JPS6259902A - 多色光学フイルタの製造方法 - Google Patents
多色光学フイルタの製造方法Info
- Publication number
- JPS6259902A JPS6259902A JP60200296A JP20029685A JPS6259902A JP S6259902 A JPS6259902 A JP S6259902A JP 60200296 A JP60200296 A JP 60200296A JP 20029685 A JP20029685 A JP 20029685A JP S6259902 A JPS6259902 A JP S6259902A
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- JP
- Japan
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- manufacturing
- optical filter
- film
- mask pattern
- resist
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は固体撮像素子等に使用してカラー撮像を可能
にする多色光学フィルタの製造方法に関するものである
。
にする多色光学フィルタの製造方法に関するものである
。
第２図（ａｌ 〜（ｈｌは例えば特開昭４８−６３７３
９号公報に示された従来の同一平面上に異なる光学特性
を有するフィルターを形成するための製造方法を示し、
図において１２は透明ガラス基板、１３，１４゜１５．
１６はそれぞれ黒色、青色、緑色、赤色の綿状フィルタ
ー素子、１７は可染性樹脂、１８は感光性樹脂層、１９
はパターン原図となる乾板である。
９号公報に示された従来の同一平面上に異なる光学特性
を有するフィルターを形成するための製造方法を示し、
図において１２は透明ガラス基板、１３，１４゜１５．
１６はそれぞれ黒色、青色、緑色、赤色の綿状フィルタ
ー素子、１７は可染性樹脂、１８は感光性樹脂層、１９
はパターン原図となる乾板である。
次に製造フローについて説明する。
ｆａ） ガラス基板１２にクロム１３を真空蒸着する
。
。
（′ｂ） クロム１３をエツチングすることによりパ
ターンを形成する。
ターンを形成する。
（Ｃ） 被着色性の樹脂１７を塗布する。
（ｄｌ その上に感光性樹脂１８を塗布する。次に乾
板（パターン原図）１９を密着させ、露光、次いで現象
する。
板（パターン原図）１９を密着させ、露光、次いで現象
する。
（ｉｌり こうして被着色性樹脂ｒｆ１１７の上で感
光性樹脂１８の例えば赤色フィルターのみに対応する部
分のみが取り除かれ、他の部分は被膜されている。
光性樹脂１８の例えば赤色フィルターのみに対応する部
分のみが取り除かれ、他の部分は被膜されている。
（ｆ） これを着色し乾燥する。着色された領域は１
４である。
４である。
（ｇ） 残っている感光性樹脂層を剥離する。
ｆｈ） 青色フィルタ、緑色フィルタに対しても同様
の操作を行う。
の操作を行う。
以上の様に製造を行えば、同一平面上に多色のパターン
をもった光学フィルターが形成できる。
をもった光学フィルターが形成できる。
従来の多色光学フィルタの製造方法は以上のように構成
されているので、フィルタパターンのサイズの下限は感
光性樹脂層のバターニングの下限に依存している。その
ためミクロン単位でのサイズの制御が難しいという問題
があった。
されているので、フィルタパターンのサイズの下限は感
光性樹脂層のバターニングの下限に依存している。その
ためミクロン単位でのサイズの制御が難しいという問題
があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、より微細なフィルタパターンを形成でき、か
つその工程を簡略化できる多色光学フィルタの製造方法
を提供することを目的とする。
たもので、より微細なフィルタパターンを形成でき、か
つその工程を簡略化できる多色光学フィルタの製造方法
を提供することを目的とする。
この発明に係る多色光学フィルタの製造方法は、可染樹
脂体の上に不飽和結合を持つ分子で構成されたラングミ
ュア・ブロジェット膜（ＬＢ膜）を積層し、電離放射線
を該ＬＢ膜の所定の部分に照射する事により重合させ、
未反応の単量体分子を溶出させて防染マスクパターンを
形成し、このマスクパターンを防染膜として可染性樹脂
体を染色することによりカラーフィルタを形成するよう
にしたものである。
脂体の上に不飽和結合を持つ分子で構成されたラングミ
ュア・ブロジェット膜（ＬＢ膜）を積層し、電離放射線
