JPS625974A - 新規フエニル酢酸誘導体、それらを含有する医薬組成物、およびそれらの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式（１） の新規フェニルｗ岐り導体、それらのエナンチオマーお
よび塩、特に無機または有機の酸または塙基とのそれら
の生理的に受容しうる塩、それら化合物を含有する医業
組成物、およびそれらの製造法に関する。

本１ｉ規化合物は、価値ある楽埋挙的性寅、特に中間体
代謝に対する効果、しかし好ましくは血槍低下効来を有
する。

上記一般式Ｉにおいて、 Ｒ１は、各々が炭素原子１から３個までを有する１援た
は２個のアルキル基により随意に置換されていてもよい
炭素原子４から６個までの非分枝鎖アルキレンイミノ基
を示し、 Ｒ２は、水素または・・ロダン原子、あるいはメチＩＬ
捷たはメトキシ基を示し、 Ｒ４１ＺＩ１、水素原子、炭素原子１から６個までのア
ルキル基またはアリル基を示し、 Ｒ８は、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキル
基、随意にハロゲン原子、あるいはメチルまたはメトキ
シ基により置換されていてもよいフェニル基、そのアル
コキシ部分が炭素原子１から６個までを含有しえ、アル
カノイルオキシ部分が炭素原子２または６個を含有しえ
、そしてシクロアルキル部分が炭素原子６から７個まで
を含有しうるビトロキシ、アルコキシ、アルカノイルオ
キシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒ（２０ピラニル
、シクロアルキルまたはフェニル基により置換された炭
素原子１盪たは２個のアルキル基、炭素原子３から６個
までのアルケニル基、炭素原子３から５個までのアルキ
ニル基、カルボキシ基、ま、たけ炭素原子全部で２から
５細礫でのアルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗは、シアノメチル、２−シアノ−エチル、２−シアノ
ーエテニル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル
、２−カルボキシエチニル、アルコキシカルボニルメチ
ル、２−アルコキシ力ルポニルエチルまたは２−アルコ
キシカルボニル−エチニル基を示し、そのアルコキシ部
分は炭素原子１から４個まで全含有しえ、そしてフェニ
ル基によ０置換されえ、あるいは、 Ｒ，は、そのアルコキシ部分が炭素原子１から６個まで
を含有しえ、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２また
は３個を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原
子３から７個までを含有しうるビトロキシ、アルコキシ
、アルカノイルオキとテトラヒドロフラニル、テトラヒ
ドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基により
置換された炭素原子１址たけ２個のアルキル基、炭素原
子６から６個までのアルケニル基、炭素原子６から５個
までのアルキニル基、カルボキシ基、または炭素原子全
部で２から５個までのアルコキシカルボニル基を示し、
そして、 Ｗは、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
シまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキ
シ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そしてフ
ェニル基により置換されうる。

基Ｒ１からＲ４まで、およびＷにつき上記に与えた定義
の例として、 Ｒ１は、ピロリジノ、ピペリジノ、ヘキサメチレンイミ
ノ、メチル−ピロリジノ、ジメチル−ピロリジノ、エチ
ル−ピロリジノ、２−メチル−ピペリジノ、３−メチル
−ピペリジノ、４−メチル−ピペリジノ、６，６−シメ
チルービペリジノ、シス−６，５−ジメチルピペリジノ
、トランス−６゜５−ジメチルピペリジノ、エチル−ピ
ペリジノ、ジエチル−ピペリジノ、メチル−エチル−ピ
ペリジノ、プロピル−ピペリジノ、メチル−プロピル−
ピペリジノまたはイソノロビルピペリジノ基を示しえ、 Ｒ２は、水素、フッ素、塩素または臭素原子、あるいは
メチルまたはメトキシ基を示しえ、Ｒ４は、水素原子、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルまたはア
リル基を示しえ、Ｒ３は、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ、
ブチル、ｔｅｒｔ、ブチル、ｎ−ペン・チル、２−メチ
ル−ｎ−ブチル、３−メチル−ｎ−ブチル、２，２−ジ
メチルゾロビル、ｎ−ヘキシル、４−メチル−ｎ−ペン
チル、ｎ−ヘプチル、１−プロペン−１−イル、２−メ
チル−１−プロペン−１−イル、６−メチル−２−ブテ
ン−２−イル、２−ｆロイン−１−イル、２−メチル−
２−プロペン−１−イル、２−ブテン−１−イル、２−
メチル−２−ブテン−１−イル、６−メチル−２−ブテ
ン−１−イル、３−ブテン−１−イル、２−メチル−３
−ブテン−１−イル、６−メチル−６−プテンー１−イ
ル、２−ヘキセン−１−イル、１−ノロビン−１−イル
、２−ゾロビン−１−イル、２−ブチン−１−イル、２
−ペンチン−１−（ル、フェニル、フルオロフェニル、
クロロフェニル、フロモフェニル、メチルフェニル、メ
トキシフェニル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシ−
エチル、２−ヒドロキシ−エチル、メトキシメチル、エ
トキシメチル、ｎ−ゾロボキシメチル、インゾロポキシ
メチル、１−メトキシ−エチル、２−メトキシ−エチル
、１−エトキシ−エチル、２−エトキシ−エチル、２−
ｎ−プロポキシ−エチル、２−イソゾロホキシーエチル
、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、１−
アセトキシ−エチル、２−アセトキシ−エチル、１−プ
ロピオニルオキシ−エチル、２−ゾロピオニルオキシ−
エチル、テトラヒドロフラン−２−イル−メチル、２−
（テトラヒドロフラン−２−イル）−エチル、テトラヒ
ドロ７う：ｙ−５−イルーメチル、テトラヒドロフラン
−２−イル−メチル、２−（テトラヒドロビラン−２−
イル）−エチル、テトラヒドロビラン−３−イル−メチ
ル、シクロノロビルメチル、シクロブチルメチル、シク
ロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプ
チルメチル、２−シクロノロビルメチル、２−シクロブ
チル−エチル、２−シクロベンチルーエチル、２−シク
ロノロビルメチル、２−シクロヘプチル−エチル、ベン
ジル、１−フェニル−エチル、２−フェニル−エチル、
カルボキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
。ｎ−プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニ
ル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｓｅｅ、ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニルまたはｔｅｒｔ、ブトキ
シカルボニル基を示しえ、そして、 Ｗは、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
シ、メトキシカルボニル、エトキシカルざニル、ｎ−プ
ロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ｎ−
ブトキシカルボニル、ｓｅｃ、７”トキシカルボニル、
インブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ、ブトキシカルボニ
ル、ベンジルオキシカルボニル、１−フェニルエトキシ
カルボニル、２−フェニルエトキシカルボニル、６−フ
ェニルプロ・ボキシカルポニル、シアノメチル、２−シ
アノ−エチル、２−シアノ−エチニル、カルボキシメチ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、ｎ−プロポキシカルボニルメチル、ｎ−ブトキシ
カルボニルメチル、ｔ８ｒｔ、ブトキシカルボニルメチ
ル、２−メトキシカルボニル−エチル、２−工）キシカ
ルボニルーエチｋ、２−　ｎ−プロボキキシルボニルー
エチル、２−イソゾロボ゛キシカルボニルーエチル、２
−ｎ−ブトキシ力ルポニルーエチル、２−　ｔｅｒｔ、
　７”　）キシカルボニル−、＝Ｃチ、Ａ、　、２−メ
トキシカルボニル−エチニル、２−−Ｚ）キシカルボニ
ル−エチニル、２−ｎ−ｆロボキシ力ルポニルーエテニ
ル−１７’ｃ　ｔ４２−　ｔｅｒｔ。

プトキシ力ルポニルエテニル基ｋ　示ｔ。

一般式Ｉの好ましい化合物は、次のものである：Ｒ１は
、ピロリジノ、ピペリジノ、４−メチル−ピペリジノ、
３−メチル−ピペリジノ、５．５−ジメチル−ピペリジ
ノ、６．５−ジメチル−ピペリジノまたはへキサメチレ
ンイミノ基を示し、Ｒ２は、水素、フッ素または塩素原
子、あるいはメチルまたはメトキシ基を示し、 Ｒ４は、水素原子、炭素原子１から６個までのアルキル
基またはアリル基を示し、 Ｒ３￥′ｉ、水素原子、炭素原子１から６個普でのアル
キル基、あるいは随意に塩素原子、あるいけメチルまた
はメトキシ基により置換されていてもよいフェニル基、
そのアルコキシ部分が炭素原子１から６個までを含鳴し
え、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個ま
でを含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、アセトキシ、
プロピオニルオキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒ
ドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基により
１ｕ換された炭素原子１または２個のアルキル基、炭素
原子６から５個までのアルケニル基、炭素原子６または
４個のアルキニル基、カルボキシ基、あるいは炭素原子
全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基を示し
、そして、 Ｗは、シアノメチル、カルボキシメチル、２−カルボキ
シ−エチル、２−カルボキシ−エチニル、アルコキシカ
ルボニルメチル、２−アルフキジカルボニル−エチル址
たは２−アルコキシカルボニル−エチニル基を示し、そ
のアルコキシ部分ハ炭素原子１から４個までを含有しえ
、そしてフェニル基により置換されえ、あるいは、 Ｒ３は、そのアルコキシ部分が炭素原子１から６個まで
を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３か
ら７個を含有しつるヒドロキシ、アルコキシ、アセトキ
シ、プロピオニルオキシ、テトラヒドロフラニル、テト
ラヒドロピラニル、シりｐアルキルまたはフェニル基に
よＯｗ換された炭素原子１または２個のアルキル基、炭
素原子３から５個までのアルケニル基、炭素原子３また
は４個のアルキニル基、カルボキシル基、筺たは炭素原
子全部で２から５個までのアルフキジカルボニル基を示
し、そして Ｗは、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
シまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキ
シ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そしてフ
ェニル基によ０置換されうる。

しかしながら、上記一般式Ｉの特に好ましい化合物は、
次のものである： Ｒ１は、ピロリジノ、ピペリジノ、４−メチルピペリジ
ノ、３−メチル−ピペリジノ、３，６−シメチルービベ
リジノ、６，５−ジメチル−ピペリジノ筐たはヘキサメ
チレンイミノ基を示し、Ｒ２は、水素、フッ素または塩
素原子、あるいはメチルまたはメトキシ基を示し、 Ｒ４は、水素原子、捷たに炭素原子１から３個までのア
ルキル基を示し、 Ｒ３は、水素原子、炭素原子１から５個までのアルキル
基、フェニル、ヒト日キシメチル、エトキシメチル、ア
セトキシメチル、ペンシル、ｆ７１；Ｊテトラヒドロフ
ラニルメチル基、そのシクロアルキル部分が炭素原子６
から７個までを含有しうるシクロアルキルメチル基、炭
素原子３から５個までのアルケニル基、プロパルギル基
、または炭素原子全部で２から５個までのアル；キシカ
ルボニル基を示し、そして、 Ｗは、シアノメチル、カルボキシメチル、２−カルボキ
シエチルまたは２−カルボキシ−エチニル基を示し、あ
るいは、 Ｒ３は、そのシクロアルキル部分が炭素原子３から７個
までを含有しうるシクロアルキルメチル基、炭素原子６
から５個までのアルケニル基、プロパルギル基、炭素原
子全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシメチル、エトキシメチル、アセトキシメチル、
ベンジルまたはテトラヒドロフラニルメチル基を示し、
そして、Ｗは、カルボキシ、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニル基を示
し、 しへかし特にそれら化合物は、 そのＲ１が、ピペリジノ基を示し、 Ｒ２が、水素、フッ素または塩素原子を示し、Ｒ４が、
メチルまたはエチル基を示し、Ｒ３が、メチル、エチル
、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチルまたはフェニ
ル基を示し、そして、 Ｗが、シアノメチル、２−カルボキシエチニル、カルボ
キシメチλまたは２−カルボキシ−エチル基を示し、あ
るいは、 Ｒ３が、シクロゾロビルメチル、シクロブチルメチル、
シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、テトラ
ヒトミフラン−２−イル−メチル、アリル、メタリル、
２−メチル−ビニール、２゜２−ジメチル−ビニール、
プロパルギル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソゾロボキシ力ルボ
ニル、ヒドロキシメチルまたはエトキシメチルを示し、
そして、 Ｗが、カルボキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシ
カルボニル基を示し、 それらのエナンチオマーおよび塩、特に無慎盪たは有機
の酸または塩基とのそれらの生理的に受答し５る塩であ
る。

一般式Ｉの特に好ま（、い化合物は、Ｗがカルボキシ基
を示すものである。

本発明に従えば、本新規化合物は、次の方法により得ら
れる： ａ）一般式（ＩＩ） 〔式中、Ｒ１からＲ２捷では、上記の如く限定される〕
のアミンを、一般式（ｉｌｌ） 〔式中、 Ｒ４は、上記の如く限定され、そして、Ｗ′は、上記の
Ｗにつき与えた意味を有ｌ−１その基Ｗ中に含有される
任意のカルボキシ基は保護基により保膿され５る〕のカ
ルボン酸、または反応混合物中において随急に製造され
るそれらの反応性訪専体と反応させ、もしも必要ならば
、使用した任意の保護基を引続き開裂する。

使用しうる一般式協の化合物の反応性訪導体の例は、そ
れらのエステルたとえばメチル、エチルまたはベンジル
エステル、チオエステルたとえばメチルチオまたはエチ
ルチオエステル　／％ライドたとえば酸クロライド、そ
れらの無水物またはイミダゾリドを包含する。

反応は、溶媒たとえばメチレンクロライ）２、クロロホ
ルム、四塩化炭素、エーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリルまたは
ジメチルホルムアミド中、随意に酸活性化剤または脱水
剤たとえばクロロギ酸エチル、チオニルクロライド、三
塩化リン、方散化リン、Ｎ　、　Ｎ’−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド／Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ、Ｎ’−
カルボニルシイミダゾールまたはＮ　、　Ｎ’−チオニ
ルシイミダゾール擾たはトリフェニルホスフィン／四塩
化炭素、あるいはアミノ基を活性化しうる薬剤たとえば
三塩化リンの存在において、そしてＮ意に無機塩基たと
えば炭酸ナトリウム、または第三級有機塩基たとえば同
時に溶媒として使用しうるトリエチルアミンまたはピリ
ジンの存在において、−２５から２５０℃までの間の温
度、しかし好ましくは一１０℃から使用した溶媒の沸騰
温度までの間の温度で好適に行われる。反応はまた、溶
媒なしに行うことができ、そして更に反応の間に水が形
成すれば共沸蒸留、たとえば水分離器を使用してトルエ
ンと加熱することにより、あるいは乾燥剤たとえば硫酸
マグネシウムまたは分子１１ｆｆｉを加えることにより
除去しうる。

もしも必要ならば、引続く保護基の開裂は、便宜には酸
たとえば塩酸、硫酸、リン酸またはトリクロロ酢酸、あ
るいは塩基たとえば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリ
ウムのいずれかの存在において、適当な溶媒たとえば水
、メタノール、メタノール／水、エタノール、エタノー
ル／水、水／イソゾロパノールまたは水／ジオキサン中
、−１０から１２０℃までの間の温度、たとえば掌編か
ら反応混合物の沸騰温度までの間の温度において好適に
行われる。

保護基として使用されるｔａｒｔ　、ジチル基はまた、
随意に不活性溶媒たとえばメチレンクロライド、クロロ
ホルム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランまた
はジオキサン中、そして好ましくは触媒量の酸たとえば
１）−）ルエンスルホン嘔、硫酸、リン酸またはポリリ
ン酸の存在において、熱的に開裂し５る。

更に、保護基として使用されるベンジル基はまた、適当
な溶媒たとえばメタノール、エタノール、エタノール／
水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオキサンまたはジメチルホ
ルムアミド中、水素化触媒たとえばパラジウム／炭素の
存在において、水素分解的に開裂しつる。

ｂ）　Ｒ３がカルボキシまたけアルコキシカルボニル基
を示し、そしてＷが上記に与えた意味を有し、あるいは
Ｗがカルボキシ、カルボキシメチル、２−カルボキシ−
エチル、２−カルボキシ−エチニル、アルコキシカルボ
ニル、アルコキシカルボニル−メチル、２−アルコキシ
カルボニル−エチル捷たは２−アルコキシカルボニル−
エチニル全示し、そしてＲ３が上記に与えた意味を有す
る一般式Ｉの化合物を製造するためにはニ 一般式（ＩＶ） 〔式中、 Ｒｏ、Ｒ２およびＲ４は、上記に限定した如くであり、 Ｂは、結合、メチレン、エチレンまたはエチニレン基を
示し、 ＡおよびＬは、各々二）　ＩＪル基、あるいは加水分解
、熱分解または水素分解によりカルボキシ基に変換しう
る基を示し、そして、 Ｌは、付加的に上記Ｒ３につき与えた意味を有する〕の
化合物の加水分解、熱分解、水素分解またはアルコール
分解。

加水分解しうる基の例は、カルボキシル基の官能性誘導
体、およびそれらの未置換または置換アミド、エステル
、チオエステル、オルトエステル、イミノエーテル、ア
ミジンまたは無水物、ニトリル基、テトラゾリル基、随
意に置換された１、６−オキサプリル−２−イルまたは
１．６−オキサゾリン−２−イルを包含し、 水素分解的に開裂しうる基の例は、アラルキル基、たと
えばベンジル基を包含し、そして、アルコール分解的に
開裂しうる基の例は、シアノ基を包含する。

加水分解は、酸たとえば塩酸、硫酸、リン酸またはトリ
クロロ酢酸、あるいは塩基たとえば水酸化ナトリウムま
たは水酸化カリウムのいずれかの存在において、適当な
溶媒たとえば水、水／メタノール、エタノール、水／エ
タノール、水／イソプロパツールまたは水／ジオキサン
中、−１０から１２０℃までの間の温度、たとえば室温
から反応混合物の沸騰温度までの間の温度で便宜に行わ
れ、そしてシアノ基のアルコール分解は、過剰の対応ア
ルコールたとえばメタノール、エタノールまたはプロパ
ツール中、そして酸たとえば塩酸の存在において、高め
られた温度、たとえば反応混合物の沸Ｎ＃温度で好適に
行われる。

もしも一般式■の化合物中のＡおよび（または）Ｌがニ
トリルまたはアミノカルボニル基を示すならば、それら
基は、１００から１８０℃までの間の温度、好゛ましく
は１２０から１６０℃までの間の温度において１００チ
リン酸により、あるいは酸たとえば硫酸の存在において
亜硝酸塩たとえば亜硝酸す）　ＩＪウムで対応のカルボ
キシ化合物に変換しえ、後者は、０から５０℃までの間
の温度において、溶媒としてまた便宜に使用される。

もしも一般式■の化合物中のＡおよび（または）Ｌがた
とえばｔθｒｔ、ブチルオキシカルボニル基を示すなら
ば、ｔθｒｔ、ジチル基はまた、随意に不活性溶媒たと
えばメチレンクロライｒ１　クロロホルム、ベンゼン、
トルエン、テトラ上１２０フランまたはジオキサン中、
そして好ましくは触媒量の酸たとえばｐ−トルエンスル
ホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸の存在において
、好ましくは使用した溶媒の沸騰温度、たとえば４０か
ら１００°Ｃまでの間の温度において、熱的に開裂し５
る。

もしも一般式■の化合物中のＡおよび（または）Ｌがた
とえばベンジルオキシカルボニル基を示すカらば、ベン
ジル基はまた、水素化触媒たとえばパラジウム／炭素の
存在において、適当な溶媒たとエバメタノール、エタノ
ール、メタノール／水、エタノール／水、氷酢酸、酢酸
エチル、ジオキサンまたはジメチルホルムアミド中、好
ましくは０から５０℃までの間の温度、たとえば室温に
おいて、そして１から５パールまでの間の水素圧下に、
水素分解的に開裂しうる。水素分解の間に、ハロゲンを
含有する化合物は同時に脱ハロゲン化さ汰存在する任意
の二重または三重結合は水素化されえ、そして存在する
任意のベンジルオキシカルボニル基はカルボキシ基に変
換されうる。

ｃ、）　Ｒ４が水素原子を示す一般式Ｉの化合物全製造
するためにはニ 一般式（Ｖ） 〔式中、 Ｒ□からＲ３までおよびＷは、上記に限定した如くであ
り、そして、 Ｒ５は、ヒドロキシ基の保霞基全示す〕の化合物から保
険基を開裂する。

