JPS6260734B2 - - Google Patents

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JPS6260734B2
JPS6260734B2 JP53047876A JP4787678A JPS6260734B2 JP S6260734 B2 JPS6260734 B2 JP S6260734B2 JP 53047876 A JP53047876 A JP 53047876A JP 4787678 A JP4787678 A JP 4787678A JP S6260734 B2 JPS6260734 B2 JP S6260734B2
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JP
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nitrile
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laser beam
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JP53047876A
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Akira Kaneko
Masaki Ooya
Masayasu Suzuki
Akio Kobayashi
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Kureha Corp
Original Assignee
Kureha Corp
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Publication date
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Priority to GB7914289A priority patent/GB2019421B/en
Priority to FR7910401A priority patent/FR2424299A1/fr
Priority to NL7903211A priority patent/NL7903211A/xx
Priority to DE19792916603 priority patent/DE2916603A1/de
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Publication of JPS6260734B2 publication Critical patent/JPS6260734B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/18Homopolymers or copolymers of nitriles
    • C08L33/20Homopolymers or copolymers of acrylonitrile
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F279/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
    • C08F279/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00 on to polymers of conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/04Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S525/932Blend of matched optical properties

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  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明はニトリル系共重合䜓からなる透明性、
成圢忠実性、非垯電性に優れた情報デむスクに関
する。 デむスクの片面に情報ピツトを刻み、その衚面
に金属被芆を行ない、デむスクの裏面からレヌザ
ヌ光線を照射しお情報を読み取る方匏の情報デむ
スクずしお各皮方匏のビデオデむスク、オヌデむ
オデむスク等が知られおいる。 かかるデむスク材料ずしおは、硬質塩化ビニル
系暹脂が䞻に考えられおいるが、硬質塩化ビニル
系暹脂には幟぀かの欠陥が指摘されおいる。たず
䞀぀は、暹脂内に熱安定剀、垯電防止剀、滑剀及
び離型剀等の皮々の添加物が混合されおおり、こ
れらが衚面にブリヌドしお光線透過率を経時的に
䜎䞋させたり、或いはこれらの添加量をブリヌド
しない皋床に抑えた堎合にはデむスクの連続成圢
が困難ずなるこずである。硬質塩化ビニル暹脂の
第の欠点は熱安定性、ブリヌド性を損なわずに
垯電防止効果を有する垯電防止剀が芋出されおお
らず、そのため僅かの摩擊によ぀おも塵、ほこり
等が付着しやすく、ノむズ発生の原因ずなるこず
である。かかる問題の解決に装眮ずしお皮々の工
倫が為されおいるが、尚満足される状態ずは皋遠
いものである。 本発明者等はかかる硬質塩化ビニル系暹脂に代
わる暹脂に぀いお長幎にわたり怜蚎を重ねた結果
特殊なニトリル系暹脂が垯電しにくく熱安定性に
優れ、しかも垯電防止剀、滑剀、離型剀、熱安定
剀等の助剀を党く必芁ずしないため塩化ビニル系
暹脂に范べれば透明性及び垯電防止効果を極めお
長い期間にわたり保持できるこずを芋い出した
特願昭51−68406、特願昭51−72022、特願昭51
−148538。 本発明者等は曎にレヌザヌ光線により情報を読
みずる方匏の情報デむスクに最適な材料に぀いお
研究を重ねたのであるが、かかる情報デむスクず
しおは、非垯電性である以倖に情報蚘録密床が高
い故に情報ピツトを刻むためのスタンパヌの埮现
な凹凞を忠実に再珟するこずができるように暹脂
材料の成圢忠実性及びレヌザヌ光線を十分に透過
する透明性が特に芁求されるのである。かかる成
圢忠実性は単に暹脂材料の成圢枩床での溶融粘床
が関係しおいるばかりでなく、溶融匟性も倧きな
圱響を及がすこずが知られおいるが、本発明者等
の怜蚎によれば溶融匟性の䞀぀の目安ずしおダむ
スり゚ルを考えるこずが出来、ニトリル系ランダ
ム共重合䜓よりゎム幹重合䜓盞を有するニトリル
系共重合䜓はダむスり゚ルが小さく䞔぀情報のデ
むスクの成圢忠実性が良いこずを芋出したのであ
る。曎におどろくべきこずにゎム幹重合䜓をニト
リル系共重合䜓マトリツクス䞭に分散した暹脂は
ゎム幹重合䜓に比べお透明性が改良されるこずが
わか぀た。 特にゎム幹重合䜓の粒子が0.03〜0.3Όの範囲
の堎合に䞀局透明性が改良される。 かかる事実の䞭でも特にゎム幹重合䜓盞を含む
ニトリル系暹脂の方がゎム幹重合䜓盞を含たない
ニトリル系暹脂より透明性に斌お優れおいるこず
は䞀芋奇異に感じられる点である。勿論ゎム幹重
合䜓盞ずマトリツクス盞ずの屈折率が同䞀ずみな
せる皋床迄調敎しなければならないのは云う迄も
ない。 ここでマトリツクス盞ずはニトリル系グラフト
共重合䜓の枝重合䜓の郚分ずニトリル系ランダム
共重合䜓を合わせたものをさすものずする。 䞊述の劂く、本発明情報デむスクはレヌザヌ光
線を透過するものである関係䞊、その暹脂材料
は、特にゎム幹重合䜓盞ずマトリツクス盞ずの屈
折率が同䞀ずみなせる皋床迄調敎するこずが必芁
であるが、本発明者等はゎム幹重合䜓盞ずマトリ
ツクス盞ずの屈折率の差が0.008以䞋である堎
合、デむスクの厚さmmに察するゞ゚チルフタレ
ヌト䞭に斌ける䜿甚レヌザヌ光線の光線透過率が
95以䞊ずなり、優れた透明床を有するデむスク
甚暹脂材料が埗られるこずを知぀た。ここにマト
リツクス盞ずは暹脂材料がニトリル系ランダム共
重合䜓を含たないずきは、ニトリル系グラフト重
合䜓の枝重合䜓をさし、ニトリル系ランダム共重
合䜓を含むずきは、該ランダム共重合䜓ず枝重合
䜓からなる盞をさす。 ニトリル系ランダム共重合䜓ず枝重合䜓がマト
リツクス盞を圢成する堎合は、そのマトリツクス
盞の屈折率は次の匏で衚わされる。 natφφφφ ここにnat、g、rはそれぞれマトリツクス
