JPS6263676A - ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの強磁性金属めつき方法 - Google Patents
ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの強磁性金属めつき方法Info
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- JPS6263676A JPS6263676A JP20386485A JP20386485A JPS6263676A JP S6263676 A JPS6263676 A JP S6263676A JP 20386485 A JP20386485 A JP 20386485A JP 20386485 A JP20386485 A JP 20386485A JP S6263676 A JPS6263676 A JP S6263676A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明はポリエチレンテレフタレートフィルムの強磁性
金属めっき方法に関するものであり、詳しくは、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム(これを、以下、単にP
R?フィルムという、)の表面に一定の高い触媒活性を
有するパラジウムコロイドを付与し、次いで、磁場中に
て強磁性金属を化学めっきすることにより、上記PET
フィルムの表面に簡単な操作で密着性及び磁気特性の優
れた強磁性金属めっき被膜を再現良く形成することを可
能とした強磁性金属めっき方法に関するものである。
金属めっき方法に関するものであり、詳しくは、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム(これを、以下、単にP
R?フィルムという、)の表面に一定の高い触媒活性を
有するパラジウムコロイドを付与し、次いで、磁場中に
て強磁性金属を化学めっきすることにより、上記PET
フィルムの表面に簡単な操作で密着性及び磁気特性の優
れた強磁性金属めっき被膜を再現良く形成することを可
能とした強磁性金属めっき方法に関するものである。
本発明に係る強磁性金属被膜が形成されたPETフィル
ムの主な用途は、高密度磁気記録媒体である。
ムの主な用途は、高密度磁気記録媒体である。
近時、再生出力や感度等の優れた高密度磁気記録媒体と
しての強磁性金属めっき薄膜が注目されているが、この
ような強磁性めっき薄膜を得る為には、強磁性金属めっ
き被膜が密着性が優れており、且つ、磁気的に異方的で
あることによって優れた磁気特性を有することが必要で
ある。
しての強磁性金属めっき薄膜が注目されているが、この
ような強磁性めっき薄膜を得る為には、強磁性金属めっ
き被膜が密着性が優れており、且つ、磁気的に異方的で
あることによって優れた磁気特性を有することが必要で
ある。
哩ETフィルム表面は一般に不活性であるので、化学め
っきにより、PETフィルム表面に強磁性金属被膜を形
成させるためには、あらかじめPETフィルム表面をエ
ツチング処理した後、金属イオンの還元反応を起こすた
めの触媒としてパラジウムをPETフィルム表面に付与
することが必要である。
っきにより、PETフィルム表面に強磁性金属被膜を形
成させるためには、あらかじめPETフィルム表面をエ
ツチング処理した後、金属イオンの還元反応を起こすた
めの触媒としてパラジウムをPETフィルム表面に付与
することが必要である。
従来、PI!Tフィルム表面にパラジウムを付与する方
法としては、 例えば ジャーナル オプ アプライド
フィシフクス(Journal of Applie
d Physics)36巻(1965年)の第948
頁に記載の方法がある。
法としては、 例えば ジャーナル オプ アプライド
フィシフクス(Journal of Applie
d Physics)36巻(1965年)の第948
頁に記載の方法がある。
この方法は、塩化第1錫の塩酸酸性溶液中にクロム酸−
硫酸および水酸化ナトリウムでエツチング処理をしたP
I!?フィルムを浸漬した後水洗する感受性化処理と該
感受性化処理をしたPETフィルムを塩化パラジウムの
塩酸酸性溶液中に浸漬させ、PHTフィ・L・ム表面に
パラジウムを析出させる活性化処理の二つの工程からな
る。
硫酸および水酸化ナトリウムでエツチング処理をしたP
I!?フィルムを浸漬した後水洗する感受性化処理と該
感受性化処理をしたPETフィルムを塩化パラジウムの
塩酸酸性溶液中に浸漬させ、PHTフィ・L・ム表面に
パラジウムを析出させる活性化処理の二つの工程からな
る。
また、パラジウム付与を一工程で行う方法としては、例
えば、米国特許第3011920号公報記載の方法があ
る。
えば、米国特許第3011920号公報記載の方法があ
る。
米国特許第3011920号公頼に記載の方法は、基板