Ｒ５の保賎基の例は、たとえばアルキル、アラルキルま
たはトリアルキルシリル基、たとえばメチル、エチル、
プロピル、アリル、ベンジルまたはトリメチルシリル基
を包含する。

使用した保護基に依存し、上記保護基は、随意に適当な
溶媒中、−７８から２５０℃までの間の温度において、
加水分解または水素分解のいずれかにより開裂し５る。

たとえば、エーテル開裂は、酸たとえば塩酸、臭化水素
酸または硫酸、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウムまた
はぎリジン塩酸塩の存在において、便宜には適当な溶媒
たとえばメチレンクロライド、氷酢酸または水、あるい
はそれらの混合物中、−７８から２５０℃までの間の温
度において行われる。エーテル開裂は、プロトン酸の存
在において、便宜には０から１５０℃までの間、好まし
くは５０から１５０℃までの間の温度で、あるいはルイ
ス酸で、好ましくは溶媒たとえばメチレンクロライド中
、−７８から２０°Ｇまでの間の温度において行われる
。

たとえば、使用した任意の保−基たとえばベンＤ ジル基は、適当な溶媒たとえばメタノール、エタノール
、エタノール／水、木酢ｍ、酢ｉエチル、ジオキサンま
たはジメチルホルムアミド中、水素化触媒たとえばパラ
ジウム／炭素の存在において、水素で、好ましくは、た
とえば室温において、そして１から５バールまでの間の
水素圧下に、水素分解的に開裂しつる。

ｄ）　Ｒ４が炭素原子１から６個までのアルキル基、ま
たはアリル基を示す一般式Ｉの化合物を製造するために
はニ 一般式（Ｖｌ） 〔式中、 Ｒ１からＲ３まで、およびＷは上記に限定した如くであ
る］の化合物を、一般式（■） Ｘ−Ｒ６（■） 〔式中、 Ｒ６は、炭素原子１から３個までのアルキル基、または
アリル基であシ、そして、 Ｘは、親核的に交換しうる基たとえば）・ロゲン原子、
スルホニルオキシ基、あるいは、も１２もＲ６が炭素原
子１から３個までの″アルキル基を示すとき、隣接する
水素原子と一緒でジアゾ基を示す〕の化合物と反応させ
、もしも必要ならば引続き加水分解する。

反応は、対応のノ・ライド、スルホン酸エステル、硫酸
ジエステルまたはジアゾアルカン、たとえばヨウ化メチ
ル、ジエチル硫酸、臭化エチル、ジエチル硫酸、臭化プ
ロピル、臭化イソゾロビル、臭化アリル、ｐ−トルエン
スルホン酸エチル、メタンスルホン酸イソゾロビルまた
はジアゾメタンで、随意に塩基たとえばナトリウムヒド
リぜ、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、カリウムｔａ
ｒｔ、シトキサイドまたはトリエチルアミンの存在にお
いて、適当外溶媒たとえばアセトン、ジエチルエーテル
、テトラヒＶロフラン、ジオキサンまたはジメチルホル
ムアミド中、０から１００’Ｃ−！での間の温度、好捷
しくは２ｏから５０’Ｏまでの間の温度において便宜に
行われる。

もしも一般式Ｗの化合物において、Ｒ３がカルボキシ基
全示し、および（″または）Ｗがカルボキシ、カルボキ
シメチル、２−カルボキシ−エチルまたは２−カルボキ
シ−エチニル基を示すならば、この化合物は同時に対応
のエステル化合物に変換しうる。かく得られた化合物は
、もしも必要ならばエステル基の開裂にょシ一般式■の
所望化合物に変換される。

エステル基の開裂は、便宜には酸たとえば塩酸、硫酸、
リン酸、またはトリクロロ酸の存在において、あるいは
塩基たとえば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの
存在においてのいずれかで、適当な溶媒たとえば水、メ
タノール、メタノール／水、エタノール、エタノール／
水、水／イソプロパツールまたは水／ジオキサン中、−
１０から１２０’０までの間の温度、たとえば室温から
反応混合物の沸点までの間の温度において、加水分解的
に行ゎれる。

θ）Ｗがシアノメチルまたは２−シアノエチル基金示す
一般式Ｉの化合物を製造するためにはニ一般式（■） 〔式中、 Ｒ工からＲ４までは、上記に限定した如くであり、Ｅは
、メチレンまたはエチレン基を示し、そして、Ｙは、親
核的に変換しうる基たとえばハロゲン原子またはスルホ
ニルオキシ基、たとえば塩基、臭１またはヨウ素原子、
あるいはメタンスルホニルオキシｔ７’ｃｔｉｐ−）ル
エンスルホニルオキシ基全示す〕の化合物をアルカリ金
属シアナイドたとえばナトリウムまたはカリウムシアナ
イドと反応させる。

反応は、適当な溶媒たとえばジメチルスルホキロ サイＶまたはジメチルホルムアミド中、０から１００°
Ｇまでの間の温度、好ましくは２ｏから５０°０までの
間の温度で、あるいは二層系たとえばメチレンクロライ
ド／水中、層転移触媒たとえばベンジルートリゾチル−
アンモニウムクロライドの存在において、０から１００
℃までの間の温度、好塘しくは２０から５０℃までの間
の温度において、便宜に行われる。

ｆ）　Ｗがシアノメチル、２−シアノ−エチル漬たは２
−シアノ−エチニル基を示す一般式■の化合物全製造す
るためにはニ 一般式（ＩｉＯ 〔式中、 ＲｏがらＲ４４’では、上記に限定した如くであり、そ
して、 Ｇは、メチレン、エチレンまたはエチニル基金示す〕の
化合物の脱水。

脱水は、水−開裂剤たとえば五酸化リン、オキシ塩化リ
ン、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素またはｐ−）
ルエンスルホン酸クロライドで、随意に溶媒たとえばメ
チレンクロライド、アセトニトリルまたはピリジン中、
０から１００℃′までの間の温度、好ましくは２ｏから
８０’Ｏまでの間の温度で行われる。

ｇ）Ｗが２−シアノ−エチニル、２−カルボキシ−エチ
ニルまたは２−アルコキシカルボニル−エチニル基金示
す一般式１の化合物を製造するためにはニ 一般式（Ｘ） 〔式中、 Ｒ□からＲ４までは、上記に限定した如くである］の化
合物を、一般式（Ｘｉ） Ｚ−ＯＨ，−Ｑ　　　　　　　　　（Ｘｉ）〔式中、 Ｑは、カルボキシ、アルコキシカルボニル捷たはシアノ
基を示ｌ〜、そ１７て、 ｚ　Ｉｄ　、水素原子、アルコキシカルボニル、ジアル
キルホスホノまたはトリフェニルホスホニウムハライド
基を示す〕の対応酢酸誘導体と反応させ、随意に引続い
て加水分解および（または）脱カルボキシル化する。

反応は、溶媒たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、１．２−ジメトキシエタン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミド、トルエンマタはぎリジン中、縮合剤
としての塩基たとえば炭酸ナトリウム、ナトリウムヒド
リド、カリウムｔｅｒｔ。

ブトキサイドまたはピペリジンの存在において、０から
１００°Ｃまでの間の温度、好ましくは２０から８０℃
までの間の温度で、便宜に行われる。

引続く加水分解および（′！たは）脱カルボキシル化は
、酸たとえば塩酸、硫酸、リン酸またはトリクロロ酢酸
の存在において、あるいは塩基たとえば水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムの存在においてのいずれかで、
適当な溶媒たとえば水、水／メタノール、エタノール、
水／エタノール、水／イソゾロパノールまたは水／ジオ
キサン中、−１０℃から１２０℃までの間の温度、たと
えば室温から反応混合物の沸騰温度までの間の湿度で、
便宜に行われる。

ｈ）ｗが２−カルボキシ−エチル、２−アルコキシカル
ボニル−エチルまたは２−シアノ−エチル基金示す一般
式Ｉの化合物′？を製造するためにはニ一般式（Ｘ［［
） 〔式中、 ＲｏからＲ４までは、上記に限定した如くであシ、そし
て、 Ｗ“は、２−カルボキシ−エチニル、２−アルコキシカ
ルボニル−エチニルまたは２−シアノ−エチニル基會示
す］の化合物の還元。

還元は、適当な溶媒たとえばメタノール、エタノール、
インプロパツール、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド、ペン・ビンまたは
ベンゼン／エタノール中、適当な水素化触媒たとえばパ
ラジウム／炭素、ラネーニッケルまタハトリスー〔トリ
フェニルホスフィン〕−ロジウム＋１）クロライドの存
在において、水素で、Ｄから１００℃までの間の温度、
しかし好ましくは２０℃から５０°Ｇまでの間の温度に
おいて、１から５バールまでの水素圧下に、あるいは、
もしもＷ“がシアノ基金含有するならば、発生機の水素
、たとえばマグネシウム／メタノール、または銅ヒドリ
ド複合体たとえば臭化銅、ナトリウムビス（２−メトキ
シエトキシ）−アルミニウムヒドリドおよび８θＣ，ブ
タノールから製造される複合体で、−７８から５０°Ｏ
’Ｅでの間の温度において、好適に行われる。他の基が
同時に還元されえ、たとえばベンジルオキシ基はヒドロ
キシ基に還元されえ、アルケニルまたけアルキニル基は
対応のアルキル基に還元されえ、あるいけホルミル基は
ヒドロキシメチル基に還元されえ、あるいはそれらは水
素原子により置換されえ、たとえばハロゲン原子は水素
原子により置換されうる。

１）Ｒ３がアルコキシまたはアルカノイルオキシ基によ
り置換された炭素原子１または２個のアルキル基金示す
一般式Ｉの化合物を製造するためには、一般式（ＸＩ） 〔式中、 Ｒ１、Ｒ２、町およびＷは、上記に限定した如くであり
、そして、 Ｕ　３／は、ヒドロキシ基により置換された炭素原子１
または２個のアルキル基金示す〕の化合物を、一般式（
ＸＩ’Ｖ） Ｕ−Ｒ，（ＸＩＶ） 〔式中、 Ｒ７は、炭素原子１から６細筒でのアルキル基、あるい
はアセチルまたはプロピオニル基金示し、そして、 Ｕは、親核的に置換しうる基たとえば−・ロデン原子、
スルホニルオキシ基、アセトキシまたはゾロピオニルオ
キシ基を示し、あるいはもしもＲ）が炭素原子１から６
個１でのアルキル基金示すならば、１′Ｉ４接する水素
原子と一緒でジアゾ基を示す〕の化合物と反応させ、随
意に引続き加水分解する。

反応は、対応のノ・ライド、無水物、スルホン酸エステ
ル、硫酸ジエステルまたはジアゾアルカン、たとえばヨ
ウ化メチル、ジメチル硫酸、ヨウ化エチル、ジエチル硫
酸、ヨウ化ｎ−プロピル、臭化イソゾロビル、アセチル
クロライド、無水酢酸、ゾロピオン醪クロライド、無水
ノロピオン酸、ｐ−トルエンスルホン酸エチルまたはメ
タンスルホン酸イソゾロビルで、随意に塩基たとえばナ
トリウムヒドリド、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、
カリウムｔθｒｔ、ブトキサイドまたはトリエチルアミ
ンの存在において、あるいはジアゾメタンで、随意にル
イス酸たとえば三フフ化ホウ素の存在において、好まし
くは適当な溶媒たとえばアセトン、ジエチルエーテル、
テトラヒげロフラン、ジオキサン、ピリジン筐たはジメ
チルホルムアミド中、０から１００℃までの間の温度、
好ましくは２０から５０℃までの間の温度において便宜
に行わ枢そのアシル化剤として使用する熱水物は同時に
また溶媒として使用されうる。

もしも一般式ＸＩの化合物において、Ｗがカルボキシ、
カルボキシメチル、２−カルボキシ−エチルまたは２−
カルボキシ−エチニル基會示し、および（または）Ｒ４
が水素原子會示すならば、これは同時に対応のエステル
および（または）エーテル化合物に変換されうる。

ｋ）　Ｒ３がアルコキシカルボニル基金示す一般式Ｉの
化合物を製造するためには二 一般式（ＸＶ） 〔式中、 Ｒｏ、Ｒ２、Ｒ４およびＷは、上記に限定した如くであ
り、そして、 Ｒ８は、水素原子またはアルカリ金属原子を示す］の化
合物またはそれらの反応性誘導体全１一般式％式％（） 〔式中、 Ｒ９は、炭素原子１から４個までのアルキル基金示し、
そして、 Ｔは、ヒドロキシ基、または親核的に交換しうる基たと
えばへロデン原子またはスルホニルオキシ基、あるいは
基Ｒ９の隣接する水素原子と一緒でジアゾ基を示す］の
化合物と反応させ、もしもＷがベンジルオキシカルざニ
ル基を含有するならば、随意に引続いて水素分解する。

一般式Ｘｖの化合物の反応性誘導体の例は、それらのイ
ミダゾリドである。

反応は、溶媒として対応のアルコール中、あるいは適当
な溶媒たとえばメチレンクロライド、クロロホルム、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、ベンゼンまたはトルエン中、随意に酸−活
性化剤または脱水剤たとえば塩化水素、硫酸、クロロヤ
酸エチル、チオニルクロライド、四塩化倹素／トリフェ
ニルホスフィン、カルボニルジイミダゾールまたはＮ。

Ｎ′−ジシクロへキシルカルボジイミドまたはそのイソ
尿素エーテルの存在において、随意に反応促進剤たとえ
ば塩化銅の存在において、そして随意に無機塩基たとえ
に炭酸カリウム、あるいは第三級有機塩基たとえばトリ
エチルアミン、１．８−ジアゾビシクロ［５，４，０］
ウンデセ−７−エンまたはピリジンの存在において、あ
るいは、たとえは対応の炭酸ジエステルでのエステル交
換により、−２０℃から１００°Ｃまでの間の温度、し
かし好ましくは一１０℃から使用した溶媒の沸騰温度ま
での間の温度において、便宜に行われる。

随意の引続く水素分解は、適当な溶媒たとえばメタノー
ル、エタノール、エタノール／水、氷酢酸、酢酸エチル
、ジオキサン筐たはジメチルホルムアきド中、水素化触
媒たとえばパラジウム／炭素の存在において行われる。

もしも一般式ｘ■の化合物におけるＷがカルボキシ基金
含有するならば、これは役応の間に対応のアルコジカル
ボニル基に変換しうる。

１）Ｒ４が、水素原子、または炭素原子１カ）ら６個ま
でのアルキル基を示し、 Ｒ３が、水素伸子、炭素原子１から７個までのアルキル
基、随意にハロゲン原子、あるいはメチルまたはメトキ
シ基により置換されていてもよいフェニル基、そのアル
コキシ部分が炭素原子１から６個までを含有しえ、アル
カノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含有しえ
、そしてシクロアルキル部分が炭素６から７個まで全含
有しりるアルコキシ、アルカノイルオキシ、テトラヒド
ロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルま
たはフェニル基により置換された炭素原子１または２個
のアルキル基、炭素原子３から６個までのアルケニル基
、炭素原子６から５個１でのアルキニル基、カルボキシ
ル基、あるいは炭素原子全部で２から５個までのアルコ
キシカルボニル基を示し、そして、 Ｗが、カルボキシメチル、２−カルボキシメチル、アル
コキシカルボニルメチル−ｆ　；／ｃｉｔ：２−アルコ
キシカルボニルエチル基を示し、そのアルコキシ部分が
炭素原子１から４個までを含有しえ、あるいは、 Ｒ３が、そのアルコキシ部分が炭素原子１から６個まで
全含有しえ、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２また
は３個を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原
子６から７個１で全含有しうるアルコキシ、アルカノイ
ルオキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒげロビラニ
ル、シクロアルキルまたはフェニル基により置換された
炭素原子１または２個のアルキル基、炭素原子３から６
個までのアルクニル基、炭素原子３から５個までのアル
キニル基、カルボキシ基、あるいは炭素原子全部で２か
ら５個までのアルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗが、メチル、ホルミル、カルボキシまたはアルコキシ
カルボニル基を示し、そのアルコキシ部分が炭素原子１
から４個゛まで全含有しうる一般式■の化合物を製造す
るためにはニ 一般式（Ｘ■） Ｒ３“ ― 〔式中、 ＲよおよびＲ２は、上記の如く限定され、そして、Ｉ？
３″（もしもＷがカルボキシメチル、２−カルボキシ−
エチル、アルコキシカルボニルメチルまたは２−アルコ
キシカルボニル−エチルＭ　ｋ　示し、そのアルコキシ
部分が炭素原子１から４個までを含有しうるならば）は
、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキル基、随
意に−・ロダ７掠子、あるいはメチルまたはメトキシ基
により置換されていてもよいフェニル基、そのアルコキ
シ部分が炭’１ｉｓｓ子１から３個まで全含有しえ、ア
ルカノイルオキシ部分が炭素り子２または６個全含有し
え、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個ま
でを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキシ、テト
ラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアル
キルまたはフェニル基により置換された炭素原子１また
は２個のアルキル基、炭素原子６から６個１でのアルケ
ニル基、炭素原子３から５個までのアルキニル基、カル
ボキシ基、あるいは炭素原子全部で２から５個までのア
ルコキシカルボニル基を示し、あるいは、 Ｒ８′（もしもＷがメチル、ホルミル、カルボキシまた
はアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキシ部分
が炭素原子１から４個までを含有しうるならば）は、そ
のアルコキシ部分が戻素肺子１から３個までを含有しえ
、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２またけ３個全含
有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子６から７
個までを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキシ、
テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロ
アルキルまたはフェニル基により置換された炭素原子１
または２個のアルキル基、炭素原子３から６飼育でのア
ルケニル基、炭素原子３から５個までのアルキニル基、
カルボキシ基、あるいは炭素原子全部で２から５個まで
のアルコキシカルボニル基金示す〕の化合物を、一般式
（ＸＶＩ）ＯＲ。

〔式中、 Ｒ４は、上記に限定した如くであり、そして、Ｖ“（Ｒ
４“が、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキル
基、随意に〕・ロダン原子、あるいはメチルまたはメト
キシ基によル置換されていてもよいフェニル基、そのア
ルコキシ部分が炭素原子１から６個までを含有しえ、ア
ルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含有し
え、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個ま
でを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキシ、テト
ラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアル
キルまたはフェニル基により置換された炭素原子１また
は２個のアルキル基、炭素原子６か′ら６個までのアル
ケニル基、炭素原子６から５個までのアルキニル基、カ
ルボキシ基、あるいは炭素原子全部で２から５個までの
アルコキシカルボニル基を示すとき）は、カルボキシメ
チル、２−カルボキシ−エチル、アルコキシカルボニル
メチルまたは２−アルコキシカルボニル−エチル基ヲ示
し、そのアルコキシ部分は炭素原子１から４個までを含
有しえ、あるいは、 Ｖ“（もしもＲ３″が、そのアルコキシ部分が炭素原子
１から３個まで全含有しえ、そのアルカノイルオキシ部
分が炭素原子２または６個を含有しえ、そしてシクロア
ルキル部分が炭素原子６から７個まで全含有しうるアル
コキシ、アルカノイルオキシ、テトラヒドロフラニル、
テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニル
基によシ置換された炭素原子１または２個のアルキル基
、炭素原子６から６個までのアルケニル基、炭素原子３
から５個までのアルキニル基、カルボキシ基、あるいは
炭素原子全部で２から５個までのアルコキシカルボニル
基を示すならば）は、メチル−、ホルミル−、カルボキ
シ−またはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコ
キシ部分は炭素原子１から４個までを含有しうる〕の化
合物と反応させる。

