Nl21を構成するAj;j 6.63 G
301g7 A S O禁制帯幅は1.46eVである
。
301g7 A S O禁制帯幅は1.46eVである
。
この半導体レーザ1のp側電極は、長さ10μmの分離
溝15.16によって%長さが各々130μm、20μ
m、130μmの電極11,12.13IC三分割され
、電極14はn側電極となっている。また、分離溝15
.16は、p型GaASコンタクト鳩24をエツチング
で除去して形成され、電極11〜13間を電気的に分離
している。これら電極11と1!電極2問および電極1
2と電極13間の抵抗線600Ωである。半導体レーザ
の両端面はへき開され、ファブリ・ベロー型共振器を形
成している。ダイオード2L立上シ電圧o、 4Vのゲ
ルマニー−ム接合型ダイオードを2個直列に!&続した
ものである。半導体レーザ10電極11と電極13は並
列に接続され順方向電流が注入きれ、電極12はダイオ
ード2を通して接地される。
溝15.16によって%長さが各々130μm、20μ
m、130μmの電極11,12.13IC三分割され
、電極14はn側電極となっている。また、分離溝15
.16は、p型GaASコンタクト鳩24をエツチング
で除去して形成され、電極11〜13間を電気的に分離
している。これら電極11と1!電極2問および電極1
2と電極13間の抵抗線600Ωである。半導体レーザ
の両端面はへき開され、ファブリ・ベロー型共振器を形
成している。ダイオード2L立上シ電圧o、 4Vのゲ
ルマニー−ム接合型ダイオードを2個直列に!&続した
ものである。半導体レーザ10電極11と電極13は並
列に接続され順方向電流が注入きれ、電極12はダイオ
ード2を通して接地される。
本実施例は、順方向電流が65mAのとき自励パルス発
振を開始し、注入電流75mAまで自励パルス発振をつ
づけ、それ以上の注入電流では連続的に発振する。その
間、電極12の電圧は約0.9■に保たれ、戻シ光1チ
のときの相対雑音指数は−140d13という低い値が
得られた。
振を開始し、注入電流75mAまで自励パルス発振をつ
づけ、それ以上の注入電流では連続的に発振する。その
間、電極12の電圧は約0.9■に保たれ、戻シ光1チ
のときの相対雑音指数は−140d13という低い値が
得られた。
(発明の作用)
図において、電極12からは電流が注入されないため、
この領域は可飽和吸収体として動作する。
この領域は可飽和吸収体として動作する。
このように共振器内に可飽和吸収体を弔する半導体レー
ザは、適当な注入電流を与えることによって自励パルス
発掘を行う。この自励パルス発振を行なう注入電流の範
囲は可飽和吸収体の吸収の大きさと可飽和吸収体のキャ
リア寿命によって決まシ、安定に自励パルス発掘を行な
うためには可飽和吸収体の吸収がある程度以上大きく、
1fcキヤリア寿命も十分小さくなけれになら力い。こ
の可飽和吸収の吸収を大きくするためには、可飽和吸収
体のキャリア密度を小さく抑える必要があるが、可飽和
吸収体のキャリア密度は可飽和吸収体の両端の電圧で決
められ、電圧を小さくおさえればよい。
ザは、適当な注入電流を与えることによって自励パルス
発掘を行う。この自励パルス発振を行なう注入電流の範
囲は可飽和吸収体の吸収の大きさと可飽和吸収体のキャ
リア寿命によって決まシ、安定に自励パルス発掘を行な
うためには可飽和吸収体の吸収がある程度以上大きく、
1fcキヤリア寿命も十分小さくなけれになら力い。こ
の可飽和吸収の吸収を大きくするためには、可飽和吸収
体のキャリア密度を小さく抑える必要があるが、可飽和
吸収体のキャリア密度は可飽和吸収体の両端の電圧で決
められ、電圧を小さくおさえればよい。
本実施例では、ダイオードの順方向立上シミ圧を利用し
1、可飽和吸収体の両端の電圧を一定値に保っている。
1、可飽和吸収体の両端の電圧を一定値に保っている。
このダイオードを通して可飽和吸収体から流れ出す電流
によって、可飽和吸収体の実効的なキャリア寿命も同時
に小さくなシ、自励パルス発振を行う範囲が増大丁z0
この可飽和吸収体にかかる電圧は、禁制帯幅の約70%
とするのが最適で本実施例においては0.9V〜1.0
V程度としている。
によって、可飽和吸収体の実効的なキャリア寿命も同時
に小さくなシ、自励パルス発振を行う範囲が増大丁z0
この可飽和吸収体にかかる電圧は、禁制帯幅の約70%
とするのが最適で本実施例においては0.9V〜1.0
V程度としている。
なお、本実施例で示された半導体レーザの構造はこれに
限定さ1Lるものではなく、十分に低いしきい値電流を
もつ構造であれはいか力る構造であってもよ(s G
a A s系たけでなくレーザ発振の可能ないか力る材
料の半導体レーザであってもよい。また、共振器構造も
へき開によるファブリ・ベロ型に限らすいかなるもので
もよく、その電極も2個以上であれはいくつに分割され
ていてもよく、電極間の電気的な分離方法もいかなるも
のでもよい。その半導体レーザの寸法も限定されず、自
励パルス発振の可能ないかなる値でもよい。また、可飽
和吸収体の電極電圧を一定に保つ素子もゲルマニューム
接合型ダイオードに限らず、シリコン・ツェナーダイオ
ードなど適当な電圧を与えるものであれはいかなるもの
でもよく、回路もいかなるものであってもよい。
限定さ1Lるものではなく、十分に低いしきい値電流を
もつ構造であれはいか力る構造であってもよ(s G