盞、枝重合䜓盞、ランダム重合䜓盞の屈折率を瀺
し、φg、φrは党暹脂材料䞭の枝重合䜓及びラン
ダム重合䜓の容積分率を瀺す。 尚、これらニトリル共重合䜓以倖の暹脂が混合
される堎合にはnatは䞊ず類䌌の匏によ぀お蚈
算され、䜕れにしおもゎム幹重合䜓盞ずマトリツ
クス盞の屈折率の差が0.008以䞋であるこずが必
芁である。 このように透明性のための調敎をした䞊で比范
するずゎム幹重合䜓盞の存圚する系の方が透明性
が高いのである。本発明者等はこの点に就いおも
研究を積み䞊げた結果、情報デむスク甚暹脂材料
の補造のためには成圢性の面からかなり倚量の分
子量調節剀が必芁ずされるため、必然的に生ずる
䜎分子量のニトリル系化合物及び重合助剀等の䜎
分子量物がかかるゎム盞に吞収される䜎分子量
物がゎム分子間に浞透するため透明性が良くな
るのに察しお、かかるゎム盞が存圚しない堎合に
はマトリツクス共重合䜓ず䜎分子量物が盞分離を
呈しお透明性を䜎䞋させるものであろうず考えら
れるに至぀た。たた組成䞭にゎム分子が分散する
にしおもマトリツクスポリマヌずの結合のない単
なる混合物では同様に異質な䞡者の間で盞分離が
起り、透明性を䜎䞋する。尚、かかる仮説は本発
明の範囲を特蚱請求の範囲に蚘茉する範囲以䞊に
限定する趣旚のものでないこずはいう迄もない。 以䞋本発明を詳现に説明する。 本発明情報デむスクはデむスクの片面に情報ピ
ツトを刻み、その衚面に金属被芆を行ない、裏面
からレヌザヌ光線を照射しお情報を読みずる方匏
に甚いられるものである。ここでデむスクは単に
䞀枚からなるものでも良いし、枚からなり各々
の金属被芆されおいる面を適圓な暹脂を介しお接
着せしめたものでも良い。 本発明情報デむスクの暹脂材料はニトリル系グ
ラフト共重合䜓〜100重量ずニトリル系ラン
ダム共重合䜓〜94重量からなる。ニトリル系
グラフト共重合䜓が重量以䞋ではゎム盞が埌
述する劂く暹脂材料䞭少なくずも重量含たれ
なければならない故、ゎム盞の分散に関䞎する枝
重合䜓が少なくなる。その為ゎム盞の分散が均䞀
化され難くなり、䜎分子量物が吞収されない郚䜍
を生じ、䜎分子量物は暹脂材料䞭で分散粒埄が倧
きくな぀お透明性を損うので奜たしくない。 情報デむスクを構成する暹脂材料は、䞊蚘ニト
リル系共重合䜓の他に盞溶性の良い他の暹脂を
〜10重量含めるこずもできる。しかし、奜たし
くは䞊蚘ニトリル系共重合䜓又はそれらの混合物
である。 この䞭ニトリル系グラフト共重合䜓を構成する
ゎム幹重合䜓盞はガラス転移枩床を℃以䞋ず
し、暹脂材料䞭〜25重量、奜たしくは〜20
重量からなる。ゎム幹重合䜓盞が重量以䞋
特に重量以䞋になるず䜎分子量を吞収し難く
なり、透明性を改良する効果が枛少するず共に成
圢忠実性も䜎䞋するためであり、20重量以䞊、
特に25重量以䞊になるず剛性が䜎䞋しすぎ䞔成
圢性が悪くなるためである。ゎム幹重合䜓の構成
単䜍ずしおは䟋えば共圹ゞオレフむン、アルキル
基の炭玠数が〜12個のアクリル酞アルキル゚ス
テルのいずれか、又は䞡者からなるものを少なく
ずも䞻成分ずし、これら以倖に適宜䞍飜和ニトリ
ル、メタクリル酞アルキル゚ステル、芳銙族ビニ
ル及び共圹ゞ゚ンあるいはアクリル酞アルキル゚
ステルず共重合可胜な単官胜性又は倚官胜性単量
䜓等から遞ばれた皮以䞊からなるものが甚いら
れ、䞔぀耐衝撃性の点からゎム盞のガラス転移枩
床が℃以䞋になるように遞択される。 この䞭でも補造の際のバリ取り及び䜿甚時に斌
る耐衝撃匷床を向䞊させるず云う点で共圹ゞオレ
フむンを䞻成分ずしたものが特に奜たしく甚いら
れる。 ニトリル系グラフト共重合䜓を構成する枝重合
䜓盞及びニトリル系ランダム共重合䜓は構成単䜍
ずしお䞍飜和ニトリルを暹脂材料䞭40〜90重量
、奜たしくは50〜80重量含み、この他アクリ
ル酞アルキル゚ステル、メタクリル酞アルキル゚
ステル、芳銙族ビニル、アクリル酞、メタクリル
酞、アクリルアミド、ビニル゚ステル、アルキル
ビニル゚ヌテル等から遞ばれた単量䜓の少なくず
も皮10〜60重量及び所望により䞍飜和ニトリ
ルず共重合可胜な他の単量䜓10重量以䞋からな
る。䞍飜和ニトリルずしおは、アクリロニトル、
メタアクリロニトルが特に奜たしく甚いられる。