反応は、同時に溶媒として役立ちうる強酸、好ましくは
濃硫酸中、０から１５０℃までの間の温度、好ましくは
２０から１００℃までの間の温度で行われる。

もしも一般式潤の化合物においてＲ４がアリル基會示す
ならば、これは反応の間に、あるいは反応の後に水の添
加により開裂される。

ｍ）　Ｒ４が、水素原子、筐たけ炭素原子１から６個ま
でのアルキル基金示し、 Ｒ３が、炭素原子１から７個までのアルキル基、随意に
メチルまたはメトキシ基により置換されていてもよいフ
ェニル基、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３間ま
で全含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子５
から７個までを含有し５るアルコキシ、テトラヒドロフ
ラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまたは
フェニル基によシ置換された炭素原子１または２個のア
ルキル基金示し、そして、 Ｗが、シアノメチル、２−シアノ−エチル、カルボキシ
メチル、２−カルボキシ−エチル、アルコキシルボニル
メチルまたは２−アルコキシカルボニル−エチル基を示
し、そのアルコキシ部分が炭素原子１から４個までを含
有しえ、あるいは、Ｒ３が、そのアルコキシ部分が炭素
原子１から３個までを含有しえ、そしてシクロアルキル
部分が炭素原子５から７個までを含有しうるアルコキシ
、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シク
ロアルキルまたはフェニル基によＶ置換された炭素原子
１または２個のアルキル基金示し、そして、 Ｗが、メチル、ヒドロキシメチル、カルボキシルまたは
アルコキシカルボニル基全示し、そのアルコキシ部分が
炭素原子１から４１ｔＩＡまで全含有しうる一般式Ｉの
化合物を製造するためにはニ一般式（ＸＩＸ） 〔式中、 Ｒ工、Ｒ２およびＲ４は、上記に限定した如くであり、
そして、 Ｄは次式 の基を示し、そのＲ３“′は、ハロゲン原子、あるいは
メチルまたはメトキシ基により随意に置換されていても
よいフェニル基金示し、 ＲＩＯおよびＲ工、は、それらの間の戻素鹿子と一緒で
炭素原子１から７個までのアルキリデン基、そのアルコ
キシ部分が炭素原子１から６個まで全含有しえ、そして
シクロアルキル部分が炭素原子５から７個までを含有し
うるアルコキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロ
ピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基により置換
された炭素原子１または２個のアルキリデン基を示し、
そして、Ｗ／／／／は、シアノメチル、２−シアノ−エ
チル、２−シアノ−エチル、カルボキシメチル、２−カ
ルボキシ−エチル、２−カルがキシ−エチニル、アルコ
キシカルボニルメチル、２−アルコキシカルボニル−エ
チルまたは２−アルコキシカルホニルーエテニル基を示
し、そのアルコキシ部分は炭素原子１から４個１で全含
弔しえ、そしてフェニル基により置換されえ、あるいは
、 ＲＩＯおよびＲ１１は、それらの間の炭素原子と一緒で
、アルコキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピ
ラニル、シクロアルキルまタハフェニル基によジ置換さ
れた炭素原子１または２個のアルキリデン基全示し、そ
のアルコキシ部分は炭素原子１から５個まで全含有しえ
、そしてシクロアルキル部分は炭素原子５から７個を含
有しえ、そして、 Ｗ″′は、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カル
ボキシまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアル
コキシ部分は炭素原子１から４個まで全含有しえ、そ１
−７てフェニル基により置換されうる］の化合物の還元
。

還元は、水素化触媒たとえばパラジウ今／炭素またはラ
ネー−ニッケルの存在において水素で、適当な溶媒たと
えばメタノール、エタノール、イソゾロパノール、酢酸
エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、ベンゼンまたはベンゼン／エタノール中、
０かう１００°Ｃ１での間の温度、好１しくけ２０から
５０℃までの間の温度において、そして１から５バール
の水常圧下に、好適に行われる。適当なキラル水素化触
媒、たとえば金属リガンド錯体、たとえば（（２ＥＩ）
　、　（４日）　−ｌ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル−４−ジフェニルホスフィノ−２−ジフェニルホスフ
イノメチルーピロリジンーロシウムーシクロオクタジエ
ン（１，５）］−バークロレートが使用されるとき、水
素の付加はエナンチオ選択的に生じる。更に、接触水素
化においては、他の基がまた還元されえ、たとえばベン
ジルオキシ基はヒドロキシ基に還元されえ、あるいはホ
ルンル基はヒドロキシメチル基に還元されえ、あるいは
それらは水素原子により置換されえ、たとえはハロゲン
原子は水素原子により置換されうる。

もしも、本発明に従い、Ｒ３が水素原子を除いて上記に
与えた意味を有する一般式Ｉのラセミ化合物が得られる
ならば、この化合物はそれらのジアステレオマー性の付
加物、初会体、塩または誘導体を経て、それらのエナン
チオマーに分割しうる。

引続くラセミ体分割は、カラムまたはＨＰＬクロマドグ
ラフィにより、キラル層中にジアステレオマー性付加物
または複合体全形成させることによって好適に行われる
。

本発明に従い得られる一般式Ｉの化合物は、また、無機
または有機の酸または塩基でそれらの塩に、そして医薬
用のためにそれらの生理的に受容しうる塩に変換しうる
。適当な酸は、たとえば塩酸、臭化水素ば、硫酸、リン
酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、
フマール敞、アスパラギン酸またはグルタミン酸全包含
し、そして適当な塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム、シクロヘキシルアミン、エ
タノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノール
アミン、エチレンジアミン、リジンまたはアルヤニンを
包含する。

出発物質として使用される一般装置からＸＩＸ　’Ｅで
の化合物は、若干の場合文献から公知であり、またはそ
れ自体公知の方法により得られる。

即ち、たとえば一般式層の化合物は、対応のニトリル全
リチウムアルミニウムヒドリドまたは触媒的に活性化さ
れた水素で還元することによシ、対応のニトリルを対応
のグリニヤまたはリチウム化合物と反応させ、引続いて
リチウムアルミニウムヒドリド還元するかまたは加水分
解してケトイミン全形成させ、それを引続いて触媒的に
活性化された水素、機台金属ヒドリドまたは発生期の水
素で還元することにより、対応のフタールイミド化合物
の加水分解またはヒドラジン分解により、対応のケトン
全ギ酸アンモニウムと反応させ引続いて加水分解するか
または、ナトリウムシアノボロヒドリドの存在において
アンモニウム塩と反応させることにより、対応のオキシ
ム全リチウムアルミニウムヒドリド、触媒的に活性化さ
れた水素または発生期の水素で還元することにより、対
応のＮ−ベンジルまたはＮ−１−フェニルエチルシッフ
塩基を、たとえば、エーテルまたはテトラヒドロフラン
中、複合金属ヒげリドで、−７８℃から使用した溶媒の
佛騰温度までの間の温度において還元し、引続いてベン
ジルまたは１−フェニルエチル基ヲ接触水素化によって
開裂することによシ、対応のベンジリデンイミノ−ペン
ジル化合物を、たとえば、リチウム−ジイソゾロビルア
ミドによって−７８から２０℃までの間の温度において
リチウム化し、引続いて対応のノ１０デン化合私たとえ
は対応のブロモアルキル、プロギアルケニルまたはブロ
モアルキニル化合物と反応させ、引続いて加水分解する
ことによシ、対応のアルコールを硫酸中、シアン化カリ
ウムでリッター（Ｒ１ｔｔθｒ）反応させることにより
、対応の化合物のホフマン（ＨＯｆｆｍａａｎ　）、ク
ルチウス（Ｏｕｒｔｉｕｓ矢ロッセン（Ｌｏｓｓｅｎ　
）’ｔたはシュミット（８ｃｈｍｉｄｔ）分解により、
あるいは対応のベンズアルデヒド全対応のグリシン誘導
体に、たとえばエタノール／水中のシアン化ナトリウム
／炭酸アンモニウムを使用して対応のヒダントイン誘導
体に変換し、それ全加水分解し、そしてもしも必要なら
ば引続いてエステル化し、そしてもしも必要ならば引続
き、たとえば、エーテルまたはテトラヒドロフラン中複
合金属ヒドリドで還元することにより得られる。

キラル中心を有するρ）く得られた一般式厘のアミンは
、ラセミ体開裂により、たとえば随意にそれらのアシル
訪導体の形において、光学活性酸とのジアステレオマー
塩全分別結晶化し、引続いて基金分解することにより、
あるいはカラムまたはＨＰＬクロマトグラフィにより、
あるいはジアステレオマー化合物を形成させ、それら全
分離し、引続いてそれらを開裂することにより分割する
ことができる。

艶に、一般式層の光学活性アミンはまた、若干のヒドリ
ド水素原子が光学活性アルコキサイド基によシ置換され
ている徐合ホウ素またはアルミニウムヒドリド金使用す
る対応ケトイミンのエナンチオ選択的還元により、ある
いは適当なキラル水素化触媒の存在において水素により
、あるいは対応のＮ−ベンジルまたはＮ−（１−フェネ
チル）−ケトイミンから、あるいは対応のＮ−アシル−
ケトイミンまたはエンイミンから出発して同様に製造し
え、そして随意に引続きベンジル、１−フェニルエチル
またはアシル基は開裂される。

更に、一般式層の光学活性アミンはまた、ヒドリド水素
の着干が随意に対応のアルコキサイド、フェノキサイド
またはアルキル基により置換されうる機台または非蝮合
ホウ素またはアルミニウムヒドリドを使用し、あるいは
適当な水素化触媒の存在において水素を使用する、窒素
原子がキラル基で置換された対応のケトイミンまたはヒ
ドラゾンのジアステレオ選択的還元により製造しえ、随
ｋに引続いてキラル袖助基が接触水素分解または加水分
解により開裂される。

更に、一般式Ｕの光学粘性アミンはまた、窒素加子がギ
ラル基で置換された対応のアルドイミンへの対応の有機
金属化合物、好筐しくけグリニヤまたはリチウム化合物
のジアステレ万一選択的添加により製造しえ、引続き加
水分解し、そして随意に引続きキラル補助基を接触的水
素分解または加水分解によシ開裂する。

出発物質として使用される一般式■、■、■、■、ｇ、
ｘ、■、ＸＩおよびＸ■の化合物は、対応のアミン全適
当なカルボン酸ｌたはそれらの反応性誘導体と反応させ
ることにより得られ、もしも必要ならば、引続いて使用
した任意の保設基を開裂する。

出発物質として使用される一般式Ｘ■の化合物は、対応
のカルボニル化合物を還元することにょシ、対応のカル
ボニル化合物全対応のグリニヤまたはリチウム試薬と反
応させることにより、あるいは対応のシアノヒドリンの
加水分解またはアルコール分解により得られ、そしても
しも必要ならば引続いてエステル化する。

出発物質として使用される一般式ＸＩＸの化合物は、対
応のケトイミンまたはそれらの有機金属初合体全対応の
カルボン酸またはそれらの反応性誘導体で、随意に互変
異性化でアシル化することにより得らｎる。

上記に既に述べた如く、一般式Ｉの新ｊＭ化合物および
それらの生理的に活性な受答しつる塩は、価値ある薬理
学的性質、即ち中間体代謝に対する効果、しかし特に血
糖低下効果を有する。

たとえば、次の化合物： 五−〔２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ビペリジ
ノーフェニル）−１−ブチル）−アミノカルボニルメチ
ル〕−フェニル〕−アセトニトリル、 Ｂ−〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−フェニル−２−
ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−
フェニル］アセトニトリル、Ｃ−エチル２−エトキシ−
４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリジ
ノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル］−ベンプエ
ート、Ｄ＝２−エトキシ−４−（：Ｎ−（α−シクロヘ
キシルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカ
ルポニルメチル］−安息香酸、Ｅ−エチル２−エトキシ
−４−（Ｎ−（α−エトキシカルボねルー２−ピペリジ
ノベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエー
ト、Ｆ−２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−エトキシカル
ボニル−２−ピペリジノベンジル）−アミノカルボニル
メチル〕−ベンゾエート、Ｇ−ベンジル２−エトキシ−
４−（Ｎ−（α−メトキシカルボニル−２−ピペリジノ
−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエー
ト、 Ｈ−２−二トキシ−４−（：Ｎ−（α−メトキシカルボ
ニル−２−ピペリジノベンジル）−アミノカルボニルメ
チル〕−安息香酸、 ニー２−二トキシ−４−（Ｎ−（α−インゾロボキシカ
ルボニルー２−ピペリジノベンジル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−安息香酸、Ｋ＝２−エトキシ−４−（Ｎ−
（α−シクロゾｉピルメチルー２−ピペリジノベンジル
）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸、 Ｌ−２−エトキシ−４−（Ｎ−（α−（テトラヒドロフ
ラン−２−イル−メチル）−２−ピペリジノ−ベンジル
）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸、 Ｍ−２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ
−フェニル）−５−ブテン−１−イル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−安息香酸、Ｎ−２−エトキシ−４−［：
Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−３−メチル
−６−ゾテノー１−イル）−アミノカルボニルメチル〕
安、け香酸、および ０＝２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ
−フェニル）−３−７”チン−１−イｋ）−アミノカル
ボニルメチル］−安息香酸、盆、それらのＩＩＩＩ楯低
下性質につき、次の如く試験した： 補糖低下活性 試験物質の加糖低下活性ｔ１体Ｍ１８０〜２２０ｇの集
団で飼育し、そしで試験開始前２４時間食物なしに保っ
た酸ラットで試験した。試験物質は、試験開始の直前に
１．５％メチルセルロース中に懸濁し、そして食道チュ
ーブにより投与した。

面液検体全、各側において、物質の投与の直前、そして
１．２．３および４時間後に、後眠窩静脈叢から採取し
た。５　Ｑ　ｍｃｉバッチ會０−３５Ｎ過塩素酸０．５
ｄで除蛋白し、そして遠心分離した。上＆液中のグルコ
ース奮、ヘキソキナーゼ法により、分析光度計を使用し
て決定した。統計的評価は、スチューデントを一試験（
ｔｈｅ　５ｔｕｄｅｎｔ’　ｅ　ｔ−ｔｅｓｔ）を使用
し、有倉差限界としてｐ　＝　０．０５で行った。

次表は、対照に対するパーセントにおいて認められた値
を含んでいる： 物質に対するそれらの血楯低下活性についての試験にお
いて、毒性副作用は、１０１ｎ９／ｋｇ経口の投薬にお
いてさえも、何も観察されなかった。

本新規化合物は、実質的に無毒性であり：たとえば、雄
マウス３匹および雌マウス３匹に対する物質りおよびＦ
の５００１１９／ｋｇ経口（１％メチルセルロース中の
懸濁液）の１回投薬後に一動物は１４日間の観察期間内
に１匹も死ななかった。

それらの薬理的見地において、本発明に従い製造される
一般弐Ｉの化合物およびそれらの生理的に受容しうる塩
は、糖尿病の治療に適当である。

この目的のために、それらは、通常のがレン製剤たとえ
ば錠剤、被覆錠剤、カプセル剤、粉末剤または懸濁剤中
に合体しえ、随意に他の活性物質と組合せうる。成人に
おける１回用量は１から５０９まで、好ましくは２．５
から２０Ｍｌ９まで、１日１または２回である。

次の実施例は、本発明を説明することを意図するもので
ある二 例　　１ 〔２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ビ（す２−エ
トキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−フェニル
）−１−ブチル）−アミノカルボニルメチル〕ベンジル
クロライド２　ｇ（４，５ミリモル）の溶液〔２−エト
キシ−４−［ｔＪ−（１−（２−ビにリジノーフェニル
）−１−ブチル）−アミノカルボニルメチル］−ペンシ
ルアルコールから、クロロホルム中のチオニルクロライ
ドで製造〕に、水２−２ｍ１に溶かしたシアン化ナトリ
ウム０．２５５９　（５，２ミリモル）、および層転移
触媒ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド０．０
６９ｇ　（０，２２ミＩＪモル）を加え、そして混合物
を室温で５日間攪拌する。ついで層転移触媒（に０．睨
Ｉを、数粒のヨウ化カリウムおよび水１ｍｌ中のシアン
化ナトリウム０．２ｇと一緒で加え、そして混合物を更
に２４時間攪拌し；ついで同量のそれら６成分を再びｖ
Ｏえ、そして混合物を更に１２時間攪拌する。メチレン
クロライド４０ｍ１加え１そして混合物を水で２回抽出
する。メチレンクロライド層を硫酸ナトリウム／炭酸カ
リウム上で乾燥し、濾過し、そして真空中蒸発により濃
縮する。

蒸発残渣をシリカゾル上のカラムクロマトグラフィ（ト
ルエン／酢酸エチル−５７１）により精製する。

収量：１．５３ｇ（Ｂｉ！論量の７８％）、融点：１１
６〜１１８°Ｃ（メチレンクロライド／エーテル） 元素分析値： 計算値：　Ｃ７４，７９Ｈ８，１４Ｎ　９．６９測定値
：　　７４．８６　　８．１９　　９．４２例　　２ ジメチルスルホキサイド４０ｍ１中のシアン化ナトリウ
ム０．３２　ｇ（６，５ミリモル）に、ジメチルスルホ
キサイド１０ｍ／中の２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−
フェニル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−ベンジルクロライド２．６　ｇ（５，４
５ミリモル）の溶液を、５０〜６０℃で滴下する。混合
物をついで６０°Ｃで５時間攪拌し、水を加え、そして
クロロホルムで抽出する。抽出液を真空中蒸発により濃
縮する。残渣ヲシリカゲル上のクロマトグラフィ（トル
エン／酢酸エチル−＝５／１　）により精製する。

収量：　１．２　ｇ（理論量の４７％）、融点：１４５
〜１４８℃ 元素分析値： 計算１ｉ　：　Ｃ７７，０５Ｈ７，１１Ｎ　８．９９測
定値：　　７６．９２　　７．０５　　８．７８例　　
６ 乾燥塩化水素を、無水エタノール３０ＴＩＬｌ中の〔２
−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ビくリジノーフェ
ニル）−１−ブチル）−アミノカルざニルメチル〕−フ
ェニル〕−アセトニ）ｌＪル１．５ｇ（３ミリモル）の
攪拌しそして沸騰した溶液に３時間導入する。混合物を
ついで真空中で蒸発し、水２５ｔ／を蒸発残渣に和え、
そ１−でこれを５０℃で１５分間攪拌する。混合物を固
体炭酸水素ナトリウムの添加によりｐＨ７に調節し、そ
して酢酸エチルで３回抽出する。合せた有機抽出液を水
と１回振盪し、ついで硫酸ナトリウム／炭酸カリウム上
で乾燥し、濾過し、そして真空中蒸発により濃縮する。

蒸発残渣を、シリカゾル上のカラムクロマトグラフィ（
クロロホルム／酢酸エチル＝９／１）により精製する。

収量：１．０ｇ（理論量の６９％）、 融点：９１〜９３℃（石油エーテル） 元素分析値： 計算値：　Ｃ７２，４７Ｈ８，３９Ｎ　５．８４測定値
：　　７２，７５　　８，６８　　５．７１例　　４ 乾燥塩化水素を、メタノール２０ｍ１中の〔２−エトキ
シ−４−（Ｎ−（α−フェニル−２−ピペリシノーベン
ゾル）−アぐノカルポニルメチル〕−フェニル〕−アセ
トニトリル１．２　、！ｉ’　（２，５７ミリモル）の
攪拌しそして還流した溶液に、４時間導入する。混合物
をついで蒸発により濃縮し、水に加え、そしてクロロホ
ルムで抽出する。抽出液を乾燥し、そして濾過し、そし
て真空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣をシリカデル上
のカラムクロマトグラフィ（トルエン／酢酸エチル−４
／１）により精製する。

収量：、１５４０ｍ９（理論量の２６％）、ＭＬａ：１
３６〜１６８℃（アセトニトリル／水）計算ｆｕｉ　：
分子ビークｍ／ｅ＝５００測定値：分子ピークｍ　／　
ｅ　＝　５００例　　５ １Ｎ水酸化ナトリウム溶液２．８ｍｌを、エタノール１
０＃Ｉ／中のエチル〔２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−
（２−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル−アミノカ
ルボニルメチルツーフェニル）−７セテート０．６７　
！ｉ！　（１，４ミリモル）に加え、そして室温で４時
間攪拌する。ついで、混合物を真空中、５０°Ｃで蒸発
する。水および数滴のメタノールを蒸発残渣に加え、そ
れをついで１Ｎ酢酸でＰＨ６に調節する。それを水中で
冷却し、その際沈澱が形成する。これを濾過し、そして
エタノールから再結晶する。

収量：　０．４７　ｇ（理論量の７４％）、融点：１５
８〜１５９℃（エタノール）元素分析値： 計算１ｌｌＬ：　Ｃ７１，６５Ｈ８，０２Ｎ　６．１９
測定１ｉ］！　：　　７１，５５　　８，３０　　６．
２１例　　６ 例５と同様にして、メチル〔２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−フェニル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノ
カルボニルメチルツーフェニル〕−アセテートのアルカ
リ性ケン化により製造する。

