JPS6270835A - 剥離による画像形成材料 - Google Patents
剥離による画像形成材料Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/80—Etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は画像形成材料に関する。詳しくは剥離により金
属、金属化合物、または金属と金属化合物の混合物の薄
層の画像を形成する材料に関するものである。
属、金属化合物、または金属と金属化合物の混合物の薄
層の画像を形成する材料に関するものである。
本発明による画像は、第二原図、平版印刷用版。
製版用フィルム、プリント配線用基板、投影用原画、デ
ィスプレー用原画、エレクトロルミネッセンス用電極、
ラベル用テープ、液晶ディスプレイプラズマディスプレ
イの電極、ELD、窓ガラスの防曇、結氷防止、電子写
真の電荷のリーク層。
ィスプレー用原画、エレクトロルミネッセンス用電極、
ラベル用テープ、液晶ディスプレイプラズマディスプレ
イの電極、ELD、窓ガラスの防曇、結氷防止、電子写
真の電荷のリーク層。
帯電防止層、光電変換素子の電極等の広範な用途に用い
られる。
られる。
〈従来技術と、その問題点〉
従来、フォトレジストを用いて金属をエツチングする方
法が知られている。この方法は支持体上に金属層を有す
る材料に塗布、またはラミネート圧より、感光層を形成
し、画像露光後、現像液で現像を行ない、フォトレジス
トのレリーフ像を形成する。次にこのフォトレジストの
像を使って酸等のエツチング液により金属層のエツチン
グを行ない金属画像を形成する。さらに必要に応じて金
属画像上のフォトレジスト層を脱膜液等により除去し、
工程が終了する。従来の技術は以上のような方法をとっ
ているため、作業に危険が伴ないかつ排水処理が不可欠
、さらに金属の種類によってはエツチング速度が遅いな
どの欠点を有している。
法が知られている。この方法は支持体上に金属層を有す
る材料に塗布、またはラミネート圧より、感光層を形成
し、画像露光後、現像液で現像を行ない、フォトレジス
トのレリーフ像を形成する。次にこのフォトレジストの
像を使って酸等のエツチング液により金属層のエツチン
グを行ない金属画像を形成する。さらに必要に応じて金
属画像上のフォトレジスト層を脱膜液等により除去し、
工程が終了する。従来の技術は以上のような方法をとっ
ているため、作業に危険が伴ないかつ排水処理が不可欠
、さらに金属の種類によってはエツチング速度が遅いな
どの欠点を有している。
また剥離現像により支持体上に金属、又は金属化合物の
画像を形成する材料または方法も知られている。
画像を形成する材料または方法も知られている。
特公昭56−15305号、特開昭55−123130
号には支持体上に金属または金属化合物薄層およびバイ
ンダー用高分子化合物とキノン系、ジアン系。アジド系
、またはベンゾフェノン系感光剤よりなる感光層を設け
たネガ−ポジタイプの剥離による金属画像形成材料、及
びその処理方法が記載されている。この材料においては
露光後、感光層を剥離する前に、温水等によっての材料
への加湿処理が行なわれる。
号には支持体上に金属または金属化合物薄層およびバイ
ンダー用高分子化合物とキノン系、ジアン系。アジド系
、またはベンゾフェノン系感光剤よりなる感光層を設け
たネガ−ポジタイプの剥離による金属画像形成材料、及
びその処理方法が記載されている。この材料においては
露光後、感光層を剥離する前に、温水等によっての材料
への加湿処理が行なわれる。
特開昭54−130120号には、支持体土建金属また
は金属化合物からなる画像形成層、皮膜形成能を有する
熱可塑性ポリマーからなる中間層、ならびに窒素原子含
有光分解性化合物および皮膜形成能を有する熱可塑性ポ
リマーからなるバインダーを含む感光性組成物からなる
感光層を必須の層として有する感光性組成物おいて、該
感光層が、活性光照射され、その後、加熱させることに
より、該画像形成層と該支持体との界面接着力が小さく
なるか、又は該画像形成層と該中間層との界面接着力が
小さくなることを特徴とする感光性画像形成材料、及び
前記の材料を加熱し、剥離して、未露光部、または露光
部の画像形成層を該支持体上に残留させて画像を形成さ
せることからなる感光性画像形成材料の使用方法が記載
されている。この材料においては、露光後、感光層の剥
離前に加熱処理が必要である。
は金属化合物からなる画像形成層、皮膜形成能を有する
熱可塑性ポリマーからなる中間層、ならびに窒素原子含
有光分解性化合物および皮膜形成能を有する熱可塑性ポ
リマーからなるバインダーを含む感光性組成物からなる
感光層を必須の層として有する感光性組成物おいて、該
感光層が、活性光照射され、その後、加熱させることに
より、該画像形成層と該支持体との界面接着力が小さく
なるか、又は該画像形成層と該中間層との界面接着力が
小さくなることを特徴とする感光性画像形成材料、及び
前記の材料を加熱し、剥離して、未露光部、または露光
部の画像形成層を該支持体上に残留させて画像を形成さ
せることからなる感光性画像形成材料の使用方法が記載
されている。この材料においては、露光後、感光層の剥