実質的に䞊蚘比率にある単量䜓混合物を共重合す
るか、あるいは前蚘ゎム幹重合䜓にグラフト重合
するこずにより、ニトリル系ランダム共重合䜓あ
るいはニトリル系グラフト共重合䜓の枝重合䜓が
圢成される。なかでもアクリロニトリルずアクリ
ル酞゚ステルを䞻成分ずする単量䜓混合物、又は
メタクリロニトリルずメタクリル酞゚ステル又
は及びスチレンを䞻成分ずする単量䜓混合物が
特に奜たしくこの目的に甚いられる。 ニトリル系グラフト共重合䜓の枝重合䜓あるい
はニトリル系ランダム共重合䜓䞭の䞍飜和ニトリ
ルが50重量以䞋、特に40重量以䞋では非垯電
性が䞍十分であり、80重量以䞊、特に90重量
以䞊では溶解粘床が倧きくなり、特にアクリロニ
トリルの堎合には、熱安定性も悪くな぀お成圢困
難ずなるためである。尚、枝重合䜓盞ずニトリル
系ランダム共重合䜓盞ずの組成は無論䞊蚘範囲内
に斌お同䞀であ぀おも良いし、異な぀おも良いこ
ずは云う迄もないが、レヌザヌ光線に察する透明
性が必芁ずされる故、ゎム幹重合䜓ずマトリツク
ス盞ずの屈折率の差が䜿甚レヌザヌ光の波長にお
いお0.008以䞋になるように盞互の屈折率を十分
近づけ、ゞ゚チルフタレヌト䞭に斌る暹脂の厚さ
mmのレヌザヌ光線に察する光線透過率を95以
䞊、奜たしくは97以䞊、曎に奜たしくは98以
䞊ずするこずが必芁である。尚、ここでレヌザヌ
光線に察する光線透過率の枬定法はダブルビヌム
匏の自蚘分光光床蚈を甚い、詊料偎光路ず参照偎
光路の双方にcm角のゞ゚チルフタレヌトを満た
した石英セルをセツトし、枬定察称暹脂からなる
厚さmmの暹脂板を詊料偎の石英セル䞭にその面
がビヌムに垂盎になる様にセツトしお求めた䜿甚
レヌザヌ光線に斌る光線透過率である。 䞊蚘本発明暹脂デむスクを構成する暹脂材料は
ダむスり゚ル比が小さく、情報デむスクの成圢忠
実性が良奜であるが、より奜たしくはダむスの圢
状をmmφ×10mmずする高化匏フロヌテスタヌを
甚い、剪断速床を140sec-1、ダむス内の暹脂枩床
を160℃ずする条件䞋に斌おダむスり゚ル比が
1.60以䞋、より䞀局奜たしくは1.55以䞋ずする様
に組成が遞択される。 䞊蚘ニトリル系共重合䜓はラゞカル開始剀及び
必芁により重合床調節剀を甚いお公知の重合方
法、䟋えば乳化重合法、懞濁重合法により埗られ
る。この䞭ニトリル系グラフト共重合䜓を構成す
るゎムの幹重合䜓の平均粒子埄はグラフト重合前
で枬定しお0.3Ό以䞋、奜たしくは0.1Ό以䞋にす
るこずが必芁である。0.1Ό以䞊、特に0.3Ό以䞊
になるず透明性に悪圱響を䞎えるためである。
又、グラフト共重合䜓は任意のグラフト重合段数
のものが甚いられ、各グラフト重合段階のグラフ
ト組成は䞊蚘蚘茉の組成範囲内であれば任意のも
のが甚いられ埗る。本発明情報デむスクを構成す
る暹脂材料は、そのたたでも非垯電性であるが、
堎合によ぀おは垯電防止剀を添加するこずもでき
る。この他、顔料、離型剀、滑剀、加工助剀等を
添加するこずもできる。 本発明情報デむスクは、䞊述の暹脂材料を甚い
お公知の方法、䟋えば加熱プレス或いは射出成圢
等により成圢されお補造されるが、通垞の成圢条
件で暹脂材料䞭に存圚する䜎分子量物は分散され
おいるゎム盞に容易に移行するこずができる。 勿論必芁があれば、成圢前に䜎分子量物を抜出
しお成圢しおも良いこずは云う迄もない。本発明
の情報デむスクを構成する暹脂材料は䞊蚘のよう
な各成分間での調敎を行うこずにより䞀般に5000
〜20000Åの範囲の波長のレヌザヌ光線に察しお
95以䞊の光線透過率を䞎えるこずができる。適
圓なレヌザヌ光線の䟋をあげれば波長6328Åの
He−Neレヌザヌ光線である。 以䞋、本発明を実斜䟋により説明する。実斜䟋
䞭の郚、は各々重量郚、重量を衚わすものず
する。 実斜䟋  (A) 撹拌矜根付10ステンレス・スチヌル補オヌ
トクレヌブに ・ブタゞ゚ン 35郚 アクリル酞メチル 15郚 タヌシダリヌドデシルメルカプタン 0.25郚 ゞむ゜プロピルベンれンハむドロパヌオキサむ
ド 0.1郚 ホルムアルデヒドナトリりムスルホキシレヌト
0.05郚 硫酞第䞀鉄・氎塩 0.002郚 ゚チレンゞアミンテトラ酢酞ナトリりム塩
