JPS6267171A - 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド - Google Patents
連続式真空蒸着用蒸気シ−ルドInfo
- Publication number
- JPS6267171A JPS6267171A JP20569585A JP20569585A JPS6267171A JP S6267171 A JPS6267171 A JP S6267171A JP 20569585 A JP20569585 A JP 20569585A JP 20569585 A JP20569585 A JP 20569585A JP S6267171 A JPS6267171 A JP S6267171A
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- Japan
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- shield
- slit
- vapor
- strip
- vapor shield
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は真空蒸着装置に係り、特に金属ストリップなど
の長尺物に連続的に蒸着する装置に関するものである。
の長尺物に連続的に蒸着する装置に関するものである。
〈従来技術とその問題点〉
金属ストリップに対する耐蝕性等の緒特性の向上を目的
とした異種物質の真空蒸着法の研究が近年数多〈実施さ
れている。蒸着時の要件としては数多く考えられるが、
被蒸着物から見れば、蒸着された被膜の厚み均一性は重
要なものの1つである。被蒸着面が比較的小さい場合は
、蒸発源部の改善はあまり必娶ではないが、被蒸着面が
大きくなるにつれ、蒸着膜の膜厚均一性を維持すること
が困難になってくる。そのため、これまでに多くの改善
方法が提示され、多くの効果をあげてきた。
とした異種物質の真空蒸着法の研究が近年数多〈実施さ
れている。蒸着時の要件としては数多く考えられるが、
被蒸着物から見れば、蒸着された被膜の厚み均一性は重
要なものの1つである。被蒸着面が比較的小さい場合は
、蒸発源部の改善はあまり必娶ではないが、被蒸着面が
大きくなるにつれ、蒸着膜の膜厚均一性を維持すること
が困難になってくる。そのため、これまでに多くの改善
方法が提示され、多くの効果をあげてきた。
しかしながら連続して蒸着しなければならない金属スト
リップのような場合、蒸着膜の厚み均一性と膜厚制御を
同時に達成することは非常に困難である。その理由は、
被蒸着面積が比較的大きいことと同時に、前処理、通板
機構、生産性の制約から通板速度が変動しやすいためで
ある。
リップのような場合、蒸着膜の厚み均一性と膜厚制御を
同時に達成することは非常に困難である。その理由は、
被蒸着面積が比較的大きいことと同時に、前処理、通板
機構、生産性の制約から通板速度が変動しやすいためで
ある。
〈発明の目的〉
したがって、本発明の目的は、上述した従来技術の欠点
を解消し、特に金属ストリップなどの長尺物に連続的に
蒸着するに際して、蒸着膜の厚み均一・性と膜厚制御と
を同時に達成することができる連続式真空蒸着用蒸気シ
ールドを提供しようとするにある。
を解消し、特に金属ストリップなどの長尺物に連続的に
蒸着するに際して、蒸着膜の厚み均一・性と膜厚制御と
を同時に達成することができる連続式真空蒸着用蒸気シ
ールドを提供しようとするにある。
〈発明の構成〉
本発明は、蒸気シールドのスリットの開口度を調節でき
るよう構成してなることを特徴とする特許犬糞空蒸着用
蒸気シールドを提供するものである。
るよう構成してなることを特徴とする特許犬糞空蒸着用
蒸気シールドを提供するものである。
次に本発明を図面に示す好適実施例につき詳細に説明す
る。
る。
第1図はストリップのような長尺物に蒸着する場合に従
来法で用いられている蒸着装置で、第1a図は線図的側
面図、第1b図は同平面図である。真空槽lにシールロ
ール2によってストリップ3が図面中の矢印の方向に通
板されている。真空槽1内では蒸発容器4に収容された
蒸発物5が蒸気シールド6のスリット20を通してスト
リップに蒸着する0通常、この蒸気シールド6は固定式
であるため、一定の操業条件の場合においては均一で所
望の膜厚が得られるが、何等かの変動、例えばストリッ
プの通板速度や重置化に対応できず、蒸着膜厚の変化が
避けられない。
来法で用いられている蒸着装置で、第1a図は線図的側