を該ＬＢ膜の所定の部分に照射する事により重合させ、
未反応の単量体分子を溶出させて防染マスクパターンを
形成し、このマスクパターンを防染膜として可染性樹脂
体を染色することによりカラーフィルタを形成するよう
にしたものである。
この発明においては、ＬＢ膜を従来のレジスト材料のか
わりに使っているから、その分解能において優れている
。また、ＬＢ膜は従来のレジストより膜厚が薄いので、
ドライエツチング、たとえばプラズマエツチング、リア
クティブイオンエツチング、イオンビームエツチング等
により容易に剥離できる。
わりに使っているから、その分解能において優れている
。また、ＬＢ膜は従来のレジストより膜厚が薄いので、
ドライエツチング、たとえばプラズマエツチング、リア
クティブイオンエツチング、イオンビームエツチング等
により容易に剥離できる。
第１図（ａｌ〜（ｈｌはこの発明の一実施例による多色
光学フィルタの製造方法を示す断面図である。図におい
て、１，２は従来装置と全く同一のもので、２はイメー
ジセンサの基板、１はフォトディテクタ一部である。３
は可染性樹脂体、４は不飽和結合を持つ分子で構成され
たラングミュア・ブロジェット膜（ＬＢ膜）で、例えば
ω−トリコセン酸の遊離酸ＬＢ膜である。５は染色後の
被染色部である。７は従来と同じ保護膜である。
光学フィルタの製造方法を示す断面図である。図におい
て、１，２は従来装置と全く同一のもので、２はイメー
ジセンサの基板、１はフォトディテクタ一部である。３
は可染性樹脂体、４は不飽和結合を持つ分子で構成され
たラングミュア・ブロジェット膜（ＬＢ膜）で、例えば
ω−トリコセン酸の遊離酸ＬＢ膜である。５は染色後の
被染色部である。７は従来と同じ保護膜である。
次に本実施例の製造方法について説明する。
イメージセンサ基板２上にフォトディテクタ２を埋設し
たもの（第１図（ａ））の上に可染性樹脂体３を積層し
たものが第１図（′ｂ）である。さらにこの上にＬＢ膜
４を積層したものが同図（Ｃ１であり、これを電子線レ
ジストとして用いる。そして電子線による露光を行なう
と、その露光部分は重合し、エタノールを現像液として
用いると未反応の部分が溶出する。このようにしてフォ
トディテクタ１の部分を露出させたのが同図（ｄ）であ
る。ついでこの防染マスクパターンをマスクとして所定
の分光特性を有する染料を用いて染色し、被染色部５を
形成する（同図（ｅ））。その後ＬＢ膜４を剥離しく同
図（ｆ））、保護膜７を積層する（同図（ｇ））。これ
によりある色のフィルタが形成できる。多色のカラーフ
ィルタを作るときには、ｆａ）〜（ｆ）の工程を繰り返
せば同図（ｈ）のような多色のカラーフィルタを形成で
きる。
たもの（第１図（ａ））の上に可染性樹脂体３を積層し
たものが第１図（′ｂ）である。さらにこの上にＬＢ膜
４を積層したものが同図（Ｃ１であり、これを電子線レ
ジストとして用いる。そして電子線による露光を行なう
と、その露光部分は重合し、エタノールを現像液として
用いると未反応の部分が溶出する。このようにしてフォ
トディテクタ１の部分を露出させたのが同図（ｄ）であ
る。ついでこの防染マスクパターンをマスクとして所定
の分光特性を有する染料を用いて染色し、被染色部５を
形成する（同図（ｅ））。その後ＬＢ膜４を剥離しく同
図（ｆ））、保護膜７を積層する（同図（ｇ））。これ
によりある色のフィルタが形成できる。多色のカラーフ
ィルタを作るときには、ｆａ）〜（ｆ）の工程を繰り返
せば同図（ｈ）のような多色のカラーフィルタを形成で
きる。
このような本実施例製造法においては、可染性樹脂体の
上にＬＢＨ＊を積層し、それを所定部のみ重合させ他は
溶出させて防染マスクを作り染色するようにしたので、
ミクロン単位でのより微細なフィルタパターンの形成が
可能となり、また、その製造工程も従来に較べて簡略化
できる。
上にＬＢＨ＊を積層し、それを所定部のみ重合させ他は
溶出させて防染マスクを作り染色するようにしたので、
ミクロン単位でのより微細なフィルタパターンの形成が
可能となり、また、その製造工程も従来に較べて簡略化
できる。
なお上記実施例ではイメージセンサを形成したシリコン
等の基板上に直接フィルタを形成する例を示したが、電
子線露光時におけるチャージアンプを防ぐ手段、例えば
ＩＴＯなどの透明電極や導電性透明ポリマーの薄膜等で
基板表面を処理するなどの方法を併用すれば、ガラス基
板上にも上述と同様にしてカラーフィルタを形成でき、
貼り合せ用カラーフィルタとすることも可能である。
等の基板上に直接フィルタを形成する例を示したが、電
子線露光時におけるチャージアンプを防ぐ手段、例えば
ＩＴＯなどの透明電極や導電性透明ポリマーの薄膜等で