0.003郚 ピロリン酞ナトリりム 0.25郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム 0.25郚 脱むオン氎 150郚 からなる分散液を氎酞化ナトリりム氎溶液でPH
に調敎しお仕蟌み充分に窒玠眮換し、40℃で
20時間撹拌した。収率は99であり平均粒埄
0.075Όのゎムラテツクスが埗られた。䞊蚘
ゎムラテツクスに アクリロニトリル 27.5郚 アクリル酞゚チル 22.5郚 ノルマルドデシルメチルカプタン 1.2郚 ゞむ゜プロピルベンれンハむドロパヌオキサむ
ド 0.1郚 ホルムアルデヒドナトリりムスルホキシレヌト
0.05郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム 0.1郚 脱むオン氎 150郚 を添加し、窒玠眮換し40℃で20時間撹拌した埌 ・−ゞタヌシダリヌブチルメチルプノ
ヌル 0.25郚 ゞラりリルチオゞプロピオネヌト 0.15郚 ベンれン 0.25郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム
氎溶液4.35郚をホモゞナむザヌで撹拌混合しお
添加した。 (B) 又、別に撹拌矜根付の10ステンレススチヌ
ル補オヌトクレヌブに アクリロニトリル 60郚 アクリル酞メチル 40郚 ノルマルドデシルメルカプタン 1.5郚 過硫酞カリりム 0.04郚 亜硫酞氎玠ナトリりム 0.01郚 脱むオン氎 300郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム 1.0郚 からなる分散液を硫酞氎溶液でPHに調敎しお
仕蟌み、充分に窒玠眮換し50℃で20時間撹拌し
た。(A)で埗られたラテツクス12郚に察しお(B)で
埗られたラテツクス88郚を加えラテツクス状の
たた撹拌し、充分に混合した埌硫酞アルミ
ニりム氎溶液12.5郚を加え析出させ、ピロリン
酞ナトリりム飜和氎溶液でPHに調敎した。脱
氎掗浄埌50℃で24時間也燥し、(A)(B)党䜓ずしお
の収率が97の癜色粉末を埗た。この粉末を衚
面枩床140℃のロヌルで分間混緎し、160℃
200Kgcm2で分間プレス成圢詊隓片を䜜り、
詊隓片を20℃、50RHの雰囲気で週間保存
した埌、諞物性を衚に瀺す枬定法により枬定
し、衚に瀺す結果を埗た。又この粉末を150
℃の暹脂枩床で抌出機から抌出し成圢したペレ
ツトを甚いお垞法により情報デむスクを䜜぀た
ずころ、熱安定性が極めお良く長時間連続成圢
が可胜であり、䞔぀型離れ性が良奜で成圢䞊の
取扱いが極めお容易であ぀た。 実斜䟋  撹拌矜根付10ステンレス補オヌトクレヌブに ・−ブタゞ゚ン 1.8郚 メタクリル酞メチル 4.2郚 タヌシダリヌドデシルメルカプタン 0.03郚 ゞむ゜プロピルベンれンハむドロパヌオキサむド
0.012郚 ホルムアルデヒドナトリりムスルホキシレヌト
0.003郚 硫酞第䞀鉄氎塩 0.000192郚 ゚チレンゞアミンテトラ酢酞・ナトリりム塩
0.000288郚 ピロリン酞ナトリりム 0.003郚 ドデゞルベンれンスルホン酞ナトリりム 0.03郚 脱むオン氎 18郚 からなる氎溶液を氎酞化カリりム氎溶液でPHに
調敎しお仕蟌み、充分に窒玠眮換しお40℃で20時
間撹拌し、収率99、平均粒子埄0.075Όのゎ
ムラテツクスが埗られた。 䞊蚘ゎムラテツクスに アクリロニトリル 56.4郚 アクリル酞メチル 37.8郚 ノルマルドデシルメルカプタン 1.88郚 過硫酞カリりム 0.036郚 亜硫酞氎玠ナトリりム 0.009郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム 0.36郚 脱むオン氎 282郚 0.1N酢酞氎溶液 25郚 0.1N酢酞ナトリりム氎溶液 25郚 を加え、硫酞氎溶液でHzに調敎しお充分窒玠眮
換した埌50℃で20時間撹拌した。生成ラテツクス
を実斜䟋ず同様な方法で埌凊理し、収率95の
癜色粉末を埗、実斜䟋ず同䞀の方法で詊隓片及
び情報デむスクを䜜り諞物性を枬定し、衚にそ
の結果を蚘した。 実斜䟋  実斜䟋の(A)で埗られたラテツクスず(B)で埗ら