面図、第1b図は同平面図である。真空槽lにシールロ
ール2によってストリップ3が図面中の矢印の方向に通
板されている。真空槽1内では蒸発容器4に収容された
蒸発物5が蒸気シールド6のスリット20を通してスト
リップに蒸着する0通常、この蒸気シールド6は固定式
であるため、一定の操業条件の場合においては均一で所
望の膜厚が得られるが、何等かの変動、例えばストリッ
プの通板速度や重置化に対応できず、蒸着膜厚の変化が
避けられない。
そこで、本発明者等は上述した従来の蒸気シールドの欠
点を改善するため種々検討を重ねた結果、蒸気シールド
を以下に述べるように構成すれば、被蒸着物の長さや巾
の変動があったとしても、それに適応できるようにする
ことがわかった。
点を改善するため種々検討を重ねた結果、蒸気シールド
を以下に述べるように構成すれば、被蒸着物の長さや巾
の変動があったとしても、それに適応できるようにする
ことがわかった。
すなわち、本発明においては蒸気の出口である蒸気シー
ルドのスリットをストリップのような被蒸着物の大きさ
く例えば長さや巾)に応じて、スリットの開口度、すな
わち、スリットの蒸気を通す面積を変えられるように構
成する。これにより、被蒸着物の大きさく例えば長さや
巾)あるいは通板速度の変動があっても、スリットの開
口度をこれに対応して変化させることによって容易に打
ち消すことができる。
ルドのスリットをストリップのような被蒸着物の大きさ
く例えば長さや巾)に応じて、スリットの開口度、すな
わち、スリットの蒸気を通す面積を変えられるように構
成する。これにより、被蒸着物の大きさく例えば長さや
巾)あるいは通板速度の変動があっても、スリットの開
口度をこれに対応して変化させることによって容易に打
ち消すことができる。
例えば、ストリップの通板速度が大きくなった場合には
、スリットの通板方向の開口度を大きくし、ストリップ
への蒸気到達量を大きくする。この逆に、通板速度が小
さくなった場合には、スリットの通板方向の開口度を小
さくする。また、ストリップの巾が大きくなった場合に
は、スリットの通板方向と直角をなす方向の開口度を大
きくする。このように、ストリップのような被蒸着物の
大きさに対応して蒸気シールドのスリットの開口度を調
節することにより、蒸着膜の厚み均一性と膜厚制御とを
同時に達成することができる。
、スリットの通板方向の開口度を大きくし、ストリップ
への蒸気到達量を大きくする。この逆に、通板速度が小
さくなった場合には、スリットの通板方向の開口度を小
さくする。また、ストリップの巾が大きくなった場合に
は、スリットの通板方向と直角をなす方向の開口度を大
きくする。このように、ストリップのような被蒸着物の
大きさに対応して蒸気シールドのスリットの開口度を調
節することにより、蒸着膜の厚み均一性と膜厚制御とを
同時に達成することができる。
次に第2図〜第4図を参照しつつ本発明の好適実施例に
つき説明する。しかし、これは本発明の1例を示すにす
ぎず、蒸気シールドの開口度を可変とする構成であれば
いかなる構成でもよいし、その開口は方形である必要も
ない。
つき説明する。しかし、これは本発明の1例を示すにす
ぎず、蒸気シールドの開口度を可変とする構成であれば
いかなる構成でもよいし、その開口は方形である必要も
ない。
第2図は本発明の蒸気シールドの1構成単位を示す側面
図である。
図である。
シールド部材指示本体7の中に蒸気シールド部材8が収
容されており、その一方の端部は本体7に形成された開
口15から本体7の外部に延び、ラックギア9を形成し
ている。蒸気シールド部材8の他方の端部は蒸気シール
ドのスリット20の外縁を限定する。ラックギア9には
シールドを駆動するためのピニオンギア10がかみあっ
ている。また、本体7内のシールド部材8は本体7に軸
12で取付けられたローラー11によって支えられてい
る。ピニオンギアlOの軸は減速歯車列13を介してモ
ータ14に連なり、その回転運動がシールド部材8の並
進運動に変換される。これにより、シールド部材8の位
置、即ち、シールドのスリットの開口面積を自由に変化
させることができる。
容されており、その一方の端部は本体7に形成された開
口15から本体7の外部に延び、ラックギア9を形成し
ている。蒸気シールド部材8の他方の端部は蒸気シール
ドのスリット20の外縁を限定する。ラックギア9には
シールドを駆動するためのピニオンギア10がかみあっ
ている。また、本体7内のシールド部材8は本体7に軸
12で取付けられたローラー11によって支えられてい