収率：理論量の４５％、 融点＝１４６〜１４８°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７４，０５Ｈ７，０４Ｎ　５．７６測定値
：　　７５．７０　　７．００　　５．８５例　　７ 無水ジオキサン５ａｔ中のエチルジエチル−ホスホノ−
アセテート１．６８　ｇ（７，５ミリモル）の溶液を、
無水ジオキサン４　ｍｌ中の５５％ナトリウムヒドリド
（油中）　０．３２７　ｇ（７，５ミリモル）の＠濁液
に、激しく攪拌しつつゆっくり滴下する。

反応が終了した後、混合物を８０℃で更に４５分間如熱
する。それをついで室温に冷却し、無水ジオキサン４　
ｍｌ中の２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ピにリ
ジノーフェニル）−１−ブチル）−アミノカルボニルメ
チル〕−ベンズアルデヒＰ〔対応のベンジルアルコール
から、クロロホルム中、ピリジニウムクロロクロメート
での酸化により製造）　２．１１　ｇ　（５ミＩＪモル
）の溶液をそれに滴下し、そして混合物を５０°Ｃで２
時間加熱する。

反応混合物を氷／水中に注入し、そしてクロロホルムで
抽出する。有機抽出液を乾燥し、そして濾過し、そして
真空中で蒸発する。蒸発残渣全シリカゾル上のカラムク
ロマトグラフィ（クロロホルム／酢酸エチル−１９／１
　）により精製する。

収量：１．６４ｇ（理論量の６６．７％）、融点：１６
０〜１３１℃（エーテル） 元素分析値： 計算ＩＩＩ！　：　Ｃ７３，１４Ｈ８，１８Ｎ　５．６
９測定１ｉｉ　：　　　７５．５６　　８．３４　　５
．７５例　　８ 例７と同様にして、２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（
２−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノカ
ル・１ぐニルメチル］−ベンズアルデヒケトゾエチルホ
スホノーアセトニトリルから製造する。

収率：埋−量の６１％、 融点１２５〜１２８℃（石油エーテル）元素分析値： 計算埴：　Ｃ７５，４７Ｈ７，９２Ｎ　９．４３測定匝
：　　７５．４０　　７，９５　　９．２４例　　９ −２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチ
ルＪ−シンナメート 窒素雰囲気下に、５０％ナトリウムヒドリド０．１９　
ｇ（８ミリモル）を、無水１，２−ジメトキシ−エタン
１０ｄ中のエチルジエチルホスホノ−アセテート１．８
　ｇ（８ミリモル）の攪拌した溶液に加える。ついで、
無水１，２−ジメトキシエタン１５ηｌｌ中の２−エト
キシ−４−［Ｎ−（α−フェニル−２−ビ（リジノーペ
ンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンでアルデヒ
Ｆ　２　ｇ（４，４ミリモル）の溶液′ｆｆ１ｘＩえ、
そして混合物を室温で５０分間撹拌する。それケ貞空中
蒸発により濃縮し、そして蒸発残浩會水とクロロホルム
との間に分配する。クロロホルム抽出液を乾燥し、そし
て濾過し、そして真空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣
を、シリカデル上のカラムクロマトグラフィ（トルエン
／酢酸エチル−５／１）により精製する。

収量：０．３７．！９（Ｌｍ陶量の１７％）、融点＝１
１１〜１１３℃（シクロヘキサン）元素分析値： 計算１直　：　　Ｃ７５，２６Ｈ７，２７Ｎ　　５．３
２測定直：　　７５．１４　　７，３２　　５．２５エ
タノール１０ｍ１中のエチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（１−（２−ビ（リジノーフェニル）−１−ブチル）−
アミノカルボニルメチル〕−シンナメート０．４９　！
ｉ＋　（１ミリモル）の溶液を、１Ｎ水酸化ナトリウム
溶液２　ｍｌと一緒に、室温で６日間攪拌する。混合物
をついで真空中蒸発により濃縮し、水および数滴のメタ
ノールを蒸発残渣に加え、ついでこれを１Ｎ酢酸でＰＨ
６に調節する。沈澱を濾過し、乾燥し、そして酢酸エチ
ルから再結晶する。

収量：０．３７．９（浬−縫の７９．７％）、融点：１
７５〜１７７１Ｃ（分解） 元素分析値： 計算１直　：　　Ｃ７２，３９Ｈ７，８１Ｎ　　６．０
３ｉ１１＋１定１直　：　　　　７２．５０　　　　７
．８８　　　　６．０６例１１ エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−フェニル−２−
ピペリジノ−ベンゾル）−アミノカルボニルメチル〕−
シンナメート３３０１ｎ９（０，６２ξリモル）をエタ
ノール１０ｍ／に溶かし、そして４Ｎ７ｊＣ酸化ナトリ
ウム竹液４　ｒｎｌの添加の後、５０’０で３時間攪拌
する。ついで混合物を４Ｎ塩ｒＩＩ４　ｙｎｌで中和し
、水で希釈し、そして沈ａを濾過する。

それをついで水性エタノールから再結晶する。

収量：２１０Ｉｎ９（理論量の６７％）、融点：１８１
℃ 元素分析値： 計算１直　：　　ｃ　　７４．６７　　　Ｈ６，８７Ｎ
　　５．６２測定値Ｉ　　７４．７２　　６，７６　　
５．４２例１２ オネート エタノール１５ｍＪ中のエチル２−エトキシ−４−（Ｎ
−（１−（２−ピ（リジノーフェニル）−１−ブチル）
−アミノカルノ１クニルメチル〕−シンナメート０．５
４　ｇ（１，１ミリモル）の溶液を、１０％パラジウム
／炭０．１ｇ上、室温において、そして３パールの水素
下に１時間水素化する。混合物を濾過し、真空中蒸発に
より濃縮し、そして蒸発残渣を石油エーテルから結晶化
する。

収着：０．３０ｇ（理論量の５５％）、融点＝７１〜７
３°Ｃ 元素分析値： 計算１直　：　　Ｃ７２，８４Ｈ８，５６Ｎ′　５．６
６測定ｉ＋ｉ！　：　　７３．１９　　８．５４　　５
．７０例１６ 例１２と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−
（α−フェニル−２−ピ（リジノーベンゾル）−アミノ
カルボニルメチルクーシンナメートの接触水素化により
製造し、そして引続くシリカデル上のカラムクロマトグ
ラフィ（シクロヘキサン／酢酸エチル／メタノール＝６
／１１０．５）により精製する。

収率：理論量の４８％− 融点＝１６０°Ｃ（エタノール／水） 元素分析値： 計算値：　ｃ　７４．９７　　Ｈ７，６３Ｎ　５．３０
測足値：　　　７４．６５　　７．６１　　５．１５例
１４ ルポニルメチル〕−フェニル〕−ソロピオン酸例１２と
同様にして、２−エトキシ−４−〔Ｎ−（１−（２−ピ
ペリジノ−フェニル）−１−ゾチル〕−アミノカルボニ
ルメチル〕−ケイ皮酸の接触水素化により製造する。

収率：埋−量の４１％− 融点：１１２〜１１４℃ 元素分析値： 計算１直　：　　Ｃ７２，０７Ｈ８，２１Ｎ　　６．０
０測定値：　　７２．３０　　８，４２　　６．１９例
１５ ４二 例１２と同様にして、２−エトキシ−４−〔Ｎ−（１−
（２−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノ
カルス１ζニルメチル〕−ケイ皮酸ニトリルの接触水素
化により製造する。

収率：理論量の３４％、 融点：１０２〜１０３℃（石油エーテル）計算値：分子
ピークｍ／ｅ＝４４７ 測定値二分子ピークｍ／ｅ＝４４７ 例１６ 例５と同様にして、エチル３−〔２−エトキシ−４−［
Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル
〕−アミノカルボニルメチル〕−フ工立ル〕−プロピオ
ネートのアルカリケン化により製造し、そして引続きカ
ラムクロマトグラフィ（クロロホルム／メタノール＝９
／１　）により精製する。

収率：理論量の８０％、 融点：１１２〜１１５℃（石油エーテル）元素分析値： 計算値：　ｃ　７２．０７　　Ｈ８，２１Ｎ　６．００
測定値：　　７２．４０　　８．２１　　６．０３例１
７ 例５と同様にして、エチル６−〔２−エトキシ−４−（
Ｎ−（α−フェニル−２−ピペリジノ−ベンジル）−ア
ミノカルボニルメチル〕−ゾロビオネートのアルカリケ
ン化により製造する。

収率：埋＠量の７０％− 融点二７４°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７４，３７Ｈ７，２５Ｎ　５．６０測定値
：　　７４．２９　　７，３１　　５．２７例１８ ル ｍ　温Ｋ　オ＾”Ｃ１ｐ　−）ルエンスルホン１１２４
５．８ｇ（０，２４ミリモル）を、５−〔２−エトキシ
−４−［Ｎ−（１−（２−ピ（リジノーフェニル）−１
−ブチル）−アミノカルがニルメチル］−フェニル〕−
ゾロピオン酸アミド、融点１５５〜１５５”Ｃ（対応の
ノロピオン酸から、刀ルポニルジイミダ・ｌ−ル、つ＾
でテトラヒドロフラン中のアンモニアと反応させること
により製造〕５６’Ｋｌ（０，１２ミリモル）および無
水ピリジン０．０４４ａｔの混合物に７１１１える。混
合物を２０°Ｃで４５分間、そして５０から６０°Ｃま
でで２時間攪拌する。冷却した後、水を引え、混合物を
濃アンモニアでアルカリ性にし、そしてクロロホルムで
６回抽出する。合せたクロロホルム抽出液を水で洗滌し
、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして真空中蒸
発により濃縮する。蒸発残渣を、シリカデル上のカラム
クロマドグラフィ（クロロホルム／酢酸エチル−９／１
）により精製する。

収量：１１ダ（理論針の２０％）＼ 計算値二分子ビークｍ／８＝４４７ 測定頃：分子ピークｍ／ｅ＝４４７ 例１９ アセトニトリル１１１１１Ａ’中のα−シクロヘキシル
メチル−２−ピペリジノ−ベンゾルアミン１．１６ｇ（
５，９６ミリモル）の溶液に、６−ニトキシー４−エト
キシカルボニル−フェニル酢酸１．９　（３，９６ミリ
モル）、トリフェニルホスフィン１．２５　ｇ（４，７
６ミリモル）、トリエチルアミン１．１１Ｆｎ／（７，
９２ミリモル）および四塩化炭素０−５８ｍ１（３，９
６ミリモル）を順次７１０え、そして混合物を室温で１
５時間Ｐｉｔ社する。それをついで真空中蒸発により濃
縮し、そして酢酸エチルと水との間に分配した。有機抽
出液を乾燥し、そして濾過し、そして真空中蒸発により
濃縮する。蒸発残渣を、シリカデル上のカラムクロマド
グラフィ（トルエン／アセトン−１０／１　）により精
製する。

収量：　１．４　、！９　（埋嗣皆の６８％）、ｍ点：
９５〜９７°Ｃ（石油エーテル／シクロヘキサン＝１／
１　） 元素分析１ｉ　： 計算値：　Ｃ７３，８１Ｈ８，５２Ｎ　５．３８測定値
：　　７５．９８　　８．４９　　５．６１例２０ 例１９と同様にして、α−ベンジル−・２−ビくリジノ
ーベンジルアミンおよび６−ニトキシー４−エトキシカ
ルボニル−フェニル酢酸から製造する。

収率：埋−縦の７２％、 融点：１０２〜１０５℃（石油エーテル）元素分析直： 計算１直：　Ｃ７４，６８Ｈ７，４４Ｎ　５．４４測定
値：　　　７４．７５　　７．６８　　５．５９例２１ エタノール１２ｍ１中のエチル２−エトキシ−４−（Ｎ
−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリシノーベン
ゾル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエー）　１
．１５９　（２，２１ミリモル）を、１Ｎ水酸化す）　
ＩＪウム溶液５．Ｓｍｌと一緒に、５０℃で２時間攪拌
する。ついで１Ｎ塩酸３．３ｍ／を加え、そして混合物
を水中で冷却する。形成した沈澱を濾過し、少量の水冷
エタノールで洗滌し、そして真空中１００℃で乾燥する
。

収量：　Ｑ、９　ｇ　（埋−燈の８２％）、融点：１５
３〜１５６°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７３，１４Ｈ８，１８Ｎ　５．６９ｉ＋１
＋１定ｆ直　：　　　　７３．３０　　　　８．１７　
　　　５．６６例２２ ル〕−安息香酸 ｔ＋！１２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−
Ｃｗ−（α−ベンジル−２−ピペリジノ−ベンジル）−
アミノカルｆニル〕−ベンゾエートのアルカリクン化に
より製造する。

収率：埋−置の９０％、 融点＝１００〜１０５°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７４，０５Ｈ７，０４Ｎ　５．７６ｉ１１
１Ｊ定１直　：　　　　７３．７７　　　７．１０　　
　　ｂ、５［］例２３ アセトニトリル１２ｍ１！中の（２−ｅ４リジノーフェ
ニル）−グリシン−エチルエステル−ジ塩酸塩２　、ｌ
ｉ’　（５，９６ミリモル）の混合物に、５−エトキシ
−４−エトキシカルぜニル−フェニル酢酸１．５２ｇ（
５，９６ミリモル）、トリフェニルホスフィン１．７７
　ｇ（６，７５ミリモル）、トリエチルアミン２−４５
　ｍｌ　（１７，９ミリモル）および四塩化炭素０．５
７　ｔｔｒｌ　（５，９６ミリモル）を順次加え、そし
て混合物を室温で１夜攪拌する。それをつｂで真空中蒸
発により濃縮し、そしてクロロホルムと水との間に分配
する。有機抽出液を乾燥し、濾過し、そして真空中蒸発
により接縮する。蒸発残渣を、シリカゾル上のカラムク
ロマトグラフィ（トルエン／アセトン−４／１）により
精製する。

収量：１．２ｇ（埋−量の４１％）、 融点：１００〜１０３℃（エーテル） 元素分析値： 計算値：　Ｃ６７，７２Ｈ７，、ｌＳＩ　　Ｎ　５．６
４測定直：　　６７．８７　　７．４６　　５．６１例
２４ 例２３と同様にして、（２−ビぜリジノーフェニル）−
グリシン−エチルエステル−ジ塩酸塩および５−エトキ
シ−４−ベンジルオキシカルボニル−フェニル酢酸から
製造する。

収率：埋ｌｌ＋Ｉｊｉ骨の３０％、 融点：９０〜９３℃ 計算直：分子ビークｍ／ｅ＝５５８ 測定値二分子ビークｒｎ　／　ｅ　＝　５５８例２５ 例２３と同様にして、（２−ビ（リジノーフェニル）−
グリシン−メチルエステル−ジ塩酸塩および３−エトキ
シ−４−ベンジルオキシカルボニル−フェニル酢酸から
製造する。

収率二埋鍮量の４０％、 融点：１００〜１０２°Ｃ（エーテル）元素分析値： 計算値：　Ｃ７０，５７Ｈ６，６６Ｎ　５．１４測定１
直　：　　　　７０．４６　　　　６．６７　　　　５
．１４例２６ Ｎ２５と同様にして、（２−ピ（リジノーフェニル）−
／”Ｉ）シンーｎ−ｆｏビルエステルーシ塩酸塩および
３−エトキシ−４−ベンジルオキシカル♂ニルーフェニ
ル酢酸から製造する。

収率：理論量の６５％、 融点：１００〜１０２℃（石油エーテル）元素分析ａ［
： 計算ｆ［：　ｃ　７１．３１　　Ｈ７，０４Ｎ　４．８
９測定値：　　　７１．６２　　７．０１　　４．９７
例２７ 例２３と同様にして、（２−ピ（リジノーフ工ニル）−
グリシン−イソゾロビルエステル−ジ塩酸塩および５−
エトキシ−４−ベンジルオキシカルボニル−フェニル酢
酸から製造する。

収率：理−量の５２％、 融点：　８５〜８８℃（アセトン／石油エーテル）元素
分析値： 計算値：　Ｃ７１，３１Ｈ７，０４Ｎ　４．８９測定箇
：　　７１．６４　　７．１０　　４．７７汐１１２８ 例２５と同様にして、（２−ビベリジノーフ工二ル）−
グリシンーエチルエステルージ［１１ｍおよび４−エト
キシカルボニル−３−ヒトａキシ−フェニル酢酸から製
造される。

収率二連−計の５５％、 融点＝１０７〜１１０℃（石油エーテル）元素分析値： 計算値：　Ｃ６６，６５Ｈ６，８８Ｎ　５．９８１１ｍ
！Ｉ定１直　＝　　　６６．６０　　　６．８６　　　
６．０３例２９ ３−エトキシ−４−エトキシ力ルポニルーフ工二ル酢酸
２．５２　ｇ（１０ミリモル）およびＮ、Ｗ−カルポニ
ルジイミダジ戸−ル１．６２ｇ（１０ミリモル）ヲ、無
水テトラヒドロフラン１５ｍ１中、７０℃に４５分間引
熱する。無水テトラヒドロフラン７　ｍｌ中の２−ヒド
ロキシ−１−（２−ピペリジノ−フェニル）−１−エチ
ルアミン［（２−１’ペリジノーフエニル）−グリシン
−エチルエステル全、エーテル中、リチウムアルミニウ
ムヒｌ’　Ｉ７１で還元することにより製造］　２．０
７９　（９，４ミリモル）の溶液金それに７１１え、そ
して混合物を１時間＠流する。１夜放置した後、それを
酢酸エチル５０１ｎ／’″Ｃ希釈し、そして水５０ｍ１
と２回振盪する。有機層を乾燥（７、そして濾過し、そ
して真空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣を、シリカゾ
ル１２　′５ 上のカラムクロマトグラフィ（クロロホルム抽出液点：
１２７〜１２８°Ｃ（アセトン）元素分析値： 計算値：　Ｃ６Ｂ、７Ｄ　　Ｈ７，５４Ｎ　６．１６測
定１ｉ　：　　６８．８０　　７．５８　　６．１５例
３０ 例２９と同様にして、６−ニトキシー４−ベンジルオキ
シカルボニル−フェニル酢酸および２−ヒドロキシ−１
−（２−ビにリジノーフェニル）−１−エチルアミンか
ら製造スる。

収率：理−量の５２％・ 融点二８９〜９１°Ｃ（アセトン／エーテル）元素分析
値： 計算値：　Ｃ７２，０７Ｈ７，０２Ｎ　５．４２測定値
：　　７２．１０　　７，１５　　５．２９例５１ エタノール５ｍｌ中の２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−
エトキシカルボニル−２−ビ（リジノーペンシル）−ア
ミノカルぜニルメチル〕−ベンゾニー　）　０．４５　
ｇ（０，９ミリモル）を、１Ｎ水酸化ナトリウム溶液２
．７ｍｌと一緒に、５０℃で２時間攪拌する。ついで、
１Ｎ塩酸２．７ｍｌを如え、そして混合物を真空中蒸発
により濃縮する。蒸発残渣を水とクロロホルムとの間に
分配する。介せたクロロホルム抽出液を水と１回振盪し
、ついで有機層を乾燥し、濾過し、そして真空中で蒸発
する。蒸発残渣をエーテルで結晶化する。

収鍛：　０．２７　＆　（埋１量の６９％）、融点＝２
２２〜２２５℃（分解） 元素分析値： 計算＋１　：　Ｃ’　６５．４４　　Ｈ６，４１Ｎ　６
．５６測足埴：　　６５．５８　　６．５９　　６．２
８例３２ ドロキシ−′ゲは香酸 例５１と同様にして・　エチル４−（Ｎ−（α−エトキ
シカルぜニル−２−ビ（リジノーペンジル）−アミノカ
ルがニルメチル〕−２−ヒドロキシ−ベンゾエートのア
ルカリケン化により製造する。

収率：ＨＩＡ６ｍｂｋの８２％、 一点：２２０〜２２８°Ｃ 元素分析匝： 計算値：　ｃ　６４．０７　　Ｈ５，８７Ｎ　６．７９
測定直：　　　６３．８４　　５．９５　　７．１３例
３６ ニルメチル〕−安昧香酸 例６１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−ヒドロキシメチル−２−ビ々リジノーベンジル）
−アミノカルぜニルメチル〕−ベンゾエートのアルカリ
ケン化により製造し、そしてシリカデル上のカラムクロ
マトグラフィ（クロロホルム／エタノール＝９５１５）
により精製する。