離前に加熱処理が必要である。
特開昭59−198445号には支持体上に金項層、金
属表面処理層、感光層をこの順に有するポジーポジタイ
プの剥離による金属画像形成材料が記載されている。こ
の材料は露光後、感光層の剥離を行なうだけで、金属の
画像を得ることができるが、金属上に特殊な表面処理を
必要としている。
属表面処理層、感光層をこの順に有するポジーポジタイ
プの剥離による金属画像形成材料が記載されている。こ
の材料は露光後、感光層の剥離を行なうだけで、金属の
画像を得ることができるが、金属上に特殊な表面処理を
必要としている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明者は前記の問題点を解決すべ(鋭意研究を進め、
本発明を完成するに至った。
本発明を完成するに至った。
本発明の目的は、画像形成材料て特殊な表面処理を行う
必要がなく、また、露光後、加熱等の処理を一切必要と
せず単に感光層を剥離するだけで、画像を形成すること
ができる画像形成材料を提供することである。
必要がなく、また、露光後、加熱等の処理を一切必要と
せず単に感光層を剥離するだけで、画像を形成すること
ができる画像形成材料を提供することである。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明の愉離による画像形成材料をさら疋詳細に説明す
る。
る。
本発明の画像形成材料は支持体9画像形成層。
および、露光により金属層との接着力が増大する感光層
をこの順に有する構成になっている。この画像形成材料
を画像状に露光すると、露光部の感光層と画像形成層と
の接着力は増大するが未露光部の感光層と金属層との接
着力は変化しない、そこで感光層を剥離すれば、露光部
の画像形成層が支持体より除去されるが、未露光部の画
像形成しま支持体上に残って画像が形成される。
をこの順に有する構成になっている。この画像形成材料
を画像状に露光すると、露光部の感光層と画像形成層と
の接着力は増大するが未露光部の感光層と金属層との接
着力は変化しない、そこで感光層を剥離すれば、露光部
の画像形成層が支持体より除去されるが、未露光部の画
像形成しま支持体上に残って画像が形成される。
上記の本発明の画像形成機構の要点より、支持体1画像
形成層9g光層間の接着力の関係を示すと、未軍光時に
おける感光層−画像形成層間の接着力は画像形成層−支
持体間の接着力より低(、露光後の感光層−両便形成層
間の接着力は画像形成層−支持体間の接着力より高いこ
とが必要である。
形成層9g光層間の接着力の関係を示すと、未軍光時に
おける感光層−画像形成層間の接着力は画像形成層−支
持体間の接着力より低(、露光後の感光層−両便形成層
間の接着力は画像形成層−支持体間の接着力より高いこ
とが必要である。
本発明で使用する支持体としては、その表面に金属、全
1軍化合物、金属と金属化合物の混合物の中かへ選ばれ
た一層以上を設は得る各種材料を用いることができる。
1軍化合物、金属と金属化合物の混合物の中かへ選ばれ
た一層以上を設は得る各種材料を用いることができる。
一般に、高分子化合物、ガラス、セラミックス、金曜等
が用いられる。高分子化合物としては、ポリエステル例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリオレフィン例えばポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチンメタクリレー
ト、及びこれらの共重合体のような合成樹脂。
が用いられる。高分子化合物としては、ポリエステル例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリオレフィン例えばポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメチンメタクリレー
ト、及びこれらの共重合体のような合成樹脂。
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース。
プロピルセルロース及び混合セルロースエステルのよう
なセルロース誘導体があげられる。
なセルロース誘導体があげられる。
これら支持体には、着色、不透明化、筆記性の附与等の
ための各種添加物9例えば顔料、染料。
ための各種添加物9例えば顔料、染料。
充填剤等を添加することもできる。また、これら支持体
にコロナ放電処理、サンドブラスト処理。
にコロナ放電処理、サンドブラスト処理。
ケミカルエツチング、高分子化合物のコーティング等の
表面処理を行うこともできる。
表面処理を行うこともできる。
これら支持体の形状としてはフィルム、又はシート状が
一般的であるが、三次元的立体構造物でもよい。
一般的であるが、三次元的立体構造物でもよい。
支持体上に設ける、画像形成層は金属、金属化合物、金
属と金属化合物の混合物の中より選ばれた一層以とから
なり、金属の例としては、アシミニラム、亜鉛、銅、銀
、金、ニッケル、クロム。
属と金属化合物の混合物の中より選ばれた一層以とから
なり、金属の例としては、アシミニラム、亜鉛、銅、銀
、金、ニッケル、クロム。
コバルト、チタン、鉄、鉛、スズ、ビスマス、白金、銅