a A s系たけでなくレーザ発振の可能ないか力る材
料の半導体レーザであってもよい。また、共振器構造も
へき開によるファブリ・ベロ型に限らすいかなるもので
もよく、その電極も2個以上であれはいくつに分割され
ていてもよく、電極間の電気的な分離方法もいかなるも
のでもよい。その半導体レーザの寸法も限定されず、自
励パルス発振の可能ないかなる値でもよい。また、可飽
和吸収体の電極電圧を一定に保つ素子もゲルマニューム
接合型ダイオードに限らず、シリコン・ツェナーダイオ
ードなど適当な電圧を与えるものであれはいかなるもの
でもよく、回路もいかなるものであってもよい。
(発明の効果)
以上詳述したように、本発明によれば、分離された電極
をもつ半導体レーザの一つの電極の電圧を活性層を構成
する半導体の県側帯幅よ)も小さな値に保つことによっ
て、半導体レーザに安定な自励パルス発振を行なわせる
ことが可能となる。
をもつ半導体レーザの一つの電極の電圧を活性層を構成
する半導体の県側帯幅よ)も小さな値に保つことによっ
て、半導体レーザに安定な自励パルス発振を行なわせる
ことが可能となる。
第1図は本発明の一実施例の一部断面を含む構成図であ
る。図中、1は半導体レーザ、2はダイオード、11,
12.13はp側電極、14はn側1!極、15.16
は分離溝、20#″を基板、21は活性層、22.23
はクラッド層、24はコンタクト層、31龜端子である
。 代理人 弁理士 内 原 音 を 噴 碧
る。図中、1は半導体レーザ、2はダイオード、11,
12.13はp側電極、14はn側1!極、15.16
は分離溝、20#″を基板、21は活性層、22.23
はクラッド層、24はコンタクト層、31龜端子である
。 代理人 弁理士 内 原 音 を 噴 碧
Claims (1)
- 共振器内に少なくとも2以上に分離された電極をもつ半
導体レーザを備え、この半導体レーザの少なくとも1以
上の分離電極の電圧が、活性層を構成する半導体の禁制
帯幅より小さく保たれることを特徴とする半導体レーザ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60146200A JPS625680A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 半導体レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60146200A JPS625680A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 半導体レ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS625680A true JPS625680A (ja) | 1987-01-12 |
Family
ID=15402388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60146200A Pending JPS625680A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 半導体レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS625680A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996010250A1 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-04 | Sony Corporation | Optical recording method, optical recording apparatus and optical recording medium |
| JP2007258285A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Asti Corp | 電子部品の取外し装置 |
-
1985
- 1985-07-02 JP JP60146200A patent/JPS625680A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996010250A1 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-04 | Sony Corporation | Optical recording method, optical recording apparatus and optical recording medium |
| US5822287A (en) * | 1994-09-27 | 1998-10-13 | Sony Corporation | Optical recording method, optical recording apparatus and optical recording medium |
| JP2007258285A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Asti Corp | 電子部品の取外し装置 |
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