収率：埋−量の６６％、 融点二８０〜８１°Ｃ（分解、７５°Ｃから湿潤）計算
＋１［：分子ピークｍ／ｅ＝４２６測定埴二分子ピーク
ｍ　／　ｅ　＝　４２６例３４ ルメチル〕−ベンプエート エタノール５ｍ／中のエチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−エトキシカルボニル−２−ピペリジノ−ベンジル
）−アミノカルゼニルメチル〕−ベンゾエート０．４５
　ｇ（０，９ミリモル）を、１Ｎ水酸化す）　ＩＪウム
溶＠　０．９０　ｍｌと一緒に、室温で４時間攪拌する
。ついで、１Ｎ塩酸０．９０ｍ１を加え、そして混合物
音真空中で蒸発する。残渣を水とり００ホルムとの間に
分配し、クロロホルム溶液ヲ乾燥し、そして濾過し、そ
して真空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣を、シリカデ
ル上のカラムクロマトグラフィ（クロロホルム／エタノ
ール＝５／１）により精製する。

収着：　０．２３　ｇ（理論量の５４％）、融点：１７
７〜１８０°Ｃ（エーテル）元素分析１１Ｉ！＝ 計算ｆｉｌＴ　：　Ｃ６６，６５Ｈ６，８８Ｎ　５．９
８１ｇ！Ｉ　定＋＋［；　　　６６．６５　　　　７．
１１　　　　５．７９例５５ 例３４と同様にして、エチル４−（Ｎ−（α−エトキシ
カルボニル−２−ピにリジノーペンシル）−アミノカル
ボニルメチル］−２−ヒドロキシ−ベンゾエートのアル
カリケン化により製造する。

収率二理論歓の５８％、 融点：１５６〜１５９°Ｃ（エーテル）元素分析１直： 計算値：　Ｃ６５，４４Ｈ６，４１Ｎ　６．５６測定直
：　　６５．６６６．３８　　６．３３例３６ 例６４と同様にして、ジオキサン中のベンジル２−エト
キシ−４−［Ｎ−（α−メトキシカルぜニル−２−ぎく
りシノーベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ペン
ー戸エートのアルカリケン化により製造する。

収率：埋−量の４８％、 融点：１４０〜１４２℃ 元素分析直： 計算値：　ｃ　７０．１７　　Ｈ６，４６Ｎ　５．２８
棋１１定（直　：　　　　７０．２１　　　　６．５０
　　　　５．３１例３７ カルボニルメチル〕−ベンゾエート 無水クロロホルム３　ｍｌ　中のエチル２−エトキシ−
４−［Ｎ−（α−ヒドロキシメチル−２−ビ（リジノー
ペンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエー）
　０．２２７　ｇ（０，５ミリモル）および無水トリエ
チルアミン０−１２６　ｍｌ　（０，９ミリモル）の溶
液に、無水クロロホルム１　ｍｌ中のアセチルクロライ
ド０．０６５　ｍｌ　（０，９ミリモル）の溶液を滴下
する。室温で４日間の攪拌の後に、混合物をクロロホル
ムで希釈し、希車員酸ナトリウム水晦液で洗滌し、クロ
ロホルムｍ液を乾燥し、そして濾過し、そして真空中で
蒸発した。蒸発残渣を、シリカゾル上のカラムクロマト
グラフィ（クロロホルム／アセトン−４／１）により精
製する。

収液：０・１７ｇ（埋１量の６８％）、融点：１０７〜
１０９’ｃ（エーテル／石油エーテル） 元素分析値： ｉｔｓ：ｆ直　二　Ｃ６７，７２Ｈ７，３１Ｎ　　５．
６４測定直：　　　６７．７０　　　７．４８　　　５
．７４飼３８ ベンジル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−アセトキシメ
チル−２−ビ架すジノーベンジル）−アミ例６７と同様
にして、ベンシル２−エトキシ−４−（Ｎ−（α−ヒド
ロキシメチル−２−ビ・ぐリジノーベンジル）−アミノ
カルボニルメチル〕−ペンゾエ〜トとアトチルう日ライ
ＩＦから製造する。

収率：埋寵量の９５％、 計算値二分子ピークｍ／ｅ−＝５５８ 測定値：分子ビークｍ／８＝５５８ 例３９ 例３７と同様にして、ペンシル２−エトキシ−４−（Ｎ
−（α−ヒトミキシメチル−２−ピペリジノ−ベンジル
）−アミノカルぜニルメチル］−ベンゾエートとゾロピ
オニルクロライドから製造する。

収率：ｔｈ！！！−量の８５％、 一点：７３〜７４℃ 元素分析値： １ｘｌｉ　　：　　ｃ　　７１．３１　　　Ｈ７，１１
４Ｎ　　４．８９副定１直　：　　　　７１．２０　　
　７．１０　　　　４．（５１例４０ エタノール１．４ｍＡ！中のベンジル２−エトキシ−４
−［Ｎ−（α−エトキシカルぜニル−２−ピ（リシノー
ペンジル）−アミノカルボニルメチル］−ベンゾニー）
　０．１４０　ｇ（０，２５ミリモル）の溶液を、１０
％パラジウム／炭素０．０５１で、５バールの水素下、
５０℃において４．５時間水素化する。混合物を濾過し
、真空中で蒸発し、そして蒸発残渣をシリカゾル上のカ
ラムクロマトグラフィ（クロロホルム／メタノール＝１
０／１　）により精製する。

収量！　０．０４１　ｇ（哩鍮鎗の３５％）、融点＝１
１５〜１１８’Ｏ（石油エーテル）計算直：分子ビーク
ｍ／θ＝４６８ 測定１直：分子ビークｍ／ｅ＝４６８ 例４１ 例４０と同様にして、メタノール中のベンジル２−エト
キシ−４−［Ｎ−（α−メトキシカルボニル−２−ピく
リジノーベンジル）−アミノカルボニルメチル］−ベン
ゾエートの接触水素化により製造する。

収率：　＠ｍ址の６９％、 融点：１４７〜１５０℃（分解）（エーテル）元素分析
値： 計算１１１　：　Ｃ６６，０６Ｈ６，６５Ｎ　６．１６
屓り定１直　：　　　　６６．２８　　　　６，５６　
　　　５．９０例４２ 例４０と同様にして、ｎ−プロパツール中のペンシル２
−エトキシ−４−［Ｎ−（α−ｎ−ゾロボキシカルボニ
ルー２−ビ（リジノーペンシル）−アミノカルボニルメ
チル〕−ベンゾエートの接触水素化により製造する。

収率二連−量の７４％、 融点：１２２〜１２５１Ｃ（エーテル／石油エーテル＝
１／１　） 元素分析１直二 計算１直　：　　Ｃ６７，２０Ｈ７，１０Ｎ　　５．８
０測定暗：　　６７．３９　　７．２４　　５．７８例
４６ 例４０と同様にして、インゾロパノール中のベンジル２
−エトキシ−４−（ｔＪ−（α−インゾロボキシカルボ
ニルー２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニル
メチル〕−ベンゾエートの接触水素化により製造する。

収率：理−量の７２％、 融点：１４９〜１５１℃（アセトン／石油エーテル） 元素分析値： 計算直：　Ｃ６７，２０Ｈ７，１０Ｎ　５．８１１ｄ曙
り定１直　二　　　６７．５０　　　　６．９９　　　
　５．７８例４４ 例４０と同様にして、エタノール中のベンジル２−エト
キシ−４−［Ｎ−（α−アセトキシメチル−２−ビにリ
ジノーベンジル）−アミノカルヴニルメチル〕−ベンゾ
エートの接触水素化により製造する。

収率：浬−址の４２％、 計算Ｉ［：分子ピークｍ／ｆｌｌ＝４６８測定値二分子
ピークｍ／θ＝４６８ 例４５ 例４０と同様にして、エタノール中のベンジル２−−１
−）−＋シー４−（Ｎ−（α−プロピオニルオキシメチ
ル−２−ビ（リジノーベンジル）−アミノカルボニルメ
チル］−ベンゾエートの接触水素化により製造する。

収率：理論量の５３％、 融点：６４〜６７℃（エタノール／水）計算［直：分子
ピークｍ　／　ｅ　＝　４８２則定唾：分子ピークｍ／
ｆｌ＝４８２ 例４６ １．２−ジクロロエタンｂＩｎｌ中の２−エトキシ−４
−［Ｎ−（α−イソゾロボキシカルがニル−２−ピペリ
ジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−安は香
酸０．２０　ｇ　（０，４１４ミリモ（１）の攪拌した
溶液に、三臭化ホウ素０．０４　ｍｌ　（０，４１４ミ
リモル）を、湿気を排除しつつ一２０℃で加える。混合
物を室温にもっていき、ついで２時間攪拌する。それを
インゾロパノール中に注入（〜、混合物を真空中蒸発に
より濃縮し、水を加え、そして混合物をクロロホルムで
抽出する。有機抽出液を乾燥し、そして濾過し、そして
真空中で蒸発する。蒸発残渣を、シリカデル上のカラム
クロマトグラフィ（クロロホルム／メタノール／　木酢
Ｒ＝５／１１０．０１）により精製する。

収量：　０．１４　ｇ（理論量の７４％）、融点：１９
０〜２００℃（エーテル） 計算直：分子ピークｍ／ｅ＝４５４ 測定値二分子ピークｍ／ｅ−４５４ 例４７ 無水テトラヒドロフラン６．４ｍｌ中のナトリウムヒド
リド（油中５５％）　０．０６１　、！ｉ＋　（１，４
ミリモル）に、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−
ヒドロキシメチル−２−ビ（リジノーベンジル）−アミ
ノカルぜニルメチル〕−ベンゾエート０．６４、ｌｉ’
　（１，４ミリモル）を、室温で攪拌しつつ加える。

混合物を１時間攪拌し、つ＾でヨウ化エチル０．１１３
ｍ１（Ｌ４ミ’）モル）を和え、そして混合物を室温で
更に１６時間攪拌する。ついでエタノール２　ａｔを如
え、そして混合物を真空中で蒸発する。蒸発残渣をクロ
ロホルムと水との間に分配する。有機層を水で２回洗滌
し、乾燥し、濾過し、そして真空中蒸発により濃縮する
。蒸発残渣を、シリカゾル上のカラムクロマトグラフィ
（クロロホルム／アセトン＝１７１５）により精製する
。

収量：０．０５ｇ（理論量の７％）、 融点二８５〜８７°Ｃ（石油エーテル）計算匝二分子ピ
ークｍ　／　ｅ　＝　４８２測定値二分子ピークｍ　／
　ｅ　””　４３２例４８ 例３１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−
（α−エトキシメチル−２−ビ（リジノーペンジル）−
アミノカルぜニルメチル］−ベンゾエートのアルカリケ
ン化により製造する。

収率：理論量の４７％、 計算１ｉｉ　：分子ピークｍ　／　ｅ　＝　４５４測定
値二分子ピークｍ／ｅ＝４５４ 例４９ 例４６と同様にして、２−エトキシ−４−〔Ｎ−（α−
イソゾロポキシカルボニルー２−ビ（リジノーペンジル
）−アミノカルボニルメチル〕−安仏香酸を、メチレン
クロライド中、２．５当計の三臭化ホウ素と反応させる
ことにより製造する。

収率：理論量の７０％、 融点：２２０〜２５０℃（水） 元素分析値： 計算１ｌｌｉ：　ｃ　６４．０７　　Ｈ５，８７Ｎ　６
．７９測定値：　　６４．２１　　５，９９　　６．８
１例５０ ル マグネシウム片０．１１　ｇ（４，５ミリモル）を、メ
タノール１１ｍ１中の２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−
（２−ビにリジノーフェニル）−１−ブチル）−アミノ
カルボニルメチル〕−ケイ皮酸ニド！フル０．０５ｇ（
０，１１ミリモル）に７ｔｏえ、そして混合物を２５°
Ｃで４５分間、そして０℃で１時間攪拌する。それをつ
ｈで０゛Ｃに冷却し、そして１Ｎ塩酸４．５ｍｌ！と混
合する。それを水で布釈し、ケイ礫土上で濾過し、そし
てクロロホルムで抽出する。クロロホルム抽出液を重炭
酸ナトリウム水酸液で洗滌し、乾燥し、そして濾過し、
そして真空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣を、シリカ
ゾル上のカラムクロマトグラフィ（クロロホルム／酢ば
エチル＝９／１　）により精製する。

収量：　０．０１５　、ｌｉ’　（理論量の５０％）、
融点：１０２〜１０４℃（石油エーテル）計算Ｉｆｆ　
：分子ピークｍ　／　ｅ　＝　４４７測定ｉｉ　：分子
ピークｍ　／　ｅ　＝　４４７例５１ アミノカルがニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリ
ル 例１と同様にして、２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（
２−ピペリジノ−フェニル）−３−メチル−１−ブチル
）−アミノカルぜニルメチル〕−ベンジルクロライ１と
シアン化ナトリウムから製造する。

収率：理論量の５８％、 融点＝１６５〜１３６°Ｃ 元素分析値： 計算１［：　Ｃ７５，１３Ｈ８，３３Ｎ　９．３９浜１
１定１直　：　　　　７５．１２　　　８．１８　　　
９．１８例５２ エチル２−エト千シー４−［Ｎ−（α−シクロゾミノカ
ルボニルメチル］−ベンゾエート例１９と同様にして、
α−シクロゾロビルメチル−２−ビ（リゾノーベンジル
アミンおよび６−ニトキシー４−エトキシカルボニル−
フェニル酢酸から製造する。

収率：理論量の２９．５％、 融点二１２６〜１２７°Ｃ 元素分析１１頁： ｉ−１算１直　二　Ｃ７２，７７Ｈ８，０［Ｉ　　　Ｎ
　　５．８５引１ｊ定１直　：　　　　７２．８５　　
　　７．７４　　　　５．８４例５５ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｕ−
（α−シクロゾロビルメチル−２−ピ（リゾノーベンジ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエートのアル
カリケン化により製造する。

収率：理論量の８８％、 融点：１０５〜１０４°Ｃ 元素分析値：　（Ｘｏ、５）１．０　）計算値：　Ｃ７
０，５５Ｈ７，６８Ｎ　６．１０測定ｒｉ　：　　７ｏ
、６７７．６７　　６．３７例５４ 例１９と同様にして、α−シクロブチルメチル−２−ピ
ペリジノ−ベンジルアミンおよび６−メドキシー４−エ
トキシカルボニル−フェニル酢酸から製造する。

収率：理論量の１４％、 融点：１１６〜１１８℃ 元素分析１直： 計算値：　Ｃ７３，１４Ｈ８，１８Ｎ　５．６９測定直
：　　７３．１４　　８，３２　　５．６４例５５ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−シクロブチルメチル−２−ピ（リゾノーペンジル
）−アミノカルｆエルメチル］−ベンゾエートのアルカ
リケン化によりＩｊＡ造する。

収率：理論量の６３％、 融点：１４０〜１４２℃ 元素分析値： 計算１直：　Ｃ７２，３９Ｈ７，８１Ｎ　６．０５６１
１１定１直　：　　　　７２．１５　　　　７．７９　
　　　５．９７例５６ エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロペンチル
メチル−２−ピペリジノ−ペンシル）−ア例１９と同様
にして、α−シクロ（フチルーメチル−２−ビ（リゾノ
ーベンジルアミンおよび３−エトキシ−４−エトキシカ
ルボニル−フェニル酢酸から製造する。

収率：理論量の６６．８％、 融点＝１２０〜１２１℃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７３，４９Ｈ８，５６Ｎ　５．５５測定値
：　　　７ｔ、３１　　８．５５　　５．３９例５７ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（ｉ−
（α−シクロペンチルメチル−２−ピ〈リゾノーベンジ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエートのアル
カリケン化により製造する。

収率：理論量の７５％、 融点二８５〜８８’０ 元素分析値： 計算ＩＩ　：　Ｃ７２，７７Ｈ８，ＯＩ　　Ｎ　５．８
５測定１直　：　　　　７２．５０　　　８．０２　　
　６．０５例５８ ル）−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−例１９
と同様にして、２−ピペリジノ−α−（テトラヒドロフ
ラン−２−イル−メチル）−ベンジルアミンおよび５−
エトキシ−４−エトキシカルボニル−フェニル酢酸から
製造スル。

収率：理論量の６８％、 融点二１１１〜１１５℃ 元素分析値： 計算１［：　Ｃ７０，８４Ｈ７，９３Ｎ　５．５１６川
定１直　：　　　　７０．７６　　　　７．７３　　　
　５．５１例５９ 酸 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（２−ビ（リゾノーα−（テトラヒドロフラン−２−イ
ル−メチル）−ペンシル）−アミノカルぜニルメチル〕
−ベンゾエートのアルカリケン化により製造する。

収率：理論量の７５％、 融点：１２１〜１２３℃ 元素分析値： 計算ｆ直　：　　Ｃ６９，９８Ｈ７，５５Ｎ　　５．Ｆ
３３測定匝：　　６９．９０　　７．７８　　５．７１
例６０ 例１９と同様にして、α−シクロへブチルメチル−ベン
ジルアミンおよび６−ニトキシー４−エトキシカルボニ
ル−フェニル酢酸から製造する。

収率：理論量の４８％〜 融点：９６〜９８℃ 元素分析Ｉ［： 計算ＩＩ　：　ｃ　７４．１２　　Ｈ８，６７Ｎ　５．
２４測定値：　　７４．４０　　　Ｂ、８７　　５．５
９例６１ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−シクロヘプチルメチル−２−ピペリジノ−ベンジ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエートのアル
カリケン化により製造する。

収率：理論量の８５％、 融点：１２７〜１５０℃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７３，４９Ｈ８，３６Ｎ　５．５３測定直
：　　７３．５４　　８，６２　　５．４７例６２ キシルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アａ）エ
チル２−エトキシ−４−（Ｎ−（α−シクロヘキシル−
メチリデン）−２−ビ（リゾノーペンジル）−アミノカ
ルボニルメチル〕−ベンゾエート 例１９と同様にして、α−シクロへキシルメチルー（２
−ピペリジノ−フェニル）−ケトイミンおよび３−エト
キシ−４−エトキシカルボニル−フェニル酢酸から製造
する。

収率：＠論量の２５％、 融点＝８５〜８８　’Ｃ 元素分析［： 計算ＩＩ　：　Ｃ７４，１Ｄ　　Ｈ８，１６Ｎ　５．１
０測定値：　　７４．５７　　８．００　　５．４５８
０　Ｍ　Ｈｚ−１Ｈ−ＮＭＲスぜクトル（ｃＤｃｔ、　
）に従えば、Ｅ／ｚ−１７２の混合物である〔オレフィ
ン性Ｈ：　（ＩＩＣ）　Ｄ　６．２６、（Ｚ）　５．４
２　ｐｐｍ　］。

ｂ）エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−（α−シクロヘキ
シルメチル−２−ビ（リゾノーベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−ベンゾエート例１２と同様にして、２
−エトキシ−４−〔Ｎ−（α−（シクロヘキシル−メチ
リデン）−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−ベンゾエートの接触水素化により製造す
る。

収率：理論量の６１％、 融点＝９５〜９７℃ 元素分析値： 計算値：　ｃ　：Ａ５．８１　　Ｈ８，５２Ｎ　５．３
８測定値：　　７３．９２　　８．７４　　５．２９例
６３ ＆）２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（シクロヘキシル
−メチリデン）−２−ピにリゾノーベンジル）−アミノ
カルぜニルメチル〕−安ハ香酸例２１と同様にして、エ
チル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（シクロヘキシル
−メチリデン）−２−ピペリジノ−ペンジル）−アミノ
カルざニルメチル〕−ベンゾエートのアルカリケン化に
より製造する。

収率：理論量の８７％、 融点：９５〜１００℃ 元素分析値： 計算１直　：　　Ｃ７３，４４Ｈ７，８１Ｎ　　５．７
１測定直：　　７３．３８　　７，７３　　５．７５ｂ
）　　２−エトキシ−４−（Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−ピ（リゾノーベンジル）−アミノカルざニ
ルメチル〕−安り香酸 例１２と同様にして、２−エトキシ−４−〔Ｎ−（α−
（シクロヘキシル−メチリデン）−２−ピにリゾノーベ
ンジル）−アミノカルボニルメチル〕−安は香酸の接触
水素化により製造する。