れたラテツクスの混合割合を40郚察60郚にする以
倖は、実斜䟋ず同䞀の方法で詊隓片及び情報デ
むスクを䜜り諞物性を枬定し、結果を衚に蚘し
た。 実斜䟋  実斜䟋の(A)蚘茉のゎム幹重合䜓の組成䞭、
・−ブタゞ゚ンを30郚、アクリル酞メチルを
20郚ずし、枝重合䜓の組成䞭アクリロニトリルを
30郚、アクリル酞メチルを20郚ず倉える以倖は、
実斜䟋ず同䞀の方法で詊隓片及び情報デむスク
を䜜り諞物性を枬定し結果を衚に蚘した。 実斜䟋  実斜䟋の(A)蚘茉のゎム幹重合䜓の組成を アクリル酞ノルマルブチル 32.5郚 スチレン 17.5郚 ゚チレングリコヌルゞメタアクリレヌト 0.5郚 ずし、枝重合䜓の組成を メタアクリロニトリル 25郚 メタクリル酞ノルマルブチル 25郚 ノルマルドデシルメルカプタン 1.0郚 ずし、又(B)蚘茉のニトリル系ランダム共重合䜓の
組成を メタクリロニトリル 50郚 メタクリル酞ノルマルブチル 50郚 ノルマルドデシルメルカプタン 1.0郚 ず倉える以倖は、実斜䟋ず同䞀の方法で詊隓片
及び情報デむスクを䜜り諞物性を枬定し、結果を
衚に蚘した。 比范䟋  撹拌矜根付の10ステンレス・スチヌル補オヌ
トクレヌブに アクリロニトリル 60郚 アクリル酞メチル 40郚 ノルマルドデシルメルカプタン 郚 過硫酞カリりム 0.04郚 亜硫酞氎玠ナトリりム 0.01郚 ドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム 1.0郚 脱むオン氎 300郚 からなる氎溶液を硫酞氎溶液でPHに調敎し、仕
蟌み充分に窒玠眮換し、50℃で15時間撹拌した。 生成ラテツクスを取出し、硫酞アルミニりム氎
溶液で折出させ、その埌ピロリン酞ナトリりム氎
溶液でPHに調敎し、脱氎掗浄埌60℃で24時間
也燥し、収率97の癜色粉末を埗た。これを実斜
䟋ず同様にしお詊隓し、衚の結果を埗た。 比范䟋  実斜䟋の(A)のゎム幹重合䜓の・ブタゞ゚
ンを40郚、アクリル酞メチル15郚をメタクリル酞
メチル10郚ず倉える以倖は実斜䟋ず同様の方法
で詊隓片を䜜り、衚に瀺す結果を埗た。
【衚】
【衚】 ぀た。
【衚】 曎に䞊蚘実斜䟋のいづれも光線透過率が衚に
瀺す6328Åの波長に限らず0.45〜Όの範囲にわ
たり95以䞊を瀺すものである。 かくの劂くゎム幹重合䜓盞の存圚により耐衝撃
性は勿論、透明性、成圢忠実性が増加し、情報デ
むスクずしお極めお優れたものである。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  デむスクの片面に情報ピツトを刻み、その衚
    面に金属被芆を行ない、デむスクの裏面からレヌ
    ザヌ光線を照射しお情報を読みずる方匏の情報デ
    むスクにおいお、次の特城を有するニトリル系グ
    ラフト共重合䜓〜100重量ずニトリル系ラン
    ダム共重合䜓〜94重量からなる透明暹脂材料
    よりなるこずを特城ずする情報デむスク。 (ã‚€) ニトリル系グラフト共重合䜓がゎム幹重合䜓
    を含有し、該ゎム幹重合䜓のガラス転移枩床が
    ℃以䞋であり䞔぀該ゎム幹重合䜓の暹脂材料
    䞭の割合が〜25重量であるこず。 (ロ) ニトリル系グラフト共重合䜓の枝重合䜓の郚
    分ずニトリル系ランダム共重合䜓を合わせたマ
    トリツクス盞が䞍飜和ニトリルを40〜90重量
    含むこず。 (ハ) ゎム幹重合䜓盞ずマトリツクス盞ずの屈折率
    の差が0.008以䞋であるこず。 (ニ) デむスクの厚さmmに察するゞ゚チルフタレ
    ヌト䞭における䜿甚レヌザヌ光線の光線透過率
    が95以䞊であるこず。  ニトリル系グラフト共重合䜓を構成するゎム
    幹重合䜓の平均粒子埄が0.3Ό以䞋であるこずを
    特城ずする特蚱請求の範囲第項に蚘茉の情報デ
    むスク。  前蚘䞍飜和ニトリルず共重合可胜なモノマヌ
    が、アクリル酞アルキル゚ステル、メタクリル酞
    アルキル゚ステル、芳銙族ビニル化合物、アクリ
    ル酞、メタクリル酞、アクリルアミド、ビニル゚
    ステル、アルキルビニル゚ヌテルを含むこずを特