を強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に接触させ、化学
めっきのための触媒作用を行うパラジウムを付与するも
のである。この強酸性のパラジウム−錫コロイド溶液は
、例えば、)ラン櫂りシーンオブジインスチイチュート
オブ メタル フィニイシイング (Transac
tion of theInstitute of
Metal Fir+jshtng)第511 (1
973年)第63頁に記載されている通り、ABS樹脂
などの活性化処理に用いられているが、PETフィルム
には用いられていない。
を強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に接触させ、化学
めっきのための触媒作用を行うパラジウムを付与するも
のである。この強酸性のパラジウム−錫コロイド溶液は
、例えば、)ラン櫂りシーンオブジインスチイチュート
オブ メタル フィニイシイング (Transac
tion of theInstitute of
Metal Fir+jshtng)第511 (1
973年)第63頁に記載されている通り、ABS樹脂
などの活性化処理に用いられているが、PETフィルム
には用いられていない。
前出ジャーナル オブ アプライF74ジフクス に記
載の方法による場合には、塩化第1錫と塩化パラジウム
の二つの浴を必要とし、お互いの液が混入するのを防ぐ
ために、各処理毎に水洗をしなければならないので工程
が非常に複雑である。しかも、化学めっきのための触媒
活性が低いので、2〜3度同じ処理を繰り返さなければ
金属イオンの還元反応を惹起させるに充分なパラジウム
が付与出来ないという欠点を有する。
載の方法による場合には、塩化第1錫と塩化パラジウム
の二つの浴を必要とし、お互いの液が混入するのを防ぐ
ために、各処理毎に水洗をしなければならないので工程
が非常に複雑である。しかも、化学めっきのための触媒
活性が低いので、2〜3度同じ処理を繰り返さなければ
金属イオンの還元反応を惹起させるに充分なパラジウム
が付与出来ないという欠点を有する。
前出米国特許第3011920号公報に記載の方法によ
る場合には、化学めっきのための触媒作用を行うパラジ
ウム以外に錫水酸化物なども多量に基板に付与されるの
で、これらの不純物が化学めっきにおける還元反応の妨
げとなり、また、形成された金属被膜と基板との密着強
度を弱める原因となる。従って、パラジウム以外の不純
物を取り除くため強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に
基板を接触させた後、更に、酸やアルカリ溶液中に基板
を浸漬する(促進化処理)等の工程が必要となる。
る場合には、化学めっきのための触媒作用を行うパラジ
ウム以外に錫水酸化物なども多量に基板に付与されるの
で、これらの不純物が化学めっきにおける還元反応の妨
げとなり、また、形成された金属被膜と基板との密着強
度を弱める原因となる。従って、パラジウム以外の不純
物を取り除くため強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に
基板を接触させた後、更に、酸やアルカリ溶液中に基板
を浸漬する(促進化処理)等の工程が必要となる。
またこの強酸性パラジウム−錫コロイド溶液は経時変化
をし、調製して3〜4ケ月後から沈澱しはじめ、安定性
、再現性に欠けるという欠点がある。
をし、調製して3〜4ケ月後から沈澱しはじめ、安定性
、再現性に欠けるという欠点がある。
さらに、これらの公知の方法で得られる強磁性金属めっ
き被膜は、磁気的に等友釣である為、磁気記録媒体とし
ては再生出力や感度等の磁気記録特性が劣るものである
。
き被膜は、磁気的に等友釣である為、磁気記録媒体とし
ては再生出力や感度等の磁気記録特性が劣るものである
。
上述した通り、PETフィルムの表面に簡単な操作で一
定の高い触媒活性を有するパラジウムを付与し、次いで
磁気的に異方性を持たせて強磁性金属を化学めっきする
ことにより、密着性及び磁気特性に優れた強磁性金属め
っき被膜を再現良く形成する方法の確立は現在量も要求
されているところである。
定の高い触媒活性を有するパラジウムを付与し、次いで
磁気的に異方性を持たせて強磁性金属を化学めっきする
ことにより、密着性及び磁気特性に優れた強磁性金属め
っき被膜を再現良く形成する方法の確立は現在量も要求
されているところである。
c問題を解決する為の手段〕
本発明者は、PETフィルムの表面に間車な操作で一定
の高い触媒活性を有するパラジウムを付与し、次いで、
磁気的に異方性を持たせて強磁性金属を化学めっきする
方法について種々検討を重ねた結果、本発明に到達した
のである。
の高い触媒活性を有するパラジウムを付与し、次いで、
磁気的に異方性を持たせて強磁性金属を化学めっきする
方法について種々検討を重ねた結果、本発明に到達した
のである。
即ち、本発明は、対象とするPETフィルムの表面をア
ルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理し、次い
で、陽イオン性界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロ
ゾル(コロイド溶液)で処理した後、陰イオン性界面活
性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性高分子の中から
選ばれた一種又は二種以上を含むパラジウムヒドロゾル
中に浸漬させることにより、当8亥PETフィルムの表
面にパラジウムコロイドを付与し、次いで、磁場中にて
強磁性金属を化学めっきすることよりなるPl!Tフィ
ルムの強磁性金属めっき方法である。
ルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理し、次い
で、陽イオン性界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロ
ゾル(コロイド溶液)で処理した後、陰イオン性界面活
性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性高分子の中から
選ばれた一種又は二種以上を含むパラジウムヒドロゾル
中に浸漬させることにより、当8亥PETフィルムの表
面にパラジウムコロイドを付与し、次いで、磁場中にて
強磁性金属を化学めっきすることよりなるPl!Tフィ
ルムの強磁性金属めっき方法である。
先ず、本発明において最も重要な点は、PETフィルム
をアルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理した
後、陽イオン性界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロ
ゾルで処理すること、PETフィルムの表面に化学めっ
きの為の触媒作用を行うパラジウムを付与するに際して
、陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水
溶性高分子の中から選ばれた一種又は二種以上を含むパ
ラジウムヒドロゾルを用いること及び磁場中にて強磁性
金属を化学めっきする点にある。
をアルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理した
後、陽イオン性界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロ
ゾルで処理すること、PETフィルムの表面に化学めっ
きの為の触媒作用を行うパラジウムを付与するに際して
、陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水
溶性高分子の中から選ばれた一種又は二種以上を含むパ
ラジウムヒドロゾルを用いること及び磁場中にて強磁性
金属を化学めっきする点にある。
本発明においては、陰イオン性界面活性剤、非イオン性
界面活性剤及び水溶性高分子の中から選ばれた一種又は
二種以上をを含むパラジウムヒドロゾルが極めて安定で
あることに起因して長期に亘り保存可能で随時使用でき
るものであり、また、触媒作用の妨げとなるような不純
物を含有し、ていないので従来法のような促進化処理を
必要としないものである為、アルカリ金属水酸化物水溶
液でエツチング処理したPETフィルムを、陽イオン性
界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロゾルで処理した
後、上記パラジウムヒドロゾル中に浸漬するという簡単
な操作で一定の高い触媒活性を有するパラジウムコロイ
ドを付与することができ、さらに磁場中にて強磁性金属
を化学めっきすることにより、磁気的に異方性を持たせ
ることができる為、優れた磁気特性を有するものとなり
、高密度な磁気記録媒体としての強磁性フィルムを得る
ことができる。
界面活性剤及び水溶性高分子の中から選ばれた一種又は
二種以上をを含むパラジウムヒドロゾルが極めて安定で
あることに起因して長期に亘り保存可能で随時使用でき
るものであり、また、触媒作用の妨げとなるような不純
物を含有し、ていないので従来法のような促進化処理を
必要としないものである為、アルカリ金属水酸化物水溶
液でエツチング処理したPETフィルムを、陽イオン性
界面活性剤水溶液又は金属酸化物ヒドロゾルで処理した
後、上記パラジウムヒドロゾル中に浸漬するという簡単
な操作で一定の高い触媒活性を有するパラジウムコロイ
ドを付与することができ、さらに磁場中にて強磁性金属
を化学めっきすることにより、磁気的に異方性を持たせ
ることができる為、優れた磁気特性を有するものとなり
、高密度な磁気記録媒体としての強磁性フィルムを得る
ことができる。
次に、本発明方法実施にあたっての諸条件について述べ
る。
る。
本発明におけるPETフィルムのエツチング処理は、P
ETフィルムをアルカリ金属水酸化物水溶液中に、室温
から沸点の範囲、好ましくは50〜90℃の温度で10
