JPS6263182A - Rf型イオン源 - Google Patents

Rf型イオン源

Info

Publication number
JPS6263182A
JPS6263182A JP60201591A JP20159185A JPS6263182A JP S6263182 A JPS6263182 A JP S6263182A JP 60201591 A JP60201591 A JP 60201591A JP 20159185 A JP20159185 A JP 20159185A JP S6263182 A JPS6263182 A JP S6263182A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion source
vacuum
type ion
capacitor
discharge container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60201591A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Yoshida
英樹 吉田
Toru Sugawara
亨 菅原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP60201591A priority Critical patent/JPS6263182A/ja
Publication of JPS6263182A publication Critical patent/JPS6263182A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は1人工衛星の姿勢制御を行なうRF型イオン
・エンジンに適したRF型イオン源に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来のRF (Radiofraquency)型イオ
ン・エンジンの構成を第3図に、RF発振器の構成を第
4図に示す、放電容器1に導入、されたHgガス19に
インダクシミンコイル6によって加速された電子が衝突
して電離プラズマを放電室8内に生成し、Hg+イオン
が電極2,3.4で構成される加速電極によって運動エ
ネルギを与えられ、中和器7から放出される電子によっ
て中和化された後、放出されてイオン・エンジンの推力
となる。
インダクシミンコイル6に高周波電流を供給するRF発
振器は高周波発生器9とA級増幅器10と整合器11と
で構成され、高周波電流の搬送には同軸ケーブルを使用
している。整合器11は容量固定のC1コンデンサ13
と容量可変の02コンデンサ12からなり、C2コンデ
ンサ12の容量と周波数を調整してプラズマのインピー
ダンスと整合をとっている。
周波数を変化させるため増幅器10はA級を採用してい
る。容量固定の01コンデンサ13は重量的にそれほど
問題ではないが、容量可変の03コンデンサは重く問題
である。
RF型イオン・エンジンを大型化するためにはコンデン
サC1,C,の耐電圧特性を上げる必要があり、さらに
重量が増加することが予想され大きな問題となっている
〔発明の目的〕 本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、コ
ンデンサC□s C,の軽量化を実行して大型化可能な
RF型イオン源を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明は、別々に構成されていた放電部分と整合器を放
電容器の一部に真空コンデンサ部分を設けて一体化した
ことを特徴とするRF型イオン源である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、整合器は放電容器の一部であり大幅な
軽量化が計れるとともに、コンデンサはインダクシ目ン
コイルの近くにありリード線も短く浮遊容量による異常
発振及び電磁妨害も少ない、大型化可能なRF型イオン
源を構成できる。
〔発明の実施例〕
以下本発明の実施例を詳細に説明する。なお従来装置と
その構成が同一の部分iIついては同一符号を附けてそ
の説明を省略する。第1図および第2図に示すように、
放電容器1の外側に3枚の電極を設けて、真空コンデン
サ12.13を構成し、密封容器14で覆う、真空コン
デンサ12の電極間距離を可変にしておけば、整合器1
1が構成されたことになる。密封容器14は電磁シール
ドの必要がなければ、なくてもよい、地上での実験中、
密封容器14がなければ真空コンデンサ12.13が大
気等にふれる場合が考えられる。このときは密封容器1
4を大気等の圧力に耐えれるようにする必要がある。
第3図に別の実施例を示す、第3図に示すように、放電
容器1の内側に3枚の電極を設けて、真空コンデンサ1
2.13を構成し、真空コンデンサ12の電極間距離を
可変にしておけば整合器11が構成される。Hgガスが
電極に害をおよぼす恐れがある場合は密封容器で覆えば
よい、 Hgガスが電極に害をおよぼす恐れのないとき
は、ガス拡散板5の機 4能を真空コンデンサ12.1
3の電極にもたせることも可能である。
第1図乃至第3図では、電極3枚で真空コンデンサ12
.13を構成する場合について述べたが、要は真空コン
デンサが構成できればよく、第゛2図や第3図の位置、
形状、電極枚数に限定するものではない。又、真空コン
デンサ12−、13の2個により成り立つ整合器11の
場合について説明したが、要はプラズマとインピーダン
ス整合がとれる整合器であればよく、真空コンデンサの
数を2個に限定するものではない。重量の軽い容量固定
のコンデンサは従来どうり放電部分と別にしてもよい。
導入ガスとしてngを用いているが、 l1gガスに限
定するものでもない。
本発明は、RF型イオン・エンジンについて説明したが
、RFタイプの放電室を使用している全ての装置に適用
できる。・例えば、該融合で使用されているプラズマ加
熱用粒子入射装置のRF型イオン源についても全く同じ
ように適用できる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の実施例を示す一部切欠視斜図、第2図
はその断面図、第3図は本発明の別の実施例を示す断面
図、第4図は従来のRF型イオン・エンジンの断面図、
第5図は従来のRF発振器のブロック図である。 1・・・放電容器     2,3.4・・・加速電極
5・・・ガス拡散板 6・・・インダクションコイル 7・・・中和器      8・・・放電室9・・・高
周波発生器   10・・・A級増幅器11・・・整合
器      12・・・可変コンデンサ13・・・固
定コンデンサ  14・・・密封容器代理人 弁理士 
則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男 第  1  図 ==ロ■ロ■ロー   3