る。ピニオンギアlOの軸は減速歯車列13を介してモ
ータ14に連なり、その回転運動がシールド部材8の並
進運動に変換される。これにより、シールド部材8の位
置、即ち、シールドのスリットの開口面積を自由に変化
させることができる。
第3図は第2図で説明した構成単位を2対用いて本発明
の蒸気シールドを構成した例を示す、互いに正対する2
対の構成単位を図示のように配置し、この上側にストリ
ップを通板する。蒸気シールドのスリット20は4枚の
シールド部材8によって中央に限定されている。ピニオ
ンギア10の軸には減速歯車列13がかみあっており、
これにモータ14が連結されている。
の蒸気シールドを構成した例を示す、互いに正対する2
対の構成単位を図示のように配置し、この上側にストリ
ップを通板する。蒸気シールドのスリット20は4枚の
シールド部材8によって中央に限定されている。ピニオ
ンギア10の軸には減速歯車列13がかみあっており、
これにモータ14が連結されている。
第4図には第2図に示す構成単位を2個用いた本発明の
蒸気シールドの他の構成例を示す。第3図の蒸気シール
ドと第4図の蒸気シールドの相異点は、シールド部材8
の形状である。第3図ではシールド部材8は4枚でスリ
ット20を形成するため平板で構成されているが、第4
図の蒸気シールドでは、2枚のシールド部材8でスリン
)20を形成するための段付板で構成され、その段部を
東ならせてスリット20を形成する。
蒸気シールドの他の構成例を示す。第3図の蒸気シール
ドと第4図の蒸気シールドの相異点は、シールド部材8
の形状である。第3図ではシールド部材8は4枚でスリ
ット20を形成するため平板で構成されているが、第4
図の蒸気シールドでは、2枚のシールド部材8でスリン
)20を形成するための段付板で構成され、その段部を
東ならせてスリット20を形成する。
本発明の蒸気シールドにおいては、被ノヘ着物の大きさ
く例えば長さや11J)に応して所定の数のシールド部
材8を所望の力面に動かすことにより、スリット20の
開]1度をストリップの通板方向およびまたはこれと直
角をなす力面に調節することができる。
く例えば長さや11J)に応して所定の数のシールド部
材8を所望の力面に動かすことにより、スリット20の
開]1度をストリップの通板方向およびまたはこれと直
角をなす力面に調節することができる。
また、本発明の蒸気シールドは、ストリップの通板速度
検知機構、ストリップの+IJ検知機構などと組み合わ
せて、通板速度およびまたは11」変動に応じて、スリ
ットの自動調整を行うよう構成することもできる。
検知機構、ストリップの+IJ検知機構などと組み合わ
せて、通板速度およびまたは11」変動に応じて、スリ
ットの自動調整を行うよう構成することもできる。
〈発明の効果〉
本発明の蒸気シールドは、蒸着を行うに際して、被蒸着
物の大きさく例えば長さや11J)に応じて、ノ入気の
通るスリットの開【1度を例えばその長さ力面、+t+
力向力面節することができるよう構成されているため、
被蒸着部に対する蒸着膜の1qみを均一にかつその厚み
を自由に制御することができる。
物の大きさく例えば長さや11J)に応じて、ノ入気の
通るスリットの開【1度を例えばその長さ力面、+t+
力向力面節することができるよう構成されているため、
被蒸着部に対する蒸着膜の1qみを均一にかつその厚み
を自由に制御することができる。
第1a図および第1b図は、それぞれ従来のストリップ
蒸清装置の線図的側面図および平面図である。 第2図は、本発明の1実施態様の蒸気シールドに用いる
構成中位を示す側面図である。 第3図および第4図は第2図の構成単位を用いた本発明
の蒸気シールドのt面図である。 符−Jの説1!I1 1・・・真空槽、2・・・シールロール、3・・・スト
リップ(被蒸着部)、4・・・蒸発容器、5・・・蒸発
物、6・・・蒸気シールド、7・・・シールド部材支持
本体、8・・・蒸気シールド部材、9・・・ラックギア
、10・・・ピニオンギア、11・・・ローラー、12
・・・軸、13・・・減速歯巾列、14・・・モータ、
15・・・開【1.20 ・・・スリットFIG、1a FIG、2
蒸清装置の線図的側面図および平面図である。 第2図は、本発明の1実施態様の蒸気シールドに用いる
構成中位を示す側面図である。 第3図および第4図は第2図の構成単位を用いた本発明
の蒸気シールドのt面図である。 符−Jの説1!I1 1・・・真空槽、2・・・シールロール、3・・・スト
リップ(被蒸着部)、4・・・蒸発容器、5・・・蒸発
物、6・・・蒸気シールド、7・・・シールド部材支持
本体、8・・・蒸気シールド部材、9・・・ラックギア
、10・・・ピニオンギア、11・・・ローラー、12
・・・軸、13・・・減速歯巾列、14・・・モータ、
15・・・開【1.20 ・・・スリットFIG、1a FIG、2
Claims (1)
- 蒸気シールドのスリットの開口度を調節できるよう構成
してなることを特徴とする連続式真空蒸着用蒸気シール
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20569585A JPS6267171A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20569585A JPS6267171A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267171A true JPS6267171A (ja) | 1987-03-26 |
Family
ID=16511176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20569585A Pending JPS6267171A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6267171A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02258346A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Canon Inc | インクジェット記録装置 |
| JPH0322065U (ja) * | 1989-07-13 | 1991-03-06 | ||
| US7438765B2 (en) * | 2004-05-31 | 2008-10-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adjustable shielding plate for adjusting an etching area of a semiconductor wafer and related apparatus and methods |
| CN108118306A (zh) * | 2016-11-30 | 2018-06-05 | 乐金显示有限公司 | 卷到卷基底沉积设备 |
-
1985
- 1985-09-18 JP JP20569585A patent/JPS6267171A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02258346A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Canon Inc | インクジェット記録装置 |
| JPH0322065U (ja) * | 1989-07-13 | 1991-03-06 | ||
| US7438765B2 (en) * | 2004-05-31 | 2008-10-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Adjustable shielding plate for adjusting an etching area of a semiconductor wafer and related apparatus and methods |
| CN108118306A (zh) * | 2016-11-30 | 2018-06-05 | 乐金显示有限公司 | 卷到卷基底沉积设备 |
| EP3330405A1 (en) * | 2016-11-30 | 2018-06-06 | LG Display Co., Ltd. | Roll-to-roll substrate deposition apparatus |
| CN108118306B (zh) * | 2016-11-30 | 2020-06-30 | 乐金显示有限公司 | 卷到卷基底沉积设备 |
| US10873058B2 (en) | 2016-11-30 | 2020-12-22 | Lg Display Co., Ltd. | Roll-to-roll substrate deposition apparatus |
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