JPS6257603A - セラミツク原料処理槽用洗浄剤の回収方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、セラミック原料を混線処理するため等の処理
槽をシンナー等の揮発性洗浄剤で洗浄し死後、その洗浄
剤を再利用のために回収する方法に関し、詳しくは、洗
浄後の洗浄剤を加熱により蒸発させて、セラミック原料
滓や、セラミック原料に混入されたバインダー等の含有
不純物を分離し、蒸発洗浄剤を冷却により凝縮させて凝
縮洗浄剤を回収するセラミック原料処理槽用洗浄剤の回
収方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、上記回収方法を実施するに、ＷＪ５図に示すよう
に、洗浄後の洗浄剤をタンク（１）内に貯貿し、その貯
Ｗａ浄剤をそれに１！！漬配置したヒータ（６）によυ
加熱して蒸発させてい友。

図中（９）は蒸発洗浄剤を移送するための真空ポンプ、
（７）は蒸発洗浄剤を冷却凝縮させるコンデンサー、（
８）は凝縮洗浄剤の回収容器である。

（文献を示すことができない） 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、洗浄剤を蒸発させるに伴いセラミック原料滓や
バインダー等の含有不純物がヒータの加熱面上に膜を形
成し、その膜が徐々に成長するために、伝熱性能が著し
く低下してしまい回収能率が大巾に低下する問題があっ
た。

又、加熱面上に形成された不純物膜の除去のために多大
のメンテナンス労力とメンテナンス経費を喪する問題も
あり、殊に、ヒータとして蒸気コイル等の複雑な形状の
ものを用いでいる場合には、膜の除去作業が極めて煩雑
な作業となつ１いた。

本発明の目的は、洗浄剤の蒸発に伴い分離される不純物
を合理的に除去して、洗浄剤全不純物膜の無い加熱面で
連続して加熱処理でさるようにする点にある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によるセラミック原料処理槽用洗浄剤回収方法の
特徴手段は、含有不純物の分離のために揮発性洗浄剤を
加熱して蒸発させる加熱面を回転させ、その回転力向に
おける設定位相で、洗浄後の洗浄剤を！ｉｆＪ記加熱面
加熱面上し、前記加熱面の回転力向において供給洗浄剤
の蒸発が完了する位相からｌ！Ｔｌ記の洗浄剤供給設定
位相に至る間で、スクレーパーを前記加熱面に作用させ
、前記加熱面の回転に伴い加熱面上の分離不純物を前記
スクレーパーで掻取除去して前記加熱面を更新すること
にあり、その作用・効果は次の通りである。

〔作　用〕

つまり、回転加熱面の回転方向における設定位相で加熱
面上に供給された洗浄剤は加熱面の回転に伴い加熱され
て蒸発し、加熱面上には洗浄剤の蒸発に伴い分離された
含有不純物が残るが、加熱面の回転方向において供給洗
浄剤の蒸発が完了する位相から前記の洗浄剤供給設定位
相に至る間で作用させるスクレーパーにより、加熱面上
に残った分離不純物は加熱面の回転に伴い自動的に掻取
除去されてしまう。

したがって、洗浄剤供給設定位相には、不純物が残存し
ない更新された加熱面を常時位置させることかでさる。

〔発明の効果〕

その結果、下記の効果を奏する。

（ａ）　　供給洗浄剤に対する加熱面の伝熱性能を常に
高く維持することができるから、洗浄剤の蒸発を常に効
率良く行なわせることがでさ、しかも、加熱面の回転に
併行して洗浄剤を連続供給することもｏＪ＆であるから
、全体として、回収能率を大巾に向上できる。

（ｂ）　　加熱面の回転に伴い分離不純物をスクレーパ
ーで自前的に掻取除去するから、従前の如き不純物膜の
除去作業が不要となり、メンテナンス面での必要労力並
びに必要経費を大巾に節減できる。

（Ｃ）　　又、従前方法にあっては、不純物膜の除去作
業時に洗浄剤回収作業を中折する必要があるが、本発明
方法であれば、不純物除去のための作業中断も回避でき
、その点１ｃおいても従前方法に比して回収能率を向上
できる。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は、焼結処理前のセラミック原料を混練処理する
楢＋ｌ）の洗浄に用いた揮発性洗浄剤としてのシンナー
を回収する装置を示し、（２１ｉ、混線処理槽（１）か
ら排出管路（３）を介して供給される洗浄作用後のシン
ナーを蒸発させてセラミック原料滓や、セラミック原料
に混入されているバインダー等のシンナー中の不純物を
分離するための回転加熱ドラム、（４）は、シンナーの
蒸発に伴いドラム周面上で膜を形成する分離不純物を掻
収るスクレーパー、（６）は、掻収られた不純物を収容
する容器、ｔｅｌｔ：ｔ、密閉型のシンナー蒸発室を形
成するゲージング、（７）は、蒸発シンナーｋ　冷却す
るコンデンサー、（８）は、冷却により凝縮した純シン
ナーを回収する容器、＋９１　ｉｆ、蒸発シンナーの管
路移送並びに、シンナー蒸発室の低圧化のための真空ポ
ンプである。

第２図に示すように、回転加熱ドラム（２＋は、その外
周面がシンナーに対する加配−而ｔｈ＋として／Ｂ成さ
れており、蒸気供給管路ｔｌＣＩ＋からドラム内に給送
される高温蒸気により加熱面（ｈｌが加熱される。