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス導入系と放電容器と電極と前記容器の外周に
    設けたインダクションコイルと中和器とRF発振器と加
    速電源等で構成されるイオン源に於いて、放電容器の一
    部に電極機構を設けて真空コンデンサを構成したことを
    特徴とするRF型イオン源。
  2. (2)真空コンデンサの内、1個を容量可変にしたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン
    源。
  3. (3)真空コンデンサを放電容器外部に配置したことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン源
  4. (4)真空コンデンサを密封容器で覆ったことを特徴と
    する特許請求の範囲第3項記載のRF型イオン源。
  5. (5)真空コンデンサを放電容器内部に配置したことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載のRF型イオン源
  6. (6)真空コンデンサにガス拡散機能をもたせたことを
    特徴とする特許請求の範囲第5項記載のRF型イオン源
JP60201591A 1985-09-13 1985-09-13 Rf型イオン源 Pending JPS6263182A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60201591A JPS6263182A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 Rf型イオン源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60201591A JPS6263182A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 Rf型イオン源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6263182A true JPS6263182A (ja) 1987-03-19

Family

ID=16443593

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60201591A Pending JPS6263182A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 Rf型イオン源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6263182A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107725296A (zh) * 2017-09-01 2018-02-23 兰州空间技术物理研究所 一种磁感应强度可调的永磁霍尔推力器磁路结构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107725296A (zh) * 2017-09-01 2018-02-23 兰州空间技术物理研究所 一种磁感应强度可调的永磁霍尔推力器磁路结构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5017835A (en) High-frequency ion source
KR940010844B1 (ko) 이온 원(源)
JP3414398B2 (ja) イオンビームガン
EP0217361A2 (en) Ion source
HK1008110B (en) Radio-frequency ion source
JPH0577142B2 (ja)
US5814940A (en) Radio frequency particle accelerator having means for synchronizing the particle beam
JPS6263182A (ja) Rf型イオン源
JPS63119198A (ja) プラズマ発生装置
JP2603722B2 (ja) 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
JPH0650111B2 (ja) Rf型イオン源
JPH0650110B2 (ja) Rf型イオン源
JPS5812346B2 (ja) プラズマエッチング装置
JP3114547B2 (ja) 高周波イオン源
RU2757210C1 (ru) Волновой плазменный источник электронов
JP2002518165A (ja) プラズマ加工装置
JPH05182597A (ja) 高周波電源
JPH06251738A (ja) 高周波イオン源
JPH0650109B2 (ja) Rf型イオン源
JPS6366826A (ja) 高周波イオン源応用装置
JPH03203146A (ja) イオン源装置
SU1186063A1 (ru) Высокочастотный ускоритель электронов
JP3059525B2 (ja) マイクロトロン電子加速器
JP2953010B2 (ja) 高周波誘導結合プラズマ質量分析計
WO2024238556A1 (en) Inductively coupled plasma apparatus with novel faraday shield