収率：理論量の５２％− 融点：１５４〜１５６°Ｃ 元素分析唾： 計算ＩＦｉ　：　ｃ　７３．１４　　Ｈ８，１８Ｎ　５
．６９ｒｊＡ＋１定１直　：　　　　７．１５．３１　
　　　８，２５　　　　５．７１例６４ −ｅ　＋７　シノーフェニル）−３−７”テン−１−１
ル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエート例１９
と同様にして、１−（２−ピ波すジノーフェニル）−３
−ブテン−１−イルーアミンオヨび３−エトキシ−４−
エトキシカルボニル−フェニル酢酸から製造する。

収率：理論量の３２．７％、 融点：１１０〜１１２℃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７２，３９Ｈ７，８１Ｎ　６．０３測定値
：　　７２．１０　　７．６６　　５．９４例６５ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（１−（２−どくリゾノーフェニル）−６−ブテン−１
−イル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエートの
アルカリケン化により製造する。

収率：＠輸液の６８％、 融点：９２〜９５℃ 元素分析値： 計算値：　ｃ　７Ｌ５５　　Ｈ７，３９Ｎ　６．４２測
定値：　　７１．２７　　７．４２　　６．４２例６６ シェード 例１９と同様にして、３−メチル−１−（２−ビ（リゾ
ノーフェニル）−３−ブテン−１−イル）−アミンおよ
び６−ニトキシー４−エトキシカルボニル−フェニル酢
酸から製造する。

収率：理論量の３６．６％、 融点：１２６〜１２８℃ 元素分析値： 計算１［：　ｃ　７２．７７　　Ｈ８，００Ｎ　５．８
５測定値：　　７２．８２　　８，２２　　５．７８例
６７ 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−
（１−（２−ビ（リゾノーフェニル）−６−メチル−６
−ブテン−１−イル）−アξノヵルボニルメチル〕−ベ
ンゾエートのアルカリケン化により製造する。

収率：理論量の７４％、 融点＝６４〜６６℃ 元素分析ｌｌＩ！＝ 計算値：　Ｃ７１，９７Ｔ（７，６１Ｎ　６．２２測定
値：　　７１．７０　　７，５２　　５．９８例６８ 例１９と同様にして、６−メチル−１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−２−ブテン−１−イル−アミン〔２５
％の６−メチル−１−（２−ピペリジノ−フェニル）−
１−ブチルアミンを含有する〕および３−エトキシ−４
−エトキシカルボニル−フェニル酢酸から製造する。

収率：＠論量の５７％、 融点：１４１〜１４２℃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７２，７７Ｈ８，００Ｎ　５．８５測定１
１　：　　　７２．６０　　７．７７　　５．７３４０
０　ＭＨｚ−”Ｈ−ｆＪＭＲスペクトｋ　（ＣＤＣ１３
）　Ｉｃ　オいて特定の特徴的シグナルの対応の強度比
率から、７５／２５の混合比率が得られる。シグナルの
ｆ☆。

置は：６−メチルー２−ブテンー１−イル化合物ニオレ
フイン性Ｈ：　５．２５　（ｄ）、ＣＨ３：　１．６４
（ｓ）および１．７７　（Ｓ）、ベンジル性ンＣＨ−６
，００（ｔ）、ベンジル性ＣＨ２−：　３．５２１’）
Ｔ）ｍ　（ｓ）　３−　エチル−１−ブチル化合物：　
ＣＨ３：　０．９０　（ｄ）、ベンジル性＞ｃＨ−５，
３５（ｍ）、ベンジル性−ｃＨ２−：　３．５４ｐｐｍ
（ｓ）。

例６９ 一ピペリジノーフェニル）−５−メチル−１−デ合有す
る〕 例２１と同様にして、例６８の対応のエチルエステル混
合物のアルカリケン化により製造する。

収率：理論量の９１％、 融点：１５４〜１５６°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７１，９７Ｈ７，６１Ｎ　６．２２測定値
：　　７１．８０　　７．５７　　５．９８例７０ 例１９と同様にして、１−（２−ピペリジノーフエ、ニ
ル）−３−ブチン−１−イル−アミンおよび３−エトキ
シ−４−エトキシ力ルポニルーフ工二ル酢酸から製造す
る〇 収率：理論量の５２％、 融点二８６〜９０℃ 元素分析値： 計算１１　：　Ｃ７２，７０Ｈ７，４１Ｎ　６．０６測
定ｆａｌ　：　　７２．６０　　７．４０　　６．ｎ４
例７１ ノーフェニル）−，１５−ブチン−１−イル）−アミ例
２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（ＩＪ−
（１−（２−ピ（リゾノーフェニル）−３−ブチン−１
−イル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエートの
アルカリケン化により製造する。

収率：理論量の６８％、 融点＝６６〜６９℃ 元素分析値： 計算ｆ［：　Ｃ７１，８７Ｈ６，９６Ｎ　６．４５測定
値：　　７１．６０　　６，９５　　６．３８例７２ にリゾノーフェニル’）−４−−！ｌ’ｌテンー１−イ
ル）例１９と同様にして、１−（２−ビ（リゾノーフェ
ニル）−４−ペンテン−１−イル−アミンおよび６−ニ
トキシー４−エトキシカルポニルーフ工二ル酢酸から製
造する。

収率：理論量の５８％、 融点＝１１７〜１２０６Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７２，７７Ｈ８，００Ｎ　５．８ｂ測定値
：　　７２．７３　　７．９７　　６．０７例７６ ノーフェニル）−４−ペンテン−１−イル）−７ミノカ
ルポニルメチル〕−安患香酸 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−
（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−４−ペンテン−
１−イル）−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエート
のアルカリケン化により製造する〇 収率：理論量の６１％、 融点二８２〜８５６Ｃ 元素分析値： 計算値：　ｃ　７１．９７　　Ｈ７，６１Ｎ　６．２２
測定値：　　７１．９７　　７，５９　　５．９８例７
４ 例１９と同様にして、２−ビ（リゾノーα−（テトラヒ
トａピラン−２−イル−メチル）−ベンジルアミンおよ
び６−ニトキシー４−エトキシカルボニル−フェニル酢
酸から製造する。

収率：＠論量の２９％、 融点二８２〜８５″Ｑ 元素分析値： 計算ｆ［：　ｃ　７１．２４　　Ｔ（８，１０Ｎ　５．
５６測定直：　　７１．２８　　７．９６　　５．２９
例７５ 安、は香酸 例２１と同様にして、エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−
（１１２−どくリゾノーα−（テトラヒドロピラン−２
−イル−メチル）−ベンジル）−アミノカルぜニルメチ
ル〕−ベンゾエートのアルカリケン化により製造する。

収率：理論量の８５％、 融点：１４０〜１４２°ｃ（７０℃から湿潤し、１０５
　’Ｏにお込て部分的に軟化する）元素分析Ｉｌ［＝ 計算値：　Ｃ７０，４２Ｈ７，７４Ｎ　５．６６測定値
：　　７０．１５　　７．８８　　５．４ｎ例７６ ２６〜２５℃において、０−ジクロロベンゼン１５ｄ中
のエチル２−エトキシ−４−シアノメチル−ベンゾニー
）　２．３５１　（１０ミリモル）およびα−シクロヘ
キシルメチル−２−ピペリシノーベンジルアルコール２
．８８９　（１０ミリモル）の溶液を、濃硫酸１５１１
ｇおよび０−ジクロロベンゼン１５１の混合物に滴下す
る。混合物を室温で２時間攪拌する。０−ジクロロベン
ゼン層をついで分離し、モして残漬を水中に加える。ソ
ーダ浴液でアルカリ性にした後、それをクロロホルムで
抽出する。抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして
蒸発により濃縮する。残漬をシリカゲル上のカラムクロ
マトグラフィ（トルエン／アセトン＝１０／１　）によ
り精製する。

収量：１．１ｇ（理論量の２１％）、。

融点＝９５〜９７°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７３，８１Ｈ８，５２Ｎ　５．３８測定値
：　　７１９５　　　Ｂ、６４　　５．４２例７７ 炭酸カリウム０．２８．！ｉ’（２ミリモル）を、無水
ジメチルホルムアミドＢＩＲ１中のベンシル２−エトキ
シ−４−［Ｎ−（α−カルボキシ−２−ピペリジノ−ベ
ンジル）−アミノカルボニルメチル〕−ペンゾエー）１
．０６ｇ（２ミリモル）の溶液に加える。混合物を室温
で１０分間攪拌し、ついでヨウ化メチル０．１２５１１
１　（２ミリモル）を加え、そして生成した混合物を室
温で１夜攪拌する。それを濾過し、モして濾液を真空中
蒸発乾固により濃縮する。蒸発残渣を重炭酸ナトリウム
水沼液（ｐ）１＝９）とメチレンクロライドとの間に分
配する。

有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして真
空中蒸発により濃縮する。蒸発残渣を、シリカゾル上の
カラムクロマトグラフィ（トルエン／アセトン＝４／１
　）により精製し、そしてエーテル／石油エーテルから
結晶化する。

収量：　０．５６　、！ｉ’　（理論量の５１％）、融
点：１００〜１０２°Ｃ 元素分析値： 計算値：　Ｃ７０，５７Ｈ６，６６Ｎ　５．１４測定値
：　　７０．６９　　６．７１　　５．２９上記実施例
と同様にして、次の化合物が得られる： 〔２−メトキシ−４−ＣＮ−（１−（２−ピペリジノ−
フェニル）−１−ブチル）−アミノカルボニルメチル〕
−フェニル〕−アセトニトリル〔２−プロポキシ−４−
ＣＮ−（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−フェニル〕−アセト
ニトリル〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（４−フル
オロ−２−ｖペリシノーフェニル）−１−ブチル）−ア
ミノカルボニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（４−メトキシ−２
−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−ｙミノカル
ボニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（３−メチル−２−
ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−ＣＮ　−（１−（４−メチル−２
−ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノカル
ボニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−＜６−メチル−２−
ピペリジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−
フェニル）−６−プテンー１−イル）−アミノカルボニ
ルメチル］−フェニル〕−ア七ト二トリ　ル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリシノー
フェニル）−２−ブテン−１−イル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロプロピルメチ
ル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメ
チル］−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ　−（α−シクロヘキシルメ
チル−２−ピペリジノ−ベンゾル）−アミノカルボニル
メチル〕−フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−
フェニル）−１−エチル）−アミノカルボニルメチル〕
−フェニル〕−アセトニトリル〔２−エトキシ−４４Ｎ
−（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−１−７’ロビ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−フェニル〕−アセト
ニトリル〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピロ
リジノ−フェニル）−１−ブチル）−アミノカルポニル
メチル〕−フェニル〕−アセトニトリル〔２−エトキシ
−４−［Ｎ−（１−（２−へキサメチレンイミノ−フェ
ニル）−１−−メチル）−アミノカルボニルメチル〕−
フェニル〕−アセトニトリル 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−（４−メチル
ーピペリジノ）−フェニル）−１−ブチル）−アミノカ
ルボニルメチル〕−フェニル〕−アセトニトリル エチル２−エトキシ−４４Ｎ−（α−シクロゾロビルメ
チル−２−ピロリシノーペンゾル）−アミノカルボニル
メチル〕ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロゾロビルメチル
−２−ピロリジノ−ペンシル）−アミノカルボニルメチ
ル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロプロピル
メチル−２−ヘキサメチレンイミノーペンジル）−アミ
ノカルボニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−ＣＮ−（α−シクロプロピルメチル
−２−ヘキサメチレンイミノ−ベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４−［
Ｎ−（α−シクロプロピルメチル−２−（４−メチル−
ピペリジノ）−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕
−ヘンシェード ２−−１−）キシ−４−［Ｎ−（α−シクロプロピルメ
チル−２−（４−メチル−ピペリジノ）−ベンジル）−
アミノカルボニルメチル〕−安息香酸エチル４−［Ｎ−
（α−シクロプロピルメチル−２−ｖペリジノーベンジ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−２−メトキシ−ベン
ゾエート４−ＣＮ−（α−シクロゾロビルメチル−２−
ピペリジノ−ペンシル）−アミノカルだニルメチル〕−
２−メトキシー安息香酸 エチル２−エトキシ−４−ｒＮ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−ピロリジノ−ベンジル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−シクロヘキシルメチル−２−ピロリジノ−ベン′ジ
ル）−アミツカ１６　フ ルボニルメチル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−へキサメチレンイミノ−ベンジル）−アミ
ノカルボニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−ＣＮ−Ｃα−シクロヘキシルメチル
−２−ヘキサメチレンイミノ−ペンシル）−アミノカル
ボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４−［
Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−（４−メチル−
ピペリジノ）−ペンシル）−アミノカルボニルメチル〕
−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−２−（４−メチル−ピペリジノ）−ベンジル）−アミ
ノカルボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−
４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−（３ｊ５
−ジメチル−ピペリジノ）−ペンシル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル　６　
Ｂ メチル−２−（３，５−ジメチル−ピペリジノ）−ベン
ジル）−アミノカルボニルメチル］−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−４Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−（３，３−ジメチル−ピペリジノ）−ベン
ジル）−アミノカルボニルメチル〕−ペンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−２−（５，３−ジメチル−ピペリジノ）−ペンジル）
−アミノカルボニルメチル］−安息香酸 エチル４−ＣＮ−Ｃα−シクロヘキシルメチル−２−ピ
ペリジノ−ペンゾル）−アミノカルボニルメチル）−２
−ヒドロキシ−ベンゾエート４−［Ｎ−（α−シクロヘ
キシルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカ
ルがニルメチル〕−２−ヒドロキシー安息香酸 エチル４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピ
ペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−２
−メトキシーペンゾエート４−４Ｎ−（α−シクロヘキ
シルメチル−２−ピペリシノーベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−２−メトキシ−安息香酸 エチル２−アリルオキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキ
シルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−ベンゾエート２−７１Ｊルオキシ−４
−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリジノ
−ペンシル）−アミノカルがニルメチル］−安息香酸 エチル４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピ
ペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル］−２
−ｎ−プロポキシ−ベンゾエート４、−［Ｎ−（α−シ
クロヘキシルメチル−２−ピペリシノーベンジル）−ア
ミノカルボニルメチル］−２−ｎ−プロポキシ−安息香
酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−４−フルオロ−２−ピペリジノ−ベンジル）−
アミノカルボニルメチルツーベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−４−フルオロ−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノ
カルボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４
−ＣＮ−Ｃα−シクロヘキシルメチル−６−クロロ−２
−ピペリジノ・−ペンシル）−アミノカルボニルメチル
ツーベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−３−クロロ−２−ピペリシノーベンジル）−アミノカ
ルボニルメチル］−安息香酸ｊ−−Ｆ−ル２−４）キシ
−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−６−クロロ
−２−ピペリジノ−ペンゾル）−アミノカルボニルメチ
ル］−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−ジクロヘキシルメチル
−６−クロロ−２−ｖペリジノーベンジル）−アミノカ
ルポニルメチル〕−ベンゾエートエチル２−エトキシ−
４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−６−メチル−
２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル
ツーベンゾエート ２−−［−）キシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメ
チル−６−メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミ
ノカルポニルメチル〕−安息香酸工ｆル２−　工）キシ
−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−４−メチル
−２−ピペリシノーベンジル）−アミノカルボニルメチ
ルツーベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−４−メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカ
ルボニルメチル〕−安息香酸：ｒ−ｆ　ル２−　’ｆ−
）　キシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘギシルメチル−６
−メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボ
ニルメチルツーベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−６−メチル−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカ
ルボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４−
［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル−４−メトキシ−２
−ピペリシノーベンジル）−アミノカルボニルメチル〕
−ベンゾエート ２−エトキシ−４−４Ｎ−（α−シクロヘキシルメチル
−４−メトキシ−２−ピペリジノ−ベンジルコ−アミノ
カルボニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４
−［Ｎ−（α−メトキシメチル−２−ピペリジノ−ベン
ジル）−アミノヵルホニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−メトキシメチル−２−
ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルがニルメチル〕−
安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−ｎ−プロポキシ
メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニ
ルメチルツーベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−ｎ−プロポキシメチル−２−ピペリジノ−ベンジル
）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−（Ｎ−（（ニーイソプロポキ
シメチル−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカルが
ニルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ−
（α−インゾロボキシメチル−２−ピペリシノーペンシ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−〔Ｎ−Ｃα−（１−メトキシ
−エチル）−２−ピペリシノーベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ
−（α−（１−メトキシ−エチル）−２−ピペリジノ−
ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（２−メトキシ
−エチル）−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカル
がニルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ
−（α−（２−メトキシ−エチル）−２−ピペリジノ−
ベンジル）−アミノカルボニルメチル］−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（２−エトキシ
−エチル）−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ
−（α−（２−エトキシ−エチル）−２−ピペリジノ−
ベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（２−シクロヘ
キシル−エチル）−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミ
ノカルがニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−（２−シクロヘキシル
−エチル）−２−２ペリジノーペンシル）−アミノカル
がニルメチル〕−安息香酸エチル２−エトキシ−４−［
Ｎ−（α−（２−フェニル−エチル）−２−１ｆｆペリ
ジノーベンジル）−アミノカルボニルメチル］−ベンゾ
エート２−エトキシ−４−４Ｎ−（α−（２−フェニル
−エチル）−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカル
ボニルメチル〕−安息香酸 エチル〔２−エトキシ−４−４Ｎ−（１−（２−ピペリ
ジノ−フェニル）−６−プテンー１−イル）−アミノカ
ルボニルメチル〕−フェニル〕−アセテート 〔２−エトキシ−４−ＣＮ　−（１−（２−ピペリジノ
−フェニル）−Ｓ−−ｔテン−１−イル）−アミノカル
ボニルメチル〕−フェニル〕−酢酸エチル〔２−エトキ
シ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−フェニル）−
２−ブテン−１−イル）−アミノカルボニルメチル〕−
フェニル〕−アセテート 〔２−エトキシ−４４Ｎ−（１−（２−ぎペリジノーフ
ェニル）−２−ブテン−１−イル）−アミノカルがニル
メチル〕−フェニル］−酢酸エチル〔２−エトキシ−４
−［Ｎ−（α−シクロプロピルメチル−２−ピペリシノ
ーベンジル）−アミノカルがニルメチル〕−フェニル〕
−アセテート 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロゾロビルメチ
ル−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカルボニルメ
チル〕−フェニル］−酢！エチル〔２−エトキシ−４−
［Ｎ　−（α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリシノ
ーベンジル）−アミノカルボニルメチル〕−フェニル〕
−アセテート 〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシルメチ
ル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルポニルメ
チル〕−フェニル］−酢酸エチル〔２−エトキシ−４−
［Ｎ−（１−（２−Ｖペリジノーフェニル）−１−エチ
ル）−アミノカルがニルメチル〕−フェニル〕−アセテ
ート〔２−エトキシ−４−４Ｎ−（１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−１−エチル）−アミノカルボニルメチ
ル〕−フェニル］−酢酸 エチル〔２−エトキシ−４−４Ｎ−（１−（２−ピペリ
ジノ−フェニル）−１−プロピル）−アミノカルボニル
メチル〕−フェニル〕−アセテート 〔２−エトキシ−４−［？Ｊ　−（１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−１−プロピル）−アミノカルボニルメ
チル〕−フェニル］−酢酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−〔１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−６−ブテン−１−イル〕−アミノカル
ボニルメチル〕−シンナメート２−エトキシ−４−４Ｎ
−［１−（２−ｆペリジノーフェニル）−３−７”テン
−１−イル〕−アミノカルがニルメチル〕−ケイ皮酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−［１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−２−ブテン−１−イル］−アミノカル
ボニルメチル］−シンナメート２−エトキシ−４−［Ｎ
　−［１−（２−ピペリジノ−フェニル）−２−７’テ
ン−１−イル〕−アミノカルビニルメチル〕−ケイ皮酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロプロピル
メチル−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−シンナメート２−エトキシ−４−［’Ｎ−
（α−シクロプロピルメチル−２−ｖペリジノーベンジ
ル）−アミノカルボニルメチル〕−ケイ皮酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−シンナメート２−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリシノーペンジル
）−アミノカルボニルメチル］−ケイ皮酸 エチル２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−１−エチル）−アミノカルボニルメチ
ル〕−シンナメート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリジノ−フ
ェニル）−１−エチル）−アミノカルボニルメチル〕−
ケイ皮酸 エチル２−エトキシ−４−ｒＮ−（１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−１−プロピル）−アミノカルボニルメ
チル〕−シンナメート ２−エトキシ−４４Ｎ−（１−（２−ピペリシノーフェ
ニル）−１−７’ロビル）−アミノカルがニルメチル〕
−ケイ皮酸 エチル６−〔２−エトキシ−４−ｒＮ−（α−シクロヘ
キシルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカ
ルざニルメチル〕−フェニル］−７’口ぎオネート ３−〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−ピペリジノ−ペンジル〕−アミノカルがニ
ルメチル〕−フェニル〕−ゾロピオン酸 エチル６−〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−１
？ペリジノーフエニル）−１−エチル）−アミノカルボ
ニルメチル〕−フェニル〕−ゾロビオネート ３−〔２−エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ぎぺＩＪ
　シノーフェニル）−１−エチル）−アミノカルボニル
メチル〕−フェニル〕−フロピオン酸エチル３−〔２−
エトキシ−４−［Ｎ−（１−（２−ピペリシノーフェニ
ル）−１−プロピル）−アミノカルがニルメチル〕−フ
ェニル〕−ソロビオネート ６−〔２−エトキシ−４−（Ｎ−（１−（２−ピペリジ
ノ−フェニル）−１−プロピル）−アミノカルボニルメ
チル〕−フェニル〕−ゾロピオン酸エチル６−ニトキシ
ー４−［Ｎ−（α−シクロプロピルメチル−２−ピペリ
ジノ−ベンジル）−アミノカルボニルメチル］−ベンゾ
エート６−エトキシ−４−［Ｎ−（α−シクロゾロｔル
メチルー２−ピペリリゾ−ペンシル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−安息香酸 エチル６−ニトキシー４−［Ｎ−（α−シクロヘキシル
メチル−２−ぎペリジノーベンジル）−アミノカルがニ
ルメチル〕−ヘンシェード６−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−シクロヘキシルメチル−２−ピペリジノ−ベンジル
）−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 ベンジル３−エトキシ−４−［Ｎ−（α−メトキシカル
ざニル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニ
ルメチル〕−ベンゾエート６−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−メトキシカルボニル−２−ピペリジノ−ベンジル）
−アミノカルボニルメチル〕−安息香酸 ペンジル２−エトキシ−４−［Ｎ−（α−メトキシカル
ボニル−２−ピペリジノ−ペンシル）−アミノカルがニ
ルメチル〕−ベンゾエート２−エトキシ−４−［Ｎ−（
α−メトキシカルがニル−２−ピロリジノ−ベンジル）
−アミノカルがニルメチル〕−安息香酸 ペンシル２−エトキシ−４−［：Ｎ−（２−ヘキサメチ
レンイミノ−α−メトキシカルボニル−ペンシル）−ア
ミノカルボニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−［Ｎ−（２−へキサメチレンイミノ
−α−メトキシカルがニル−ペンシル）−アミノカルざ
ニルメチル〕−安息香酸 ベンジル２−エトキシ−４−〔Ｎ−（α−メトキシカル
ボニル−２−（４−メチル−ピペリジノ）−ペンシル）
−アミノカルボニルメチル〕−ベンゾエート ２−エトキシ−４−ＣＮ−Ｃα−メトキシカルボニル−
２−（４−メチル−ピペリジノ）−ベンジル）−アミノ
カルボニルメチル〕−安息香酸例Ａ 組成： １錠は次のものを含有する： 活性物質（１１５，Ｑ１ｖ コーンスターチ＋２１　　　　　　　　　　　６２．０
■乳糖（３１４Ｂ、０１１１ｇ ポリビニールぎロリドン（４１４，０′ｍ９ステアリン
酸マグネシウム（５１１，０■１２０．０ＴＲ９ 製造法 １．２．６および４を混合し、そして水で湿めらせる。