分間以上浸漬させることにより行う。
ETフィルムをアルカリ金属水酸化物水溶液中に、室温
から沸点の範囲、好ましくは50〜90℃の温度で10
分間以上浸漬させることにより行う。
尚、用いるPI!Tフィルムは、あらかじめエタノール
などで脱脂後水洗し乾燥させであることが好ましい。
などで脱脂後水洗し乾燥させであることが好ましい。
本発明におけるエツチング処理に用いるアルカリ金属水
酸化物水溶液としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウム水溶液が適し、その4度は1〜10mol/ 1が
望ましい。
酸化物水溶液としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウム水溶液が適し、その4度は1〜10mol/ 1が
望ましい。
本発明における陽イオン性界面活性剤水溶液としては、
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドやドデシ
ルピリジニウムクロライド等の四級アンモニウム塩型を
0.1〜5%の濃度で水溶液にとかしたものを使用する
ことができる。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドやドデシ
ルピリジニウムクロライド等の四級アンモニウム塩型を
0.1〜5%の濃度で水溶液にとかしたものを使用する
ことができる。
本発明における金属水酸化物ヒドロゾルとしは、例えば
、塩化鉄(2)水溶液を沸騰する純水中で急速に加水分
解させて得られる水酸化鉄(2)ヒドロゾルや、気相法
で生成された市販の酸化アルミニウムを水中に分散させ
て調製した水和酸化アルミニウムヒドロゾルなどを使用
することができる。
、塩化鉄(2)水溶液を沸騰する純水中で急速に加水分
解させて得られる水酸化鉄(2)ヒドロゾルや、気相法
で生成された市販の酸化アルミニウムを水中に分散させ
て調製した水和酸化アルミニウムヒドロゾルなどを使用
することができる。
本発明におけるエツチング処理をしたPETフィルムの
陽イオン性界面活性剤または、金属水酸化物ヒドロゾル
による処理は、室温から100℃の範囲の温度下で5分
間以上浸漬することにより行うことができる。
陽イオン性界面活性剤または、金属水酸化物ヒドロゾル
による処理は、室温から100℃の範囲の温度下で5分
間以上浸漬することにより行うことができる。
本発明におけるパラジウムヒドロゾルは、塩化パラジウ
ム(1)などのパラジウム塩水溶液を、保護剤である陰
イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性
高分子から選ばれた一種又は二種以上の存在下で、水素
化ホウ化ナトリウム、ヒドラジンなどの水溶性還元剤で
還元処理することにより得ることができる (例えば特
開昭59−120249号公報)。
ム(1)などのパラジウム塩水溶液を、保護剤である陰
イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性
高分子から選ばれた一種又は二種以上の存在下で、水素
化ホウ化ナトリウム、ヒドラジンなどの水溶性還元剤で
還元処理することにより得ることができる (例えば特
開昭59−120249号公報)。
陰イオン性界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム等のスルホン酸型のもの、非イオン性
界面活性剤としては、ポリエチレングリコール−P−モ
ノノニルフェニルエーテル等、水溶性高分子としてはポ
リビニルピロリドン等を使用することができ、使用に際
しては、これら界面活性剤及び水溶性高分子を単独で又
は二種以上組み合わせて使用することができる。
ホン酸ナトリウム等のスルホン酸型のもの、非イオン性
界面活性剤としては、ポリエチレングリコール−P−モ
ノノニルフェニルエーテル等、水溶性高分子としてはポ
リビニルピロリドン等を使用することができ、使用に際
しては、これら界面活性剤及び水溶性高分子を単独で又
は二種以上組み合わせて使用することができる。
界面活性剤及び水溶性高分子の濃度は、0.002〜0
.1%の範囲が好ましい。
.1%の範囲が好ましい。
本発明において用いるパラジウムヒドロゾル中のパラジ
ウム濃度は、0.1〜2mg −atom/jl’の範
囲が好ましい。
ウム濃度は、0.1〜2mg −atom/jl’の範
囲が好ましい。
本発明におけるPUTフィルムのパラジウムヒドロゾル
中への浸漬は、室温から100℃の範囲の温度下で1分
間以上好ましくは10分間以上の浸漬後、引上げ水洗す
ることにより行うことができる。
中への浸漬は、室温から100℃の範囲の温度下で1分
間以上好ましくは10分間以上の浸漬後、引上げ水洗す
ることにより行うことができる。
本発明における強磁性金属の化学めっきは、磁場中にて
行う、即ち、強磁性金属イオン及び還元剤を含む溶液中
において、パラジウムコロイド部分で該金属イオンが還
