JPS6259902A - Manufacturing method of polychromatic optical filter - Google Patents
Manufacturing method of polychromatic optical filterInfo
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- JPS6259902A JPS6259902A JP60200296A JP20029685A JPS6259902A JP S6259902 A JPS6259902 A JP S6259902A JP 60200296 A JP60200296 A JP 60200296A JP 20029685 A JP20029685 A JP 20029685A JP S6259902 A JPS6259902 A JP S6259902A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は固体撮像素子等に使用してカラー撮像を可能
にする多色光学フィルタの製造方法に関するものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing a polychromatic optical filter that is used in a solid-state image sensor or the like to enable color imaging.
第2図(al 〜(hlは例えば特開昭48−6373
9号公報に示された従来の同一平面上に異なる光学特性
を有するフィルターを形成するための製造方法を示し、
図において12は透明ガラス基板、13,14゜15.
16はそれぞれ黒色、青色、緑色、赤色の綿状フィルタ
ー素子、17は可染性樹脂、18は感光性樹脂層、19
はパターン原図となる乾板である。Figure 2 (al ~ (hl is, for example,
A conventional manufacturing method for forming filters having different optical characteristics on the same plane as disclosed in Publication No. 9 is shown,
In the figure, 12 is a transparent glass substrate, 13, 14° 15.
16 are black, blue, green, and red cotton-like filter elements, 17 is a dyeable resin, 18 is a photosensitive resin layer, 19
is the dry plate that serves as the original pattern.
次に製造フローについて説明する。Next, the manufacturing flow will be explained.
fa) ガラス基板12にクロム13を真空蒸着する
。fa) Chromium 13 is vacuum deposited on the glass substrate 12.
(′b) クロム13をエツチングすることによりパ
ターンを形成する。('b) Form a pattern by etching chromium 13.
(C) 被着色性の樹脂17を塗布する。(C) Paintable resin 17 is applied.
(dl その上に感光性樹脂18を塗布する。次に乾
板(パターン原図)19を密着させ、露光、次いで現象
する。(dl) A photosensitive resin 18 is applied thereon. Next, a dry plate (original pattern) 19 is brought into close contact with the photosensitive resin, exposed to light, and then developed.
(ilり こうして被着色性樹脂rf117の上で感
光性樹脂18の例えば赤色フィルターのみに対応する部
分のみが取り除かれ、他の部分は被膜されている。In this way, only the portion of the photosensitive resin 18 corresponding to, for example, the red filter is removed on the colorable resin rf117, and the other portions are coated.
(f) これを着色し乾燥する。着色された領域は1
4である。(f) Color this and dry it. The colored area is 1
It is 4.
(g) 残っている感光性樹脂層を剥離する。(g) Peel off the remaining photosensitive resin layer.
fh) 青色フィルタ、緑色フィルタに対しても同様
の操作を行う。fh) Perform the same operation for the blue filter and green filter.
以上の様に製造を行えば、同一平面上に多色のパターン
をもった光学フィルターが形成できる。By manufacturing as described above, it is possible to form an optical filter having multicolored patterns on the same plane.
従来の多色光学フィルタの製造方法は以上のように構成
されているので、フィルタパターンのサイズの下限は感
光性樹脂層のバターニングの下限に依存している。その
ためミクロン単位でのサイズの制御が難しいという問題
があった。Since the conventional method for manufacturing a polychromatic optical filter is configured as described above, the lower limit of the size of the filter pattern depends on the lower limit of patterning of the photosensitive resin layer. Therefore, there was a problem in that it was difficult to control the size in microns.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、より微細なフィルタパターンを形成でき、か
つその工程を簡略化できる多色光学フィルタの製造方法
を提供することを目的とする。This invention was made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a polychromatic optical filter that can form a finer filter pattern and simplify the process. .