湿めった混合物を１．５龍メツシユサイズの篩に押し通
し、そして約４５℃で乾燥する。乾燥顆粒を１．０ｍｍ
メツシュ篩に通し、モして５と混合する。錠剤を形成す
るために、仕上り混合物を分割刻線を備えた直径７１１
１のダイを有する錠剤プレスで圧縮する。

錠剤の重量＝１２０ＩＩｌｉｉ＋ 例Ｂ 覆錠剤 １錠の核は次のものを含有する： 活性物質（１１２，５■ バレイシヨデンプン＋２１　　　　　　　　　４４．０
■乳糖（３）　　　　　　　　　　　　　　　　３０．
ＯＮｇポリビニールピロリドン（４１３，０■ステアリ
ン酸マグネシウム（５１０，５■８０．０〜 製造法 １．２．６および４を充分に混合し、そして水で湿めら
せ、る。湿めった塊を１１１ｍメツシュサイズの篩に押
し通し、約４５℃で乾燥し、ついで顆粒を同じ篩に再び
押し通す。５を加えた後、直径６關の錠剤核を錠剤製造
機で圧縮製造する。かく製造された錠剤核を、公知方法
で、基本的に糖およびタルクからなる被接をかける。仕
上り被榎錠剤をワックスで研磨する。

被接錠剤の重量：１２０ｍｇ 例Ｃ 剤 組成： １錠は次のものを含有する： 活性物質　　　　　　　　　　　　　　　１［］、０■
粉末化乳糖　　　　　　　　　　　　　７０．０〜コー
ンスターチ　　　　　　　　　　　　３１．０１１９ポ
リビニールピロリドン　　　　　　　　８．０１１に９
ステアリン酸マグネシウム　　　　　　　１．０〜１２
０．０〜 製造法 活性物質、乳糖およびコーンスターチの混合物を水中の
ポリビニールピロリドンの２０％＃６液で湿めらせる。

湿めった塊ｅ１．５ｍのメツシュサイズの篩に通して顆
粒化し、そして４５℃で乾燥する。乾燥した顆粒を１１
ＩＩｍのメツシュサイズの篩に押し通しそしてステアリ
ン酸マグネシウムと均一に混合する。

錠剤の重量：１２０ｍ１ｉ ダイ二分割側脚を有し直径７寵 例Ｄ 錠剤 １錠の核は次のものを含有する： 活性物質　　　　　　　　　　　　　　　５．０■リン
酸第二カルシウム　　　　　　　　　７０．０■コーン
スターチ　　　　　　　　　　　　５０．０〜ポリビニ
ールピロリドン　　　　　　　　　４．０１ｎ９ステア
リン酸マグネシウム　　　　　　　１．０ｍ９１３０．
０■ 製造法： 活性物質、リン酸カルシウムおよびコーンスターチの混
合物を、水中のポリビニールピロリドンの１５チ浴液で
湿めらせる。湿めった塊を１　ｍｍのメツシュサイズの
篩に通し、そして４５℃で乾燥し、ついで同じ篩に再び
押し通す。特定した量のステアリン酸マグネシウムと混
合した後、錠剤核をそれから圧縮する。