−亜鉛合金、ニツケヤークロム合金、ニッケルー鉄合金
をあげることができる。金属化合物の例としては、酸化
スズ(An02 ) 、酸化インジウム(In203)
、二酸化チタン、醸化亜鉛(ZnO) 。
−亜鉛合金、ニツケヤークロム合金、ニッケルー鉄合金
をあげることができる。金属化合物の例としては、酸化
スズ(An02 ) 、酸化インジウム(In203)
、二酸化チタン、醸化亜鉛(ZnO) 。
”I ウ化@(CIII) 、インジウム・スズの酸
化物(ITO)、(iiffl化カドミウム、7ツ化マ
グネシウム。
化物(ITO)、(iiffl化カドミウム、7ツ化マ
グネシウム。
Cd2SnO,、をあげることができる。
これら画像形成層を支持体とに設ける方法としては真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、
無電解メッキ法が採用される。
蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、
無電解メッキ法が採用される。
1ibi像形成層の厚さは一般に10mμから1000
m、uの範囲であり、用途に適した厚さを選ぶことが可
能である。たとえば、アルミニウム、スズ。
m、uの範囲であり、用途に適した厚さを選ぶことが可
能である。たとえば、アルミニウム、スズ。
銅等を第二原図、投影用原画として使用する場合、画像
形成層の厚さが薄くなりすぎると遮光性が乏しくなり、
形成した画像を明瞭に枝別することが甲難になる。また
アルミニウム、銅、ITO,酸化インジウム等を導電性
薄膜として使用する場合には、画像形成層の厚さが薄(
なりすぎると表面抵抗が大きくなりすぎ、実用に適さな
(なる、また、いずれの用途に使用される場合にも、厚
くなりすぎると、画像のシャープさに欠け、解像力が低
下する。以上の理由から画像形成層の厚さは、好ましく
は20mμから500mμの範囲である。
形成層の厚さが薄くなりすぎると遮光性が乏しくなり、
形成した画像を明瞭に枝別することが甲難になる。また
アルミニウム、銅、ITO,酸化インジウム等を導電性
薄膜として使用する場合には、画像形成層の厚さが薄(
なりすぎると表面抵抗が大きくなりすぎ、実用に適さな
(なる、また、いずれの用途に使用される場合にも、厚
くなりすぎると、画像のシャープさに欠け、解像力が低
下する。以上の理由から画像形成層の厚さは、好ましく
は20mμから500mμの範囲である。
感光層は次の(Al 、 (Bl 、 fclを必須の
成分とする。
成分とする。
囚セルロースエステル、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リウレタン、フェノキシ樹肥、ポリビニャアセタール、
塩化ビニル(共重合体)、酢酸ビニlしく共1合体)、
塩化ビニリデン(共重合体)、アクリル酸エステル(共
重合体)、ポリビニνアルコーlの中より選ばれた一種
以上の高分子化合物、 (但しR1は水素原子又はメチル基、R2はアシキレン
基、m、nはそれぞれ1又は2でm−)−n=3) で表わされる化合物の一種以上 fcl光重合開始剤 感光層に使用する高分子化合物のセルロースエステルと
しては、アセチル−ブチルセルロース。
リウレタン、フェノキシ樹肥、ポリビニャアセタール、
塩化ビニル(共重合体)、酢酸ビニlしく共1合体)、
塩化ビニリデン(共重合体)、アクリル酸エステル(共
重合体)、ポリビニνアルコーlの中より選ばれた一種
以上の高分子化合物、 (但しR1は水素原子又はメチル基、R2はアシキレン
基、m、nはそれぞれ1又は2でm−)−n=3) で表わされる化合物の一種以上 fcl光重合開始剤 感光層に使用する高分子化合物のセルロースエステルと
しては、アセチル−ブチルセルロース。
二トロセVロース、エチルセルロース、アセチルセルロ
ースを、ポリアミドとしては、つlレトラミドIC(カ
プロラクタム、ヘキサメチレンジアミンアジヘート及び
4.4′−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジベート
の共重合体の商品名)、ヘキサメチレンジアンモニウム
アジペート、ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート
等をメトキシメチジ化して得られるポリアミドを、ポリ
エステルとしては、東洋紡績社製のバイロン−200゜
バイロン−300,グツドイヤー社製のバイチルPE−
200、バイチルPB−207を、ポリウレタンとして
は、三洋化成工業社製のサンブレンLQ−567、LQ
−X5 、 LQ−909L 。
ースを、ポリアミドとしては、つlレトラミドIC(カ
プロラクタム、ヘキサメチレンジアミンアジヘート及び
4.4′−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジベート
の共重合体の商品名)、ヘキサメチレンジアンモニウム
アジペート、ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート
等をメトキシメチジ化して得られるポリアミドを、ポリ
エステルとしては、東洋紡績社製のバイロン−200゜