    城ずする特蚱請求の範囲第項乃至第項のいず
    れかに蚘茉の情報デむスク。  前蚘ニトリル系ランダム共重合䜓、およびニ
    トリル系グラフト共重合䜓の枝重合䜓がアクリロ
    ニトリルおよびアクリル酞゚ステルを䞻成分ずす
    るこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項乃至第
    項のいずれかに蚘茉の情報デむスク。  前蚘ニトリル系ランダム共重合䜓、およびニ
    トリル系グラフト共重合䜓の枝重合䜓がメタクリ
    ロニトリルおよびメタクリル酞アルキル゚ステル
    および又はスチレンを䞻成分ずするこずを特城
    ずする特蚱請求の範囲第項乃至第項のいずれ
    かに蚘茉の情報デむスク。  暹脂材料䞭、マトリツクス盞が䞍飜和ニトリ
    ルを40〜80重量含むこずを特城ずする特蚱請求
    の範囲第項乃至第項のいずれかに蚘茉の情報
    デむスク。  ダむスの圢状をmmφ×10mmずする高化匏フ
    ロヌテスタヌを甚い、成圢加工枩床160℃、剪断
    速床140sec-1の条件䞋においお枬定されるダむス
    り゚ル比が1.60以䞋であるこずを特城ずする特蚱
    請求の範囲第項乃至第項のいずれかに蚘茉の
    情報デむスク。  䜿甚レヌザヌ光線が5000〜20000Åの波長を
    有するこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項乃
    至第項のいずれかに蚘茉の情報デむスク。  䜿甚レヌザヌ光線がヘリりム・ネオンレヌザ
    ヌ発振噚から発振されるレヌザヌ光線であるこず
    を特城ずする特蚱請求の範囲第項乃至第項の
    いずれかに蚘茉の情報デむスク。
JP4787678A 1978-04-24 1978-04-24 Transparent resin composition for information disk Granted JPS54140503A (en)

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GB7914289A GB2019421B (en) 1978-04-24 1979-04-24 Transparent resin composition for information signal recording discs
FR7910401A FR2424299A1 (fr) 1978-04-24 1979-04-24 Composition de resine transparente pour disques d'enregistrement de signaux d'information
NL7903211A NL7903211A (nl) 1978-04-24 1979-04-24 Doorzichtige hars-preparaten voor schijven waarop informatie vastgelegd wordt.
DE19792916603 DE2916603A1 (de) 1978-04-24 1979-04-24 Fuer laserstrahlen durchlaessige kunstharzzusammensetzung und verwendung dieser kunstharzmassen zur herstellung von aufzeichnungsplatten

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US4287316A (en) 1981-09-01
GB2019421A (en) 1979-10-31
GB2019421B (en) 1982-09-02
DE2916603A1 (de) 1979-10-31
NL7903211A (nl) 1979-10-26
JPS54140503A (en) 1979-10-31
FR2424299A1 (fr) 1979-11-23

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