この回収装置による回収手段を説明すると、一対の回転
加熱ドラム（２）を、それらのＩｉ！ｉｔ面が線接触す
る状急の平行姿勢で、かつ、両者（２）の回転軸芯（Ｐ
）が同一水平面上に位置するように配置しておき、それ
らドラム（２）を、互いの接触部での移動方向が夫々上
方向さとなる回転方向で連続＆前回転させる。（各ドラ
ム（２１の回転駆動構成については図示を省略しである
。） 各ドラム（２）の回転方向において両ドラム（２）の接
触部よりも上側で両ドラム（２）の周面により谷状空間
が形成される部分をシンナー供給位相とし、その谷状空
間に対して洗浄作用後のシンナーを連続的に定量供給す
る。

供給されたシンナーは、加熱面（ｈｌとしてのドラム周
面からの伝熱により加熱されて、ドラム回転に伴い定量
が連続的に蒸発する。

尚、この際、真空ポンプ（９）によるシンナー蒸発室内
の低圧化により、シンナーの蒸発は効果的に促進される
。

蒸発シンナーはコンデンサー（７）に給送されて冷却水
との熱交換による冷却で凝縮し、凝縮した純シンナーが
容器（８）に回収される。

一方、各ドラム（２）に対する不純物損収用のスクレー
パー（４）を、各ドラム（２１の回転方向において供給
シンナーの蒸発が完了する位相から前記のシンナー供給
位相に至る間でドラム（２〕周而に対して常時作用させ
るように配設しておき、そのように配設したスクレーパ
ー（４）で、シンナー蒸発後に、加熱面（ｍｌであるド
ラム向面上に膜を形成する分離不純物をドラム回転に伴
い連続的に掻取除去することにより、回転加熱面（５）
を順次更新させる。

つまシ、その更新により、シンナー供給位相には常に、
不純物膜のない加熱面（５）を位置させ、それによって
、シンナーに対する伝熱性能を良好に維持して蒸発処理
を効率良く行なえるようにしである。

スクレーパー（４）により掻取られた分離不純物は自重
落下により容器（５１中に収容される。

父、密閉型ケーシング（６）で形成されたシンナー蒸発
室を、真空ポンプ（９）による内部空気の吸引排除でシ
ンナー回収運転に先立って予め微真空状慾としておくよ
うにし、それによってシンナー回収運転中においてコン
デンサー（７）側に給ンデンサー（７）で十分な回収効
率を達成でさるようにする。

〔別実施例〕 次に本発明の別実施例を説明する。

ｆｆ１８図に示すように、水平姿勢に配Ｉｔ　した円盤
状回転体（１すの上面（ｔ’　７Ｊ１１熱面［ｈｌに形
成しておき、その回転体（１１）の回転方向における設
定位相で、洗浄作用後のシンナー等揮発性洗浄剤を流出
管（１２）から加熱面ｔｈｌ上に供給し、その供給洗浄
剤の蒸発が完了する位相から先の洗浄剤供給設定位相に
至る間でスクレーパー（４）を加熱面（社）に対して作
用させるようにしても良い。　尚、この場合、回転体（
川の外周側はどスクレーパー（４）が回転方向下手側に
位置するように、スクレーパー（４）を回転体（１りの
半径方向に対して傾斜配置しておけば、掻取られる不純
物を回転体（１りの回転に伴いスクレーパー（４）の案
内作用で回転体（１１）外向側へ円滑に排除できる。

第４図に示すように、無端帯状回動体−の上側回動部分
における上面を加熱面ｔｈ＋とし、上側回動部分のうち
回転方向下手側の設定位相で洗浄剤を加熱面ｉｉＪ上に
供給して、上側回動範囲で供給洗浄剤を蒸発させ、上側
回動範囲から下側回前範囲への移行の途中でスクレーパ
ー（４）を回動体−の外向面に作用させても良い。　尚
、第４図において、（６）は加熱面占）を加熱するため
のヒータである。

以上要するに、加熱面（ｈｌの共体的回転形台は種々の
変更がＯｆ能であり、又、加熱面（ｈｌの回転方向にお
いて洗浄剤供給位相をいずれの位相に設定するかも回＠
形急に応じて変更が可能であるＯ 本ａｍｎ、トルエン、アルコール、エタ／−ル等の揮発
性のある液剤であれば、棟々のものを回収対象洗浄剤と
することができる。

洗浄剤により洗浄するセラミック原料処理槽の具体的用
途は不問である。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２因は本発明の詳細な説明するための図で
あり、１１図は回収装置の全体構成因、ｌｌｐＪＢ図は
加熱構成を示す図である。　第８図及び第４図は夫々本
発明の別実施例を説明するための、概略装置構成図であ
る。　′ｉ４５図は従来方法を説明するための装置構成
図である。 ＋１）・・・・・・セラミック原料処理槽、（４）・・
・・・・スクンーバー、（５）・・・・・・加熱面。 代理人　弁理士　北　村　　　修 第１図 口 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. セラミック原料処理槽（１）の洗浄に用いた揮発性の洗
   浄剤を加熱により蒸発させて、その洗浄剤に含まれる不
   純物を分離し、蒸発洗浄剤を冷却して凝縮洗浄剤を回収
   するセラミック原料処理槽用洗浄剤の回収方法であって
   、洗浄剤を加熱する加熱面（ｈ）を回転させ、その回転
   方向における設定位相で、洗浄後の洗浄剤を前記加熱面
   （ｈ）上に供給し、前記加熱面（ｈ）の回転方向におい
   て供給洗浄剤の蒸発が完了する位相から前記の洗浄剤供
   給設定位相に至る間で、スクレーパー（４）を前記加熱
   面（ｈ）に作用させ、前記加熱面（ｈ）の回転に伴い加
   熱面（ｈ）上の分離不純物を前記スクレーパー（４）で
   掻取除去して前記加熱面（ｈ）を更新するセラミック原
   料処理槽用洗浄剤の回収方法。