元されることにより強磁性金属が析出するが、このとき
外部から開方的に磁場を印加することにより、磁区の配
列を&lii整して異方性を持たせることにより磁気特
性を向上させるものである。
行う、即ち、強磁性金属イオン及び還元剤を含む溶液中
において、パラジウムコロイド部分で該金属イオンが還
元されることにより強磁性金属が析出するが、このとき
外部から開方的に磁場を印加することにより、磁区の配
列を&lii整して異方性を持たせることにより磁気特
性を向上させるものである。
磁場の強さは、1 koe以上であれば本発明の目的を
達成することができるが、得られる強磁性金属めっき被
膜の磁気特性を考慮すれば3 kOe以上が好ましい。
達成することができるが、得られる強磁性金属めっき被
膜の磁気特性を考慮すれば3 kOe以上が好ましい。
本発明における強磁性金属めっき被膜は、磁場の方向を
変化させることにより任意の方向に異ブJ性を持たせる
ことができる。
変化させることにより任意の方向に異ブJ性を持たせる
ことができる。
本発明の磁場中における化学めっきの為の強磁性金属と
しては、ニッケル、コバルト、鉄、クロム等の水可溶性
塩類の1種又は2種以上を使用することができる。
しては、ニッケル、コバルト、鉄、クロム等の水可溶性
塩類の1種又は2種以上を使用することができる。
本発明における化学めっきのための還元剤としては、次
亜リン酸ナトリウム、ホルムアルデヒド等を使用するこ
とができる。
亜リン酸ナトリウム、ホルムアルデヒド等を使用するこ
とができる。
次に、実施例により本発明を説明する。
尚、実施例における磁性は、10 kosの磁場におい
て測定したものである。
て測定したものである。
S、F、D、の測定は、磁気測定器の微分回路を使用し
て、保磁力の微分曲線を得、この曲線の半価幅を測定し
、この値を曲線のピーク値の保磁力で除することにより
求めた。
て、保磁力の微分曲線を得、この曲線の半価幅を測定し
、この値を曲線のピーク値の保磁力で除することにより
求めた。
めっきの密着性は、めっき終了1時間後にスコッチメン
ディングテープ(住人スリーエム■製)をめっき物上に
強く貼り付け、引きはがすことにより調べた。
ディングテープ(住人スリーエム■製)をめっき物上に
強く貼り付け、引きはがすことにより調べた。
実施例1
エタノールで10分間洗浄した後、水洗、乾燥した磁気
テープ用PETフィルム(東し■製、厚さ20.8μm
、 4cmX2.5c+s)を6 a+ol/ 1の
水酸化ナトリウムを含む50℃の水溶液中に浸漬し、6
0分後に引き上げ水洗することによりエツチング処理を
行った。
テープ用PETフィルム(東し■製、厚さ20.8μm
、 4cmX2.5c+s)を6 a+ol/ 1の
水酸化ナトリウムを含む50℃の水溶液中に浸漬し、6
0分後に引き上げ水洗することによりエツチング処理を
行った。
0.2gの酸化アルミニウム粉末(日本7エσジル■製
”^1uminius+ 0xide C’)を室温下
で純水100m1中に分散させることにより水和酸化ア
ルミニウムヒドロゾルを調製した。このヒドロゾル中に
上記PETフィルムを80℃の温度下で浸漬した。30
分後2ィルムを引き上げ充分水洗を行った。
”^1uminius+ 0xide C’)を室温下
で純水100m1中に分散させることにより水和酸化ア
ルミニウムヒドロゾルを調製した。このヒドロゾル中に
上記PETフィルムを80℃の温度下で浸漬した。30
分後2ィルムを引き上げ充分水洗を行った。
別に、塩化パラジウム値)50μsolを、250.1
711101の塩化ナトリウムを含む水溶液2.5ml
に溶解し、次に純水で94m1に希釈した。この溶液を
激しく攪拌しながら該溶液中にポリエチレングリコール
モノ−P−ノニルフェニルエーテル(ポリエチレングリ
コール部分の重合度10) 10mgを含む水溶液1涌
1を加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム200 pm
。
711101の塩化ナトリウムを含む水溶液2.5ml
に溶解し、次に純水で94m1に希釈した。この溶液を
激しく攪拌しながら該溶液中にポリエチレングリコール
モノ−P−ノニルフェニルエーテル(ポリエチレングリ
コール部分の重合度10) 10mgを含む水溶液1涌
1を加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム200 pm
。
!を含む水溶液5mlを滴下すると、溶液の色が急変し
、黒褐色透明な非イオン性界面活性剤を含むパラジウム
ヒドロゾルが得られた。
、黒褐色透明な非イオン性界面活性剤を含むパラジウム
ヒドロゾルが得られた。
このパラジウムヒドロゾル中に水和酸化アルミニウムヒ
ドロゾルで処理した上記PETフィルムを80℃の温度
下30分間浸漬した後、フィルムを引き上げ水洗を行う
ことにより表面にパラジウムコロイドが付与さたPET
フィルムが得られた。