この発明に係る多色光学フィルタの製造方法は、可染樹
脂体の上に不飽和結合を持つ分子で構成されたラングミ
ュア・ブロジェット膜(LB膜)を積層し、電離放射線
を該LB膜の所定の部分に照射する事により重合させ、
未反応の単量体分子を溶出させて防染マスクパターンを
形成し、このマスクパターンを防染膜として可染性樹脂
体を染色することによりカラーフィルタを形成するよう
にしたものである。The method for manufacturing a polychromatic optical filter according to the present invention involves laminating a Langmuir-Blodgett film (LB film) composed of molecules having unsaturated bonds on a dyeable resin body, and applying ionizing radiation to the LB film. Polymerize by irradiating the specified area,
A color filter is formed by eluting unreacted monomer molecules to form an anti-dyeing mask pattern, and using this mask pattern as an anti-dyeing film to dye a dyeable resin body.
この発明においては、LB膜を従来のレジスト材料のか
わりに使っているから、その分解能において優れている
。また、LB膜は従来のレジストより膜厚が薄いので、
ドライエツチング、たとえばプラズマエツチング、リア
クティブイオンエツチング、イオンビームエツチング等
により容易に剥離できる。In this invention, since the LB film is used in place of the conventional resist material, its resolution is excellent. In addition, since the LB film is thinner than conventional resist,
It can be easily removed by dry etching, such as plasma etching, reactive ion etching, ion beam etching, etc.
第1図(al〜(hlはこの発明の一実施例による多色
光学フィルタの製造方法を示す断面図である。図におい
て、1,2は従来装置と全く同一のもので、2はイメー
ジセンサの基板、1はフォトディテクタ一部である。3
は可染性樹脂体、4は不飽和結合を持つ分子で構成され
たラングミュア・ブロジェット膜(LB膜)で、例えば
ω−トリコセン酸の遊離酸LB膜である。5は染色後の
被染色部である。7は従来と同じ保護膜である。FIG. 1 (al~(hl) is a sectional view showing a method of manufacturing a polychromatic optical filter according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 and 2 are exactly the same as the conventional device, and 2 is an image sensor. 1 is a part of the photodetector. 3
4 is a dyeable resin body, and 4 is a Langmuir-Blodgett film (LB film) composed of molecules having unsaturated bonds, such as a free acid LB film of ω-tricosenic acid. 5 is the dyed part after dyeing. 7 is the same protective film as the conventional one.
次に本実施例の製造方法について説明する。Next, the manufacturing method of this example will be explained.
イメージセンサ基板2上にフォトディテクタ2を埋設し
たもの(第1図(a))の上に可染性樹脂体3を積層し
たものが第1図(′b)である。さらにこの上にLB膜
4を積層したものが同図(C1であり、これを電子線レ
ジストとして用いる。そして電子線による露光を行なう
と、その露光部分は重合し、エタノールを現像液として
用いると未反応の部分が溶出する。このようにしてフォ
トディテクタ1の部分を露出させたのが同図(d)であ
る。ついでこの防染マスクパターンをマスクとして所定
の分光特性を有する染料を用いて染色し、被染色部5を
形成する(同図(e))。その後LB膜4を剥離しく同
図(f))、保護膜7を積層する(同図(g))。これ
によりある色のフィルタが形成できる。多色のカラーフ
ィルタを作るときには、fa)〜(f)の工程を繰り返
せば同図(h)のような多色のカラーフィルタを形成で
きる。FIG. 1('b) shows a structure in which a photodetector 2 is embedded on an image sensor substrate 2 (FIG. 1(a)) and a dyeable resin body 3 is laminated thereon. Furthermore, the LB film 4 laminated on top of this is shown in the same figure (C1), and this is used as an electron beam resist.When exposed to electron beam, the exposed part polymerizes, and when ethanol is used as a developer, The unreacted portion is eluted. The photodetector 1 is exposed in this way, as shown in FIG. Then, the dyed portion 5 is formed ((e) in the same figure).The LB film 4 is then peeled off ((f) in the same figure), and the protective film 7 is laminated ((g) in the same figure). This allows a filter of a certain color to be formed. When making a multicolor color filter, repeating the steps fa) to (f) makes it possible to form a multicolor color filter as shown in FIG. 2(h).
このような本実施例製造法においては、可染性樹脂体の
上にLBH*を積層し、それを所定部のみ重合させ他は
溶出させて防染マスクを作り染色するようにしたので、
ミクロン単位でのより微細なフィルタパターンの形成が
可能となり、また、その製造工程も従来に較べて簡略化
できる。In the manufacturing method of this embodiment, LBH* is layered on top of the dyeable resin body, and only a predetermined portion of the LBH* is polymerized and the rest is eluted to create a dye resist mask and dye it.