核の重量：１６０■ ダイ：直径７　ｍｒｐｒ 糖およびメルクの被覆を、かく製造された錠剤核に、公
知方法で適用する。仕上り被覆錠剤をワックスで研磨す
る。

被覆錠剤の重量：１８０■

Claims (42)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒ＿１は、各々が炭素原子１から３個までを有する１ま
   たは２個のアルキル基により場合により置換されていて
   もよい炭素原子４から６個までの非分枝鎖アルキレンイ
   ミノ基を示し、 Ｒ＿２は、水素またはハロゲン原子、あるいはメチルま
   たはメトキシ基を示し、 Ｒ＿４は、水素原子、炭素原子１から３個までのアルキ
   ル基、またはアリル基を示し、 Ｒ＿３は、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキ
   ル基、場合によりハロゲン原子、あるいはメチルまたは
   メトキシ基により置換されていてもよいフェニル基、そ
   のアルコキシ部分が炭素原子１から３個までを含有し、
   アルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含有
   し、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個ま
   でを含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、アルカノイル
   オキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル
   、シクロアルキルまたはフェニルにより置換された炭素
   原子１または２個のアルキル基、炭素原子３から６個ま
   でのアルケニル基、炭素原子３から５個までのアルキニ
   ル基、カルボキシ基、あるいは炭素原子全部で２から５
   個までのアルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗは、シアノメチル、２−シアノ−エチル、２−シアノ
   エテニル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル、
   ２−カルボキシエテニル、アルコキシカルボニルメチル
   、２−アルコキシカルボニル−エチルまたは２−アルコ
   キシカルボニル−エテニル基を示し、そのアルコキシ部
   分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そしてフェニ
   ル基により置換されていてもよく、あるいは、 Ｒ＿３は、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個ま
   でを含有し、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２また
   は３個を含有し、そしてシクロアルキル部分が炭素原子
   ３から７個までを含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、
   アルカノイルオキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒ
   ドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基により
   置換された炭素原子１または２個のアルキル基、炭素原
   子３から６個までのアルケニル基、炭素原子３から５個
   までのアルキニル基、カルボキシ基、あるいは炭素原子
   全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基を示し
   、そして、 Ｗは、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
   シまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキ
   シ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そしてフ
   ェニル基により置換されうる〕の新規フェニル酢酸誘導
   体、それらのエナンチオマーおよび塩。
2. （２）Ｒ＿１が、各々が炭素原子１から３個までを有す
   る１または２個のアルキル基により場合により置換され
   ていてもよい炭素原子４から６個までの非分枝鎖アルキ
   レンイミノ基を示し、 Ｒ＿２が、水素またはハロゲン原子、あるいはメチルま
   たはメトキシ基を示し、 Ｒ＿４が、水素原子、炭素原子１から３個までのアルキ
   ル基、またはアリル基を示し、 Ｒ＿３が、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキ
   ル基、場合によりハロゲン原子、あるいはメチルまたは
   メトキシ基により置換されていてもよいフェニル基、そ
   のアルコキシ部分が炭素原子１から３個までを含有しえ
   、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含
   有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７
   個までを含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、アルカノ
   イルオキシ、シクロアルキルまたはフェニル基により置
   換された炭素原子１または２個のアルキル基、カルボキ
   シ基、または炭素原子全部で２から５個までのアルコキ
   シカルボニル基を示し、そして、Ｗが、シアノメチル、
   ２−シアノ−エチル、２−シアノ−エテニル、カルボキ
   シメチル、２−カルボキシエチル、２−カルボキシエテ
   ニル、アルコキシカルボニルメチル、２−アルコキシカ
   ルボニル−エチルまたは２−アルコキシカルボニル−エ
   テニル基を示し、そのアルコキシ部分が炭素原子１から
   ４個までを含有しえ、そしてフェニル基により置換され
   え、あるいは、 Ｒ＿３が、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個ま
   でを含有しえ、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２ま
   たは３個を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素
   原子３から７個までを含有しうるヒドロキシ、アルコキ
   シ、アルカノイルオキシ、シクロアルキルまたはフェニ
   ル基で置換された炭素原子１または２個のアルキル基、
   カルボキシ基または炭素原子全部で２から５個までのア
   ルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗが、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
   シまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキ
   シ部分が炭素原子１から４個までを含有して、そしてフ
   ェニル基により置換されうる、特許請求の範囲第１項に
   従う一般式 I の新規フェニル酢酸誘導体、それらのエ
   ナンチオマーおよび塩。
3. （３）Ｒ＿１が、ピロリジノ、ピペリジノ、４−メチル
   ピペリジノ、３−メチル−ピペリジノ、３，３−ジメチ
   ルピペリジノ、３，５−ジメチルピペリジノまたはヘキ
   サメチレンイミノ基を示し、Ｒ＿２が、水素、フッ素ま
   たは塩素原子、あるいはメチルまたはメトキシ基を示し
   、 Ｒ＿４が、水素原子、炭素原子１から３個までのアルキ
   ル基、またはアリル基を示し、 Ｒ＿３が、水素原子、炭素原子１から６個までのアルキ
   ル基、あるいは随意に塩素原子あるいはメチルまたはメ
   トキシ基により置換されていてもよいフェニル基、その
   アルコキシ部分が炭素原子１から３個までを含有しえ、
   そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個までを
   含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、アセトキシ、プロ
   ピオニルオキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロ
   ピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基により置換
   された炭素原子１または２個のアルキル基、炭素原子３
   から５個までのアルケニル基、炭素原子３または４個の
   アルキニル基、カルボキシ基、または炭素原子全部で２
   から５個までのアルコキシカルボニル基を示し、そして
   、 Ｗが、シアノメチル、カルボキシメチル、２−カルボキ
   シエチル、２−カルボキシ−エテニル、アルコキシカル
   ボニルメチル、２−アルコキシカルボニル−エチルまた
   は２−アルコキシカルボニル−エテニル基を示し、その
   アルコキシ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、
   そしてフェニル基により置換されえ、あるいは、 Ｒ＿３が、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個ま
   でを含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３
   から７個までを含有しうるヒドロキシ、アルコキシ、ア
   セトキシ、プロピオニルオキシ、テトラヒドロフラニル
   、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニ
   ル基により置換された炭素原子１または２個のアルキル
   基、炭素原子３から５個までのアルケニル基、炭素原子
   ３または４個のアルキニル基、カルボキシ基、または炭
   素原子全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基
   を示し、そして、 Ｗが、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カルボキ
   シまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキ
   シ基が炭素原子１から４個までを含有しえ、そしてフェ
   ニル基により置換されうる、特許請求の範囲第１項に従
   う一般式 I の新規フェニル酢酸誘導体、それらのエナ
   ンチオマーおよび塩。
4. （４）Ｒ＿１が、ピロリジノ、ピペリジノ、４−メチル
   −ピペリジノ、３−メチル−ピペリジノ、３，３−ジメ
   チル−ピペリジノ、３，５−ジメチル−ピペリジノまた
   はヘキサメチレンイミノ基を示し、Ｒ＿２が、水素、フ
   ッ素または塩素原子、あるいはメチルまたはメトキシ基
   を示し、 Ｒ＿４が、水素原子、または炭素原子１から３個までの
   アルキル基を示し、 Ｒ＿３が、水素原子、炭素原子１から５個までのアルキ
   ル基、フェニル、ヒドロキシメチル、エトキシメチル、
   アセトキシメチル、ベンジルまたはテトラヒドロフラニ
   ルメチル基、そのシクロアルキル部分が炭素原子３から
   ７個までを含有しうるシクロアルキルメチル基、炭素原
   子３から５個までのアルケニル基、プロパルギル基、ま
   たは炭素原子全部で２から５個までのアルコキシカルボ
   ニル基を示し、そして、 Ｗが、シアノメチル、カルボキシメチル、２−カルボキ
   シ−エチルまたは２−カルボキシ−エテニル基を示し、
   あるいは、 Ｒ＿３が、そのシクロアルキル部分が炭素原子３から７
   個までを含有しうるシクロアルキルメチル基、炭素原子
   ３から５個までのアルケニル基、プロパルギル基、炭素
   原子全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基、
   ヒドロキシメチル、エトキシメチル、アセトキシメチル
   、ベンジルまたはテトラヒドロフラニルメチル基を示し
   、そして、Ｗが、カルボキシ、メトキシカルボニル、エ
   トキシカルボニルまたはベンジルオキシカルボニル基を
   示す、特許請求の範囲第１項に従う一般式 I の新規フ
   ェニル酢酸誘導体、それらのエナンチオマーおよび塩。
5. （５）Ｒ＿１が、ピペリジノ基を示し、 Ｒ＿２が、水素、フッ素または塩素原子を示し、Ｒ＿４
   が、メチルまたはエチル基を示し、 Ｒ＿３が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル
   、イソブチルまたはフェニル基を示し、そして、 Ｗが、シアノメチル、２−カルボキシエテニル、カルボ
   キシメチルまたは２−カルボキシ−エチル基を示し、あ
   るいは、 Ｒ＿３が、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル
   、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、テト
   ラヒドロフラン−２−イル−メチル、アリル、メタリル
   、２−メチル−ビニール、２，２−ジメチル−ビニール
   、プロパルギル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
   ニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
   ボニル、ヒドロキシメチルまたはエトキシメチル基を示
   し、そして、 Ｗが、カルボキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシ
   −カルボニル基を示す、特許請求の範囲第１項に従う一
   般式 I の新規フェニル酢酸誘導体、それらのエナンチ
   オマーおよび塩。
6. （６）Ｒ＿１が、ピペリジノ基を示し、 Ｒ＿２が、水素原子を示し、 ２位におけるＲ＿４Ｏが、エトキシ基を示し、Ｒ＿３が
   、シクロヘキシルメチルまたはシクロプロピルメチル基
   、あるいは、もしもＷがシアノメチル基を示すならばｎ
   −プロピルを示し、そして、Ｗが、カルボキシ、エトキ
   シカルボニルまたはシアノメチル基を示す、特許請求の
   範囲第１項に従う新規フェニル酢酸誘導体、それらのエ
   ナンチオマーおよび塩。
7. （７）Ｒ＿１からＲ＿４までが、特許請求の範囲第１項
   から第６項までにおける如く限定され、そして、Ｗが、
   カルボキシ基を示す、特許請求の範囲第１項に従う一般
   式 I の新規フェニル酢酸誘導体、それらのエナンチオ
   マーおよび塩。
8. （８）２−エトキシ−４−〔Ｎ−（α−シクロヘキシル
   メチル−２−ピペリジノ−ベンジル）−アミノカルボニ
   ルメチル〕−安息香酸、そのエナンチオマーおよび塩で
   ある、特許請求の範囲第１項に従う化合物。
9. （９）無機または有機の酸または塩基との化合物の生理
   学的に受容しうる塩である、特許請求の範囲第１項から
   第８項までに従う化合物。
10. （１０）随意に１種もしくはそれ以上の担体および（ま
    たは）希釈剤と一緒で、特許請求の範囲第１項から第８
    項までに従う化合物または特許請求の範囲第９項に従う
    生理学的に受容しうる塩を含有する医薬組成物。
11. （１１）特許請求の範囲第１項から第９項までに従う新
    規フェニル酢酸誘導体の製造法において、ａ）一般式（
    II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＿１からＲ＿３までは、特許請求の範囲第１
    項から第８項までにおける如く限定される〕のアミンを
    、一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、 Ｒ＿４は、特許請求の範囲第１項から第８項までにおけ
    る如く限定され、 Ｗ′は、特許請求の範囲第１項から第８項までにおいて
    Ｗにつき与えた意味を有し、そのＷ基中に含有される任
    意のカルボキシ基は保護基により保護されうる〕のカル
    ボン酸または随意に反応混合物中において製造されるそ
    れらの反応性誘導体と反応させ、そしてもしも必要なら
    ば、使用した任意の保護基を引続いて開裂し、または、 ｂ）Ｒ＿３がカルボキシまたはアルコキシカルボニル基
    を示し、そしてＷが上記に与えた意味を有し、あるいは
    Ｗがカルボキシ、カルボキシメチル、２−カルボキシ−
    エチル、２−カルボキシ−エテニル、アルコキシカルボ
    ニル、アルコキシカルボニル−メチル、２−アルコキシ
    カルボニル−エチルまたは２−アルコキシカルボニル−
    エテニル基であり、そしてＲ＿３が上記に与えた意味を
    有する一般式 I の化合物を製造するために： 一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＲ＿４は、特許請求の範囲第１項
    から第８項までにおける如く限定され、 Ｂは、結合、メチレン、エチレンまたはエテニレン基を
    示し、 ＡおよびＬは、各々ニトリル基、あるいは加水分解、熱
    分解または水素分解によりカルボキシ基に変換しうる基
    を示し、そしてＬは付加的に特許請求の範囲第１項から
    第８項までにおいてＲ＿３につき与えた意味を有する〕
    の化合物を加水分解、熱分解、水素分解またはアルコー
    ル分解により対応の化合物に変換し、または、 ｃ）Ｒ＿４が水素原子を示す一般式 I の化合物を製造
    するために： 一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿３までおよびＷは、特許請求の範囲第１
    項から第８項までにおける如く限定され、そして、Ｒ＿
    ５は、ヒドロキシ基の保護基を示す〕の化合物から保護
    基を開裂し、または、 ｄ）Ｒ＿４が炭素原子１から３個までのアルキル基、ま
    たはアリル基を示す一般式 I の化合物を製造するため
    に： 一般式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿３までおよびＷは、特許請求の範囲第１
    項から第８項までにおける如く限定される〕の化合物を
    一般式（VII） Ｘ−Ｒ＿６（VII） 〔式中、 Ｒ＿６は、炭素原子１から３個までのアルキル基、また
    はアリル基を示し、そして、 Ｘは、親核的に交換しうる基、たとえばハロゲン原子、
    スルホニルオキシ基、あるいは、もしもＲ＿６が炭素原
    子１から３個までのアルキル基を示すならば、燐接する
    水素原子と一緒でジアゾ基を示す〕の化合物と反応させ
    、そしてもしも必要ならばかく得られた化合物を引続い
    て加水分解し、または、ｅ）Ｗがシアノメチルまたは２
    −シアノ−エチル基を示す一般式 I の化合物を製造す
    るために：一般式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿４までは、特許請求の範囲第１項から第
    ８項までにおける如く限定され、 Ｅは、メチレンまたはエチレン基を示し、そしてＹは、
    親核的に交換しうる基、たとえばハロゲン原子またはス
    ルホニルオキシ基を示す〕 の化合物を、アルカリ金属シアナイド、たとえばナトリ
    ウムまたはカリウムシアナイドと反応させ、または、 ｆ）Ｗがシアノメチル、２−シアノ−エチルまたは２−
    シアノ−エテニル基を示す一般式 I の化合物を製造す
    るために： 一般式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿４までは、特許請求の範囲第１項から第
    ８項までにおける如く限定され、そして、Ｇは、メチレ
    ン、エチレンまたはエチニレン基を示す〕の化合物を脱
    水し、または、 ｇ）Ｗが２−シアノ−エテニル、２−カルボキシ−エテ
    ニルまたは２−アルコキシカルボニル−エテニル基を示
    す一般式 I の化合物を製造するために： 一般式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿４までは、特許請求の範囲第１項から第
    ８項までにおける如く限定される〕の化合物を一般式（
    Ｘ I ） Ｚ−ＣＨ＿２−Ｑ（Ｘ I ） 〔式中、 Ｑは、カルボキシ、アルコキシカルボニルまたはシアノ
    基を示し、そして、 Ｚは、水素原子、アルコキシカルボニル、ジアルキルホ
    スホノまたはトリフェニルホスホニウムハライド基を示
    す〕の対応の酢酸誘導体と反応させ、そして随意に、か
    く得られた化合物を引続いて加水分解および（または）
    脱カルボキシル化し、または、 ｈ）Ｗが２−カルボキシ−エチル、２−アルコキシカル
    ボニル−エチルまたは２−シアノ−エチル基を示す一般
    式 I の化合物を製造するために：一般式（ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） 〔式中、 Ｒ＿１からＲ＿４までは、特許請求の範囲第１項から第
    ８項までにおける如く限定され、そして、Ｗ″は、２−
    カルボキシ−エテニル、２−アルコキシカルボニル−エ
    テニルまたは２−シアノ−エテニル基を示す〕の化合物
    を還元し、または、ｉ）Ｒ＿３がアルコキシまたはアル
    カノイルオキシ基により置換された炭素原子１または２
    個のアルキル基を示す一般式 I の化合物を製造するた
    めに：一般式（ＸIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII） 〔式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿４およびＷは、特許請求の範囲第
    １項から第８項までにおける如く限定され、そして、Ｒ
    ＿３′は、ヒドロキシ基により置換された炭素原子１ま
    たは２個のアルキル基を示す〕の化合物を一般式（ＸI
    V） Ｕ−Ｒ＿７（ＸIV） 〔式中、 Ｒ＿７は、炭素原子１から３個までのアルキル基、ある
    いはアセチルまたはプロピオニル基を示し、そして、 Ｕは、親核的に交換しうる基、たとえばハロゲン原子、
    スルホニルオキシ基、アセトキシまたはプロピオニルオ
    キシ基を示し、あるいはもしもＲ＿７が炭素原子１から
    ３個までのアルキル基を示すならば、燐接する水素原子
    と一緒でジアゾ基を示す〕の化合物と反応させ、そして
    随意にかく得られた化合物を引続いて加水分解し、また
    は、 ｋ）Ｒ＿３がアルコキシカルボニル基を示す一般式 I
    の化合物を製造するために： 一般式（ＸＶ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＶ） 〔式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿４およびＷは、特許請求の範囲第
    １項から第８項までにおける如く限定され、そして、Ｒ
    ＿８は、水素原子またはアルカリ金属原子を示す〕の化
    合物、あるいは随意に反応混合物中において製造される
    それらの反応性誘導体を一般式（ＸVI）Ｔ−Ｒ＿９（Ｘ
    VI） 〔式中、 Ｒ＿９は、炭素原子１から４個までのアルキル基を示し
    、そして、 Ｔは、ヒドロキシ基、または親核的に交換しうる基たと
    えばハロゲン原子またはスルホニルオキシ基を示し、あ
    るいはＲ＿９の燐接する水素原子と一緒でジアゾ基を示
    す〕の化合物と反応させ、そしてもしもＷがベンジルオ
    キシカルボニル基を含有するならば、随意に、得られた
    化合物を水素分解し、または、 ｌ）Ｒ＿４が、水素原子、または炭素原子１から３個ま
    でのアルキル基を示し、 Ｒ＿３が、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキ
    ル基、随意にハロゲン原子により、あるいはメチルまた
    はメトキシ基により置換されていてもよいフェニル基、
    そのアルコキシ基が炭素原子１から３個までを含有しえ
    、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含
    有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７
    個までを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキシ、
    テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロ
    アルキルまたはフェニル基により置換された炭素原子１
    または２個のアルキル基、炭素原子３から６個までのア
    ルケニル基、炭素原子３から５個までのアルキニル基、
    カルボキシ基または炭素原子全部で２から５個までのア
    ルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗが、カルボキシメチル、２−カルボキシ−エチル、ア
    ルコキシカルボニルメチルまたは２−アルコキシカルボ
    ニルエチル基を示し、そのアルコキシ部分が炭素原子１
    から４個までを含有しえ、あるいは、 Ｒ＿３が、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個ま
    でを含有しえ、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２ま
    たは３個を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素
    原子３から７個までを含有しうるアルコキシ、アルカノ
    イルオキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラ
    ニル、シクロアルキルまたはフェニル基により置換され
    た炭素原子１または２個のアルキル基、炭素原子３から
    ６個までのアルケニル基、炭素原子３から５個までのア
    ルキニル基、カルボキシ基、または炭素原子全部で２か
    ら５個までのアルコキシカルボニル基を示し、そして、 Ｗが、メチル、ホルミル、カルボキシまたはアルコキシ
    カルボニル基を示し、そのアルコキシ部分が炭素原子１
    から４個までを含有しうる一般式 I の化合物を製造す
    るために、一般式（ＸVII）▲数式、化学式、表等があ
    ります▼（ＸVII） 〔式中、 Ｒ＿１およびＲ＿２は、特許請求の範囲第１項から第８
    項までにおける如く限定され、 Ｒ＿３″は（もしも、Ｗがカルボキシメチル、２−カル
    ボキシ−エチル、アルコキシカルボニルメチルまたは２
    −アルコキシカルボニル−エチル基を示し、そのアルコ
    キシ部分が炭素原子１から４個までを含有しうるならば
    ）、水素原子、炭素原子１から７個までのアルキル基、
    随意にハロゲン原子により、あるいはメチルまたはメト
    キシ基により置換されていてもよいフェニル基、そのア
    ルコキシ部分が炭素原子１から３個までを含有しえ、ア
    ルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個を含有し
    え、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３から７個ま
    でを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキシ、テト
    ラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアル
    キルまたはフェニル基により置換された炭素原子１また
    は２個のアルキル基、炭素原子３から６個までのアルケ
    ニル基、炭素原子３から５個までのアルキニル基、カル
    ボキシ基、または炭素原子全部で２から５個までのアル
    コキシカルボニル基を示し、あるいは、Ｒ＿３″は（Ｗ
    がメチル、ホルミル、カルボキシまたはそのアルコキシ
    部分が炭素原子１から４個までを含有しうるアルコキシ
    カルボニル基を示すとき）、そのアルコキシ部分が炭素
    原子１から３個まで含有しえ、アルカノイルオキシ部分
    が炭素原子２または３個を含有しえ、そしてシクロアル
    キル部分が炭素原子３から７個までを含有しうるアルコ
    キシ、アルカノイルオキシ、テトラヒドロフラニル、テ
    トラヒドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニル基
    により置換された炭素原子１または２個のアルキル基、
    炭素原子３から６個までのアルケニル基、炭素原子３か
    ら５個までのアルキニル基、カルボキシ基、または炭素
    原子全部で２から５個までのアルコキシカルボニル基を
    示す〕の化合物を一般式（ＸVIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVIII） 〔式中、 Ｒ＿４は、上記に限定した如くであり、そして、Ｗ″は
    （Ｒ″＿３が水素原子、炭素原子１から７個までのアル
    キル基、随意にハロゲン原子により、あるいはメチルま
    たはメトキシ基により置換されていてもよいフェニル基
    、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個までを含有
    しえ、アルカノイルオキシ部分が炭素原子２または３個
    を含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子３か
    ら７個までを含有しうるアルコキシ、アルカノイルオキ
    シ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シ
    クロアルキルまたはフェニル基により置換された炭素原
    子１または２個のアルキル基、炭素原子３から６個まで
    のアルケニル基、炭素原子３から５個までのアルキニル
    基、カルボキシ基、あるいは炭素原子全部で２から５個
    までのアルコキシカルボニル基を示すとき）、カルボキ
    シメチル、２−カルボキシ−エチル、アルコキシカルボ
    ニルメチルまたは２−アルコキシカルボニル−エチル基
    を示し、そのアルコキシ部分は炭素原子１から４個まで
    を含有しえ、あるいは、 Ｗ″′は（もしもＲ＿３″が、そのアルコキシ部分が炭
    素原子１から３個までを含有しえ、アルカノイルオキシ
    部分が炭素原子２または３個を含有しえ、そしてシクロ
    アルキル部分が炭素原子３から７個までを含有しうるア
    ルコキシ、アルカノイルオキシ、テトラヒドロフラニル
    、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまたはフェニ
    ル基により置換された炭素原子１または２個のアルキル
    基、炭素原子３から６個までのアルケニル基、炭素原子
    ３から５個までのアルキニル基、または炭素原子全部で
    ２から５個までのアルコキシカルボニル基を示すならば
    ）、メチル、ホルミル、カルボキシまたはアルコキシカ
    ルボニル基を示し、そのアルコキシ部分は炭素原子１か
    ら４個までを含有しうる〕の化合物と反応させ、または
    、 ｍ）Ｒ＿４が、水素原子、または炭素原子１から３個ま
    でのアルキル基を示し、 Ｒ＿３が、炭素原子１から７個までのアルキル基、随意
    にメチルまたはメトキシ基により置換されていてもよい
    フェニル基、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個
    までを含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子
    ５から７個までを含有しうるアルコキシ、テトラヒドロ
    フラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまた
    はフェニル基により置換された炭素原子１または２個の
    アルキル基を示し、 Ｗが、シアノメチル、２−シアノ−エチル、カルボキシ
    メチル、２−カルボキシ−エチル、アルコキシカルボニ
    ル−メチルまたは２−アルコキシカルボニルエチル基を
    示し、そのアルコキシ部分が炭素原子１から４個を含有
    しえ、あるいは、Ｒ＿３が、そのアルコキシ部分が炭素
    原子１から３個までを含有しえ、そしてシクロアルキル
    部分が炭素原子５から７個までを含有しうるアルコキシ
    、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、シク
    ロアルキルまたはフェニル基により置換された炭素原子
    １または２個のアルキル基を示し、そして、 Ｗが、メチル、ヒドロキシメチル、カルボキシルまたは
    アルコキシカルボニル基を示し、そのアルコキシ部分が
    炭素原子１から４個までを含有しうる一般式 I の化合
    物を製造するために： 一般式（ＸIX） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIX） 〔式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＲ＿４は、特許請求の範囲第１項
    から第８項までにおける如く限定され、そして、Ｄは、
    次式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ の基を示し、 そのＲ＿３″′は、随意にハロゲン原子により、あるい
    はメチルまたはメトキシ基により置換されていてもよい
    フェニル基を示し、 Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿１は、それらの間の炭素原子
    と一緒で、炭素原子１から７個までのアルキリデン基、
    アルコキシ、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラ
    ニル、シクロアルキルまたはフェニル基により置換され
    た炭素原子１または２個のアルキリデン基を示し、その
    アルコキシ部分は炭素原子１から３個までを含有しえ、
    そしてシクロアルキル部分は炭素原子５から７個までを
    含有しえ、そして、 Ｗ″″は、シアノメチル、２−シアノエチル、２−シア
    ノ−エテニル、カルボキシメチル、２−カルボキシ−エ
    チル、２−カルボキシ−エテニル、アルコキシカルボニ
    ルメチル、２−アルコキシカルボニル−エチルまたは２
    −アルコキシカルボニル−エテニル基を示し、そのアル
    コキシ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そし
    てフェニル基により置換されえ、あるいは、 Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿１は、それらの間の炭素原子
    と一緒で、そのアルコキシ部分が炭素原子１から３個ま
    でを含有しえ、そしてシクロアルキル部分が炭素原子５
    から７個までを含有しうるアルコキシ、テトラヒドロフ
    ラニル、テトラヒドロピラニル、シクロアルキルまたは
    フェニル基により置換された炭素原子１または２個のア
    ルキリデン基を示し、そして、 Ｗ″″は、メチル、ヒドロキシメチル、ホルミル、カル
    ボキシまたはアルコキシカルボニル基を示し、そのアル
    コキシ部分は炭素原子１から４個までを含有しえ、そし
    てフェニル基により置換されうる〕の化合物を還元し、
    引続いて、もしも所望ならば、かく得られたＲ＿３が水
    素原子を除き特許請求の範囲第１項から第８項までにお
    いて与えた定義を有する一般式 I のラセミ化合物をキ
    ラル層上のクロマトグラフィによりそのエナンチオマー
    に分割し、および（または）、 かく得られた一般式 I の化合物を無機または有機の酸
    または塩基とのそれらの塩、特にそれらの生理的に受容
    しうる塩に変換することを特徴とする方法。
12. （１２）反応を、溶媒中で行うことを特徴とする、特許
    請求の範囲第１１項に従う方法。
13. （１３）反応を、随意に無機または第三級有機塩基の存
    在において、酸活性化または脱水剤の存在において行う
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第１１ａ項および第
    １２項に従う方法。
14. （１４）反応を、随意に無機または第三級有機塩基の存
    在において、アミン−活性化剤の存在において行うこと
    を特徴とする、特許請求の範囲第１１ａ項および第１２
    項に従う方法。
15. （１５）反応の間に形成する水を、共沸蒸留または乾燥
    剤の添加により行うことを特徴とする、特許請求の範囲
    第１１ａ項および第１２項に従う方法。
16. （１６）反応を、−２５から２５０℃までの間の温度、
    好ましくは−１０℃から使用した溶媒の沸騰温度までの
    間の温度で行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１
    １ａ項および第１２項から第１５項までに従う方法。
17. （１７）加水分解または熱分解を、酸または塩基の存在
    において、−１０から１８０℃までの間の温度で行うこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第１１ｂ項および第１
    ２項に従う方法。
18. （１８）反応を、もしもＡがニトリルまたはアミノカル
    ボニル基を示すならば、亜硝酸塩たとえば亜硝酸ナトリ
    ウムの存在において、そして酸たとえば硫酸の存在にお
    いて、０から５０℃までの間の温度で行うことを特徴と
    する、特許請求の範囲第１１ｂ項および第１２項に従う
    方法。
19. （１９）反応を、もしもＡがニトリルまたはアミノカル
    ボニル基を示すならば、１００％リン酸を使用して、１
    ００から１８０℃までの間の温度、好ましくは１２０か
    ら１６０℃までの間の温度で行うことを特徴とする、特
    許請求の範囲第１１ｂ項および第１２項に従う方法。
20. （２０）反応を、−７８から２５０℃までの間の温度で
    行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１１ｃ項およ
    び第１２項に従う方法。
21. （２１）エーテル開裂を、酸の存在において行うことを
    特徴とする、特許請求の範囲第１１ｃ項、第１２項およ
    び第２０項に従う方法。
22. （２２）水素分解開裂を、水素化触媒の存在において、
    １から５バールまでの間の水素圧下に行うことを特徴と
    する、特許請求の範囲第１３ｃ項、第１２項および第２
    ０項に従う方法。
23. （２３）反応を、０から１００℃までの間の温度、好ま
    しくは２０から５０℃までの間の温度で行うことを特徴
    とする、特許請求の範囲第１１ｄ項および第１２項に従
    う方法。
24. （２４）反応を、もしもＸが親核的に交換しうる基を示
    すならば、塩基の存在において行うことを特徴とする、
    特許請求の範囲第１１ｄ項、第１２項および第２３項に
    従う方法。
25. （２５）反応を、２層系において、そして層転移触媒の
    存在において行うことを特徴とする、特許請求の範囲第
    １１ｅ項および第１２項に従う方法。
26. （２６）反応を、０から１００℃までの間の温度、しか
    し好ましくは２０から５０℃までの間の温度で行うこと
    を特徴とする、特許請求の範囲第１１ｅ項、第１２項お
    よび第２５項に従う方法。
27. （２７）反応を、水−開裂剤中で行うことを特徴とする
    、特許請求の範囲第１１ｆ項および第１２項に従う方法
    。
28. （２８）反応を、０から１００℃までの間の温度、好ま
    しくは２０から８０℃までの間で行うことを特徴とする
    、特許請求の範囲第１１ｆ項、第１２項および第２７項
    に従う方法。
29. （２９）反応を、縮合剤の存在において行うことを特徴
    とする、特許請求の範囲第１１ｇ項および第１２項に従
    う方法。
30. （３０）反応を、−１０から１２０℃までの間の温度、
    好ましくは室温から反応混合物の沸騰温度までの間の温
    度で行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１１ｇ項
    、第１２項および第２９項に従う方法。
31. （３１）還元を、水素化触媒の存在において、そして１
    から５バールまでの水素圧下に行うことを特徴とする、
    特許請求の範囲第１１ｈ項および第１２項に従う方法。
32. （３２）還元を、０から１００℃までの間の温度、好ま
    しくは２０から５０℃までの間の温度で行うことを特徴
    とする、特許請求の範囲第１１ｈ項、第１２項および第
    ３１項に従う方法。
33. （３３）還元を、もしもＷ″が２−シアノ−エテニル基
    を示すならば、発生期の水素または銅ヒドリド複合体で
    、−７８から５０℃までの間の温度において行うことを
    特徴とする、特許請求の範囲第１１ｈ項および第１２項
    に従う方法。
34. （３４）反応を、もしもＵが親核的に交換しうる基を示
    すならば、塩基の存在において行うことを特徴とする、
    特許請求の範囲第１１ｉ項および第１２項に従う方法。
35. （３５）反応を、０から１００℃までの間の温度、好ま
    しくは２０から５０℃までの間の温度で行うことを特徴
    とする、特許請求の範囲第１１ｉ項、第１２項および第
    ３４項に従う方法。
36. （３６）反応を、随意に無機または第三級有機塩基の存
    在において、あるいは反応促進剤の存在において、酸活
    性化または脱水剤の存在において行うことを特徴とする
    、特許請求の範囲第１１ｋ項および第１２項に従う方法
    。
37. （３７）反応を、−２０から１００℃までの間の温度、
    好ましくは−１０℃から使用した溶媒の沸騰温度までの
    間の温度で行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１
    １ｋ項、第１２項および第３６項に従う方法。
38. （３８）反応を濃硫酸中で行うことを特徴とする、特許
    請求の範囲第１１ｌ項に従う方法。
39. （３９）反応を、０から１５０℃までの間の温度、好ま
    しくは２０から１００℃までの間の温度で行うことを特
    徴とする、特許請求の範囲第１３ｌ項、第１２項および
    第３８項に従う方法。
40. （４０）還元を、水素化触媒の存在において水素で行う
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第１１ｍ項および第
    １２項に従う方法。
41. （４１）反応を、０から１００℃までの間の温度、しか
    し好ましくは２０から５０℃までの間の温度で行うこと
    を特徴とする、特許請求の範囲第１１ｍ項、第１２項お
    よび第４０項に従う方法。
42. （４２）引続く保護基の開裂を、加水分解または水素分
    解によい行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１１
    項および第１２項に従う方法。