ドロゾルで処理した上記PETフィルムを80℃の温度
下30分間浸漬した後、フィルムを引き上げ水洗を行う
ことにより表面にパラジウムコロイドが付与さたPET
フィルムが得られた。
次いで、0.03 molの硫酸コバルト(至)7水塩
、0.25matの次亜リン酸ナトリウム、0.50
molの酒石酸ナトリウム2水塩及び0.50 nol
のホウ酸を純水に溶解して11とし、これに3.3 m
ol/12水酸化ナトリウム水溶液を加えてPHを9.
0に調整したコバルト化学めっき液中に、上記パラジウ
ムコロイドが付与されたPETフィルムを63℃の温度
下フィルムに平行な5kOeの印加磁場中で浸漬した。
、0.25matの次亜リン酸ナトリウム、0.50
molの酒石酸ナトリウム2水塩及び0.50 nol
のホウ酸を純水に溶解して11とし、これに3.3 m
ol/12水酸化ナトリウム水溶液を加えてPHを9.
0に調整したコバルト化学めっき液中に、上記パラジウ
ムコロイドが付与されたPETフィルムを63℃の温度
下フィルムに平行な5kOeの印加磁場中で浸漬した。
7分間の浸漬後、フィルムを引き上げ、水洗、乾燥する
と、PETフィルム表面に厚さ0.55μ国の密着性の
良い強磁性金属コバルト膜が形成された。
と、PETフィルム表面に厚さ0.55μ国の密着性の
良い強磁性金属コバルト膜が形成された。
このPETフィルムの表面にメンディングテーブを強く
押しつけてはがしてもコバルト膜は剥離しなかった。
押しつけてはがしてもコバルト膜は剥離しなかった。
また、このPETフィルムの残留磁束密度は5740G
auss 、保磁力は7660e、角型比は0.64、
S、P、D。
auss 、保磁力は7660e、角型比は0.64、
S、P、D。
は0.28であった。
実施例2
磁場の強さを15kOeとした以外は、実施例1と同様
にしてパラジウムコロイドが付与されたPETフィルム
のCoめっきを行った。
にしてパラジウムコロイドが付与されたPETフィルム
のCoめっきを行った。
得られたPETフィルムの表面は銀白色を呈しており、
メンディングテープを強く押しつけてはがしても強磁性
コバルト膜は剥離しなかった。また、このPETフィル
ムの残留磁束密度は6000 Gauss、保磁力は7
900e、角型比は0.66、S、F、Il、は0.1
9であった。
メンディングテープを強く押しつけてはがしても強磁性
コバルト膜は剥離しなかった。また、このPETフィル
ムの残留磁束密度は6000 Gauss、保磁力は7
900e、角型比は0.66、S、F、Il、は0.1
9であった。
比較例
実施例1において、化学めっき時に磁場を印加しない以
外は、同様な操作でPETフィルムのCoめっきを行っ
た。
外は、同様な操作でPETフィルムのCoめっきを行っ
た。
このPETフィルムの残留磁束密度は4320 Gau
ss。
ss。
保磁力は8000e、角型比は0.52、S、F、D、
は0.40であった・ 〔効果〕 本発明に係るPUTフィルムの強磁性金属めっき方法は
、前出実施例に示した通り、本発明において用いられる
パラジウムヒドロゾルが化学めっきの触媒作用を妨げる
不純物を含有しておらず、また長期に亘り安定である為
、一定の高い触媒活性を有するパラジウムコロイドを付
与することが可能であることに起因して、PETフィル
ム表面への密着性が優れており、また、磁気的に異方性
を持たせることができることに起因して、磁気特性が優
れている強磁性金属めっき被膜を形成することが可能で
ある。
は0.40であった・ 〔効果〕 本発明に係るPUTフィルムの強磁性金属めっき方法は
、前出実施例に示した通り、本発明において用いられる
パラジウムヒドロゾルが化学めっきの触媒作用を妨げる
不純物を含有しておらず、また長期に亘り安定である為
、一定の高い触媒活性を有するパラジウムコロイドを付
与することが可能であることに起因して、PETフィル
ム表面への密着性が優れており、また、磁気的に異方性
を持たせることができることに起因して、磁気特性が優
れている強磁性金属めっき被膜を形成することが可能で
ある。
Claims (1)
- (1)ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に化
学めっきによって強磁性金属被覆を形成させるに当たっ
て、対象とするポリエチレンテレフタレートフィルムを
アルカリ金属水酸化物の水溶液でエッチング処理し、次
いで、陽イオン性界面活性剤水溶液又は金属水酸化物ヒ
ドロゾルで処理した後、陰イオン性界面活性剤、非イオ
ン性界面活性剤及び水溶性高分子の中から選ばれた一種
又は二種以上をを含むパラジウムヒドロゾル中に浸漬さ
せることにより、当該ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの表面にパラジウムコロイドを付与し、次いで、磁
場中にて強磁性金属を化学めっきすることを特徴とする
ポリエチレンテレフタレートフィルムの強磁性金属めっ