It becomes possible to form a finer filter pattern in micron units, and the manufacturing process can be simplified compared to the conventional method.
なお上記実施例ではイメージセンサを形成したシリコン
等の基板上に直接フィルタを形成する例を示したが、電
子線露光時におけるチャージアンプを防ぐ手段、例えば
ITOなどの透明電極や導電性透明ポリマーの薄膜等で
基板表面を処理するなどの方法を併用すれば、ガラス基
板上にも上述と同様にしてカラーフィルタを形成でき、
貼り合せ用カラーフィルタとすることも可能である。In the above embodiment, an example was shown in which a filter was formed directly on a substrate such as silicon on which an image sensor was formed, but it is also possible to use means to prevent charge amplifiers during electron beam exposure, such as transparent electrodes such as ITO or conductive transparent polymers. If a method such as treating the substrate surface with a thin film is used in combination, a color filter can be formed on a glass substrate in the same manner as described above.
It is also possible to use it as a color filter for bonding.
以上のように、この発明に係る多色光学フィルタの製造
方法によれば、防染マスクパターンにLB膜を使用する
ようにしたので、従来より微細な染色パターンが得られ
、またその工程が簡単であり、剥離も容易となる効果が
得られる。As described above, according to the method for manufacturing a multicolor optical filter according to the present invention, since the LB film is used for the resist dyeing mask pattern, a finer dyeing pattern can be obtained than before, and the process is simpler. Therefore, the effect of facilitating peeling can be obtained.
第1図fa)〜(h)はこの発明の一実施例による製造
方法の製造フロー図、第2図(a)〜(h)は従来の製
造方法の製造フロー図である。
図において、1はフォトディテクター、2はイメージセ
ンサ−基板、3は可染性樹脂体、4はLB膜、5,8は
被染色部、7は保護膜、12はガラス基板、13,14
.15.16はそれぞれ黒色、青色、赤色、緑色フィル
タ、17は可染性樹脂、18は感光性樹脂層、19はパ
ターン原図(乾Fi)である。
なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。FIGS. 1fa) to (h) are manufacturing flow diagrams of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2(a) to (h) are manufacturing flow diagrams of a conventional manufacturing method. In the figure, 1 is a photodetector, 2 is an image sensor substrate, 3 is a dyeable resin body, 4 is an LB film, 5 and 8 are parts to be dyed, 7 is a protective film, 12 is a glass substrate, 13 and 14
.. 15 and 16 are black, blue, red, and green filters, 17 is a dyeable resin, 18 is a photosensitive resin layer, and 19 is a pattern original (dry Fi). Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.
Claims (2)
されたラングミュア・ブロジェット膜を積層する工程と
、 これに電離放射線を所定の部分に照射してこれを重合さ
せ、未反応の単量体分子を溶出させて防染マスクパター
ンを作る工程と、 該防染マスクパターンを用いて染色する工程と、該防染
マスクパターンを剥離する工程とを含むことを特徴とす
る多色光学フィルタの製造方法。(1) The process of laminating a Langmuir-Blodgett film composed of molecules with unsaturated bonds on top of the dyeable resin body, and irradiating the film with ionizing radiation to predetermined areas to polymerize it and leave it unsaturated. A multi-purpose dyeing method characterized by comprising the steps of eluting reaction monomer molecules to form a resist dye mask pattern, dyeing using the resist dye mask pattern, and peeling off the resist dye mask pattern. A method of manufacturing a color optical filter.
り剥離することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の多色光学フィルタの製造方法。(2) The method for manufacturing a multicolor optical filter according to claim 1, characterized in that the resist mask pattern is removed by dry etching.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200296A JPS6259902A (en) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | Manufacturing method of polychromatic optical filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200296A JPS6259902A (en) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | Manufacturing method of polychromatic optical filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259902A true JPS6259902A (en) | 1987-03-16 |
Family
ID=16421955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60200296A Pending JPS6259902A (en) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | Manufacturing method of polychromatic optical filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259902A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107571A (en) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Semiconductor image pick-up device |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60200296A patent/JPS6259902A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107571A (en) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Semiconductor image pick-up device |
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