基板表面を処理するなどの方法を併用すれば、ガラス基
板上にも上述と同様にしてカラーフィルタを形成でき、
貼り合せ用カラーフィルタとすることも可能である。
以上のように、この発明に係る多色光学フィルタの製造
方法によれば、防染マスクパターンにＬＢ膜を使用する
ようにしたので、従来より微細な染色パターンが得られ
、またその工程が簡単であり、剥離も容易となる効果が
得られる。
方法によれば、防染マスクパターンにＬＢ膜を使用する
ようにしたので、従来より微細な染色パターンが得られ
、またその工程が簡単であり、剥離も容易となる効果が
得られる。
第１図ｆａ）〜（ｈ）はこの発明の一実施例による製造
方法の製造フロー図、第２図（ａ）〜（ｈ）は従来の製
造方法の製造フロー図である。 図において、１はフォトディテクター、２はイメージセ
ンサ−基板、３は可染性樹脂体、４はＬＢ膜、５，８は
被染色部、７は保護膜、１２はガラス基板、１３，１４
．１５．１６はそれぞれ黒色、青色、赤色、緑色フィル
タ、１７は可染性樹脂、１８は感光性樹脂層、１９はパ
ターン原図（乾Ｆｉ）である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
方法の製造フロー図、第２図（ａ）〜（ｈ）は従来の製
造方法の製造フロー図である。 図において、１はフォトディテクター、２はイメージセ
ンサ−基板、３は可染性樹脂体、４はＬＢ膜、５，８は
被染色部、７は保護膜、１２はガラス基板、１３，１４
．１５．１６はそれぞれ黒色、青色、赤色、緑色フィル
タ、１７は可染性樹脂、１８は感光性樹脂層、１９はパ
ターン原図（乾Ｆｉ）である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）可染性樹脂体の上に不飽和結合を持つ分子で構成
されたラングミュア・ブロジェット膜を積層する工程と
、 これに電離放射線を所定の部分に照射してこれを重合さ
せ、未反応の単量体分子を溶出させて防染マスクパター
ンを作る工程と、 該防染マスクパターンを用いて染色する工程と、該防染
マスクパターンを剥離する工程とを含むことを特徴とす
る多色光学フィルタの製造方法。 - （２）上記防染マスクパターンをドライエッチングによ
り剥離することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の多色光学フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200296A JPS6259902A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 多色光学フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200296A JPS6259902A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 多色光学フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259902A true JPS6259902A (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=16421955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60200296A Pending JPS6259902A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 多色光学フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259902A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107571A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 一次元半導体撮像装置 |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60200296A patent/JPS6259902A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107571A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 一次元半導体撮像装置 |
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