き方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20386485A JPS6263676A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの強磁性金属めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20386485A JPS6263676A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの強磁性金属めつき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263676A true JPS6263676A (ja) | 1987-03-20 |
| JPH0257150B2 JPH0257150B2 (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=16480965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20386485A Granted JPS6263676A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの強磁性金属めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263676A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6468478A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-14 | Agency Ind Science Techn | Metal plating method using silver hydrosol |
| JP2007162037A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Okuno Chem Ind Co Ltd | ポリ乳酸樹脂成形品へのめっき方法。 |
| JP2012529566A (ja) * | 2009-06-08 | 2012-11-22 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 金属化のためにプラスチック表面を前処理するためのイオン性液体の使用 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117242A (en) * | 1976-03-25 | 1977-10-01 | Western Electric Co | Metal attaching method |
| JPS60203863A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-15 | Toshiba Corp | ガス絶縁3相変流器 |
-
1985
- 1985-09-14 JP JP20386485A patent/JPS6263676A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117242A (en) * | 1976-03-25 | 1977-10-01 | Western Electric Co | Metal attaching method |
| JPS60203863A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-15 | Toshiba Corp | ガス絶縁3相変流器 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6468478A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-14 | Agency Ind Science Techn | Metal plating method using silver hydrosol |
| JP2007162037A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Okuno Chem Ind Co Ltd | ポリ乳酸樹脂成形品へのめっき方法。 |
| JP2012529566A (ja) * | 2009-06-08 | 2012-11-22 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 金属化のためにプラスチック表面を前処理するためのイオン性液体の使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0257150B2 (ja) | 1990-12-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |