JPS6270497A - 研磨清浄液組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的１ 本願発明は、水性媒体中に安定して分散し−でいる粒状
の研磨剤を含む研磨清浄液組成物に関する。

研磨清浄液は多年にわたり知られている１、かかる研磨
清浄液は、研磨剤を含まない清浄液ではなかなか落ちな
いような、頑固な汚垢、油汚れ、焦げつき、しみ等の除
去のための１軒な手段として通常の家庭で表面の硬い物
品の手入れに広く使われている。

最近２０年間（、研磨清浄液の組成に関する−・連の刊
行物が出た。その多くは、水性媒体の安定性や分散性を
問題としている。分散媒については、例えば英国特許第
１．１６７、５９７号、第１，１８１，６０７シシ、第
１．２６２．２８０号、第１．３０３．８１０号、第１
．３０８．１９０号及び第１，４１８，６７１号に述べ
られている。欧州特許第５０８８７号及び第８０２２１
号等には、高剪断応力での分散媒体の安定性について開
示されている。

最近、研磨清浄液はますます洗練されてきており、直接
の清浄効率以外の使い勝手も消費者に比較される重要な
要素となってきている。業界ではこのために清浄効率、
非隙傷性、泡立ち、ザラ＋ｆうしないクリーミーな感触
、濯ぎ易さといった性質を兼ね備えた研磨清浄液を１指
している。だが、これらの中には同時に実現できないも
のがある。

清浄効率と非隙傷性ヤリ４ラザラしない感触とばあいい
れないし、泡立ちと）Ｒぎ易さも両立しない。

清浄剤の性能においτ研磨剤の粒径か極めて重要なこと
は古くから知られ−でいるが、研磨剤の粒度分布が多く
の所望の性質を実用上差支えない程度に同時に満たす点
て研磨清浄液の組成においで重要な役割を果たすことは
、最近まで知られていなかった。

英国特訂第１，５８１，４３３号には、清浄剤の製；ｈ
に際して研磨剤粉末の最も微粒の部分を減らせば濯ぎ性
能はかなり改善されることが示されでいる。

１０ミクロン以下の粒径のものは２０Φ早％未満て−１
１２５ミクロン以上の粒子は実質−１ないような＄ｔ７
度分布がよいとされている。

米国特許第４，１８１，６３３号では、清浄作用にすぐ
れ摩耗の少ない研磨清浄剤としＣメタｆＴｖカルシウム
を単独ないし炭酸カルシウムとイガ用する研磨清浄液組
成物が開示されＣいる。研磨剤の平均粒径は５．５〜１
６ミクロンの範囲′ｃ／ｌｏミクＬ１ン超の粗粒は実質
上ないようにすぺぎだとされ（いる。

米国特許第４，３０２，３４７　号でハ、１〜４ｏミク
［−１ン−３＝ のＦ７径の１〜２０車吊％の粒状非水溶性研磨剤から成
る多目的ω１磨清浄液が教えられている。この組成物は
クリーミ＝で、油脂その伯の汚垢を効率良く落とし擦傷
を作らないとされている。

英国特許第２．１２５．４２８号では、平均粒径が４へ
−１７，５ミク■ンて７５ミクロン超の粗粒を実質上告
まない研磨剤粉末を含む研磨液クレンザー組成物か説明
されている。ソフトで滑らかな感触にづ−ぐれ、かつ十
分な清浄性能かあるとされている。

１〜１５０ミク［１ンの粒径を有し１０〜５０ミク■ン
の平均粒径の研磨剤粉末を含む従来の家庭用研磨清浄液
に比べ、最近粒径をかなり微細な方にずらけかつ分布を
鋭くして、清浄性能を低下させることなく感触とイＲぎ
性能を向上さけることが提案されている。

微細な研磨剤特に超微粒の方解賃を高率で用いた研磨清
浄液組成物の問題点は、微粉か貯蔵中に凝集して遥かに
大きくなり、製品の感触を損ねたりプラスチックなどの
柔らかな表面を擦傷したりりるＪ、うになること−Ｃあ
る。

一午　− し発明の構成］ 上記の従来技術の問題点に鑑み研究の結束、特に無燐の
組成にＪ３いて電解質を適当に選択覆ることにより粒子
の成長傾向が抑止されることが判明した。本発明はこの
知見に基づくものであるが、以下のような構成をとる。

１〜１０ミクロンの粒度範囲の鉱物性研磨剤粒子４０〜
７０重量％と、り丁ン（拘罷）酸、炭酸、ｔａ酸、塩酸
、」ハク（琥珀）酸、アジピン酸、及びグルタル酸のア
ルカリ金属又はアンモニウム塩から成る鼾から選ばれた
１種又は２種以上の電解質２０重量％以下とを含み、こ
れらを液体媒体中に安定に分散（）て成る、燐酸塩を含
有しない研磨清浄液組成物。

本発明において使用に適する研磨性物質は、天然又は合
成の鉱物性研磨剤である。それらの例は、ト日マイト（
白雲石）、沈降炭酸カルシウム（嵌合）、艮す、−フル
ミナ、シリカ、６英や珪Ｙ４のような研磨剤で、好まし
くはし一ス硬さ数が１へ・４であるものかよい。特に好
適な例としては、（１灰若、白？、大理石などの英１１
特ム１第１，３４５，１１９　Ｙシてブｊ解りの例とさ
れた種類の方解Ｇである。

鉱物性研磨剤は本発明組成物に対し４０〜７０重量％、
好ましくは４５〜５５重量％の割合で含まれる。

本発明においては、６Ｊ＋磨剤を高面に分別して１〜１
０ミク［ｌンの範囲の粒径とする。この場合の範囲とは
、１０ミクに］ンを超えるものは１０重手早未満てあっ
て、１ミクロン未満のものは３０重手早未満であるとの
意味にｗＩ′ｆＪべきＣある。このｌ−限にお（）る分
別は好ましくは１０ミク［１ン超の粒子が５、理想をい
えば３重量％未満となる分布がよい。下限についではそ
れ稈鋭い分布と覆ることもないが、１ミク［１ン未満の
微粒を２０重量％とするとよい結果が得られる。

本発明におりる粒度の平均は曲型的には１〜５ミクロン
の範囲であり、さらに最適の範囲は２〜４ミクロンであ
る。

鉱物ＭｇｒｔＨ磨剤は液体媒体中に安定して分散される
。１記液体媒体は普通水性で、アニオン活性剤を好まし
くはノニオン又は両性活性剤と共存する形で含有する。

好ましい）アニオン活性剤の例は、炭素数１２〜１８の
分岐又は１白鎖アルキルアリールスルホン酸、炭素数１
０〜１８のアルギルポリ（ｎ　−１〜１０）エチレング
リコールスルホン酸、炭素数１０〜２４の脂肪酸石鹸等
のアルキル金属又はアルカノールラ７ミン塩である。一
般にアニオン活性剤のけは最終組成に対して重＠′Ｃ″
０．５〜１５％、好ましくは１〜５％である。

多くの場合、ノニオン又は両性活性剤を水性媒体に０．
３〜７％、好ましくは０．５〜５重帛％加えるのがよい
。アニオン活性剤の好適例としては、炭素数８〜１８の
直鎖−級又は−６級アル」−ル、炭素数８〜１８の脂肪
酸アミド若しくは脂肪酸）フル↑ロールアミド（モノ及
びジアミドの両方）、炭素数９〜１８のアルキルフェノ
ール等とエチレンオキサイド及び又はゾロピレンオキサ
イドとの水溶性縮合物である。アル」キシル化した炭素
数８〜１８のモノ又はジ脂肪酸アルキｌ−ルアミドは、
１本にりも多いアル↑レンオキザイド基を持たなくては
ならず、例えば２〜５モルの酸化エブレンのようなアル
キレンオキサイドと縮合される。脂肪酸残基の炭素数が
１０〜１６のモノ又はシフルーＶロールアミドもアニオ
ン活性剤として好適であり、例えば揶ｒ油脂肪酸のモノ
又はジアルキロールアミドがある。

両性活性剤としては、１本の長鎖アルキル基（炭素数３
＝１８）と２本の短鎖（炭素数１〜４）を持つトリアル
キルアミンオキサイドか適当で、ベタイン又はスルホベ
タインかあげられる。

液体媒体はビンガム塑性を有刃ることが特に望ましく、
これにより鉱物性研磨剤のための安定した分散媒体とな
ることができる。上記した活性剤につい−では、更に他
の活性剤との（７（用も含めて、英国特許第１．１６７
、５９７号、第１，１８１，６０７号、第１゜２６２．
２８０　Ｑ、第１，３０３，８１０号、第１．３０８．
１９０号及び第１．４１８．６７１号に記載されている
。

分散媒体へ添加すべき他の必須の成分としては１種又は
２種以十の電解質があるが、これらは燐酸塩タイプのも
のて゛あってはならない。電解質とじでは、り土ン酸、
炭酸、硫酸、塩酸、１ハク酸、アジピン酸及びグルタル
酸のアルカリ金属又はアンモ−ラム塩から成る群から選
ばれる。電解質の好適例はりＪ−ン酸及び炭酸のアルカ
リ金属塩で、り■ン酸ソーダ、炭酸ソーダ、Φ會等があ
る。添加量は分散系に−しよるが、一般に０．５〜２５
重量％、好ましくは１〜７重皐重重ある。

本発明の組成物には、必要に応じ塩素発生型の漂白剤を
含有さけることかて゛き、その好適例は次曲塩素酸ソー
ダ及びイソシアヌル−１〜である。

研磨清浄液の仙の添加物としては、４色剤、香料、蛍光
剤、親水剤、汚垢分散剤、酵素、乳白剤、殺菌剤、調湿
剤等がある。

本発明を更に説明するために以下に実施例を挙げるが、
特に断らぬ限り比率は覆ぺて仝組成に苅覆る重量による
ものとする。

［実施例］ 成分　　　　　　　　　　−ニー　」−トデシルヘンヒ
ンスルホン酸 ソーダ　　　　　　　　　　２．３５−−−−高級（炭
系数１４〜１７）アル カンスルボン酸ソーダ　　　−−−１，８７ｔｌｌ［１
’ｊ’油（Ｚｉ鹸　　　　　　　　　−−０，４６Ｌ〕
］＝＋　Ｊツ１〜ジメブル７ミン Ａ　−Ｖ１ノ　イ　１〜　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　−−−　　　　　１．８７クエン酸ソー
ダ　　　　　　　　０．４７−−−−炭酸ソーダ　　　
　　　　　　−、−−−−−４，３２弔ψ７　　　　　
　　　　　　　　１．４３　−−、−−−−次曲塩素酸
ソーダ　　　　　　−−−、−１１，，１水酸化マグネ
シウム　　　　　−−−０３ｈ−解Ｇ研磨剤〈代表粒径
３μ。

１０μ超３％、１μ以１・２０％）　５２．５　　４５
．７１司　　　　　　　　　　　　　巾計１　　　　至
−−−Ｉ＋　　−−

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）１〜１０ミクロンの粒度範囲の鉱物性研磨剤粒子
   ４０〜７０重量％と、クエン酸、炭酸、硫酸、塩酸、コ
   ハク酸、アジピン酸、及びグルタル酸のアルカリ金属又
   はアンモニウム塩から成る群から選ばれた１種又は２種
   以上の電解質２０重量％以下とを含み、これらを水性媒
   体中に分散して成る、燐酸塩を含有しない研磨清浄液組
   成物。
2. （２）研磨剤はモース硬さ数が１〜４である特許請求の
   範囲第１項記載の研磨清浄液組成物。
3. （３）研磨剤は方解石である特許請求の範囲第２項記載
   の研磨清浄液組成物。
4. （４）研磨剤の含有量が４５〜５５重量％である特許請
   求の範囲第１項記載の研磨清浄液組成物。
5. （５）研磨剤の平均粒度が１〜５ミクロンの範囲にある
   特許請求の範囲第１項記載の研磨清浄液組成物。
6. （６）研磨剤の平均粒度が２〜４ミクロンの範囲にある
   特許請求の範囲第５項記載の研磨清浄液組成物。
7. （７）水性媒体が、０．５〜１５重量％のアニオン活性
   剤、０．３〜７重量％のノニオン活性剤、及び０．５〜
   ２５重量％の電解質を含有する特許請求の範囲第１項記
   載の研磨清浄液組成物。
8. （８）電解質がクエン酸と炭酸のアルカリ金属塩から成
   る群から選ばれた特許請求の範囲第１項記載の研磨清浄
   液組成物。
9. （９）塩素を放出するタイプの漂白剤を更に含有する特
   許請求の範囲第１項記載の研磨清浄液組成物。