バイロン−300,グツドイヤー社製のバイチルPE−
200、バイチルPB−207を、ポリウレタンとして
は、三洋化成工業社製のサンブレンLQ−567、LQ
−X5 、 LQ−909L 。
LQ−5510,LQ8−Aを、ポリビニルアセタール
としてはポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール
を、塩化ビニル(共重合体)、酢酸ビニル(共重合体)
、塩化ビニリデン(共重合体)。
としてはポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール
を、塩化ビニル(共重合体)、酢酸ビニル(共重合体)
、塩化ビニリデン(共重合体)。
アクリル酸エステル(共重合体)としては、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体。
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体。
塩化ビニャー塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニlシーアクリロニトリル共重合体。
酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニlシーアクリロニトリル共重合体。
塩化ビニル酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
、塩化ビニル−塩化ビニリデンーメチャメタクリレート
共重合体、酢酸ビニル、酢酸ビニルーアクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−酢酸ビニυ共重合体、ポリアク
リル酸エステル。
化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
、塩化ビニル−塩化ビニリデンーメチャメタクリレート
共重合体、酢酸ビニル、酢酸ビニルーアクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−酢酸ビニυ共重合体、ポリアク
リル酸エステル。
アクリル酸エステiレーメチルメタクリレート共重合体
、アクリル酸エステル−スチレン共重合体を例として、
あげることができる。
、アクリル酸エステル−スチレン共重合体を例として、
あげることができる。
(但しRは水素原子又はメチル基、R2はアル■
キレン基、m、nはそれぞれ1又は2でm−1−n =
り) で表わされる化合物としては、アクリロキシエチルフォ
スフェート、メタアクリロキシエチル7オスフエート、
ビス(アクリロキシエチル)フォスフェート、ビス(メ
タアクリロキシエチル)フォスフェート、アクリロキシ
プロピルフォスフェート、メタアクリロキシプロピルフ
ォスフェート。
り) で表わされる化合物としては、アクリロキシエチルフォ
スフェート、メタアクリロキシエチル7オスフエート、
ビス(アクリロキシエチル)フォスフェート、ビス(メ
タアクリロキシエチル)フォスフェート、アクリロキシ
プロピルフォスフェート、メタアクリロキシプロピルフ
ォスフェート。
ビス(アクリロキシプロピル)フォスフェート。
ビス(メタアクリロキシプロピル)フォスフェートなど
をあげることができる。
をあげることができる。
感光層に使用する光重合開始剤としてはベンゾイン、ベ
ンソインメチルエーテA/、ベンゾインエチルエーテル
、ペンゾイソプロヒャエーテル、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアン
トラキノン、1−ヒドロキシシクロへキシルブエニtv
ケトン、ヘンシVジメチIレケタール、2−クロルチオ
キサントン。
ンソインメチルエーテA/、ベンゾインエチルエーテル
、ペンゾイソプロヒャエーテル、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアン
トラキノン、1−ヒドロキシシクロへキシルブエニtv
ケトン、ヘンシVジメチIレケタール、2−クロルチオ
キサントン。
2.4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン、2(−0−クロロフェニル)−4゜5−
ジフェニルイミダゾーン二量体、α、α−ジクロロー4
−フェノキシアセトフェノン、α、α、α−トIJ フ
ロモメチルフェニルスルホンナトがあり、単独あるいは
二種以上の混合物として使用できる。
オキサントン、2(−0−クロロフェニル)−4゜5−
ジフェニルイミダゾーン二量体、α、α−ジクロロー4
−フェノキシアセトフェノン、α、α、α−トIJ フ
ロモメチルフェニルスルホンナトがあり、単独あるいは
二種以上の混合物として使用できる。
感光層に含有させることもできる(B)で表わされる以
外のエチレン性不飽和化合物としては、アクリレート類
、メタクリレート類、アクリルアミド類など多数あるが
、常温で液体かまたは固体で、常圧で沸点が100℃以
上のものが好ましい。
外のエチレン性不飽和化合物としては、アクリレート類
、メタクリレート類、アクリルアミド類など多数あるが
、常温で液体かまたは固体で、常圧で沸点が100℃以
上のものが好ましい。
アクリレート類としてはn−プチャアクリレート、シク
ロヘキシャアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ブトキシエチIレアクリレート、2−フェ
ノキシエチルアクリレート。
ロヘキシャアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ブトキシエチIレアクリレート、2−フェ
ノキシエチルアクリレート。
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
−ヤシアクリレート、1.6−ヘキサンシオーヤジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ソ
ヤビトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレ
ート、ト1リメチロールエタントリアクリレート、トリ
メチロ−〜プロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トーMトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリト−にへキサアクリレ
ート、シヘンタエリスリトールベンタアクリレ−トなど
があげられる。
−ヤシアクリレート、1.6−ヘキサンシオーヤジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ソ
ヤビトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレ
ート、ト1リメチロールエタントリアクリレート、トリ
メチロ−〜プロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トーMトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリト−にへキサアクリレ
ート、シヘンタエリスリトールベンタアクリレ−トなど
があげられる。
メタクリレート類としては、n−ブチルメタクリレート
、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシンメタクリ
レート、フエニャメタクリレート。
、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシンメタクリ
レート、フエニャメタクリレート。
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチレングリコ
−!レジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、1.6−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、1,4−ブチレングリコールジメタクリレート、
ジプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコ−!レジメタクリレート、1.6−ヘキサンシ
オールジメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリ
レート、フルビトールジメタク1ル−ト、ソルビトール
トリメタクリレート、トリメチロ−ヤニタントリメタク
リレート、トリメチローヤプロパントリメタクリレート
、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレートなどがあげられる。
−!レジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、1.6−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、1,4−ブチレングリコールジメタクリレート、
ジプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコ−!レジメタクリレート、1.6−ヘキサンシ
オールジメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリ
レート、フルビトールジメタク1ル−ト、ソルビトール
トリメタクリレート、トリメチロ−ヤニタントリメタク
リレート、トリメチローヤプロパントリメタクリレート
、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレートなどがあげられる。
アクリルアミド類としてはアクリヤアジド、ジアセトン
アクリルアミド、N、N−ジエチルアクリルアミド、N
、N’−メチレンビスアクリルアミド9N−ヒドロキシ
メチルアクリルアミドなどがあげられる。
アクリルアミド、N、N−ジエチルアクリルアミド、N
、N’−メチレンビスアクリルアミド9N−ヒドロキシ
メチルアクリルアミドなどがあげられる。
また上記以外の重合可能なエチレン性不飽和化合物とし
てはメタクリルアミド、N、N’−メチレンビスメタク
リルアミド、α−メチMスチレン。
てはメタクリルアミド、N、N’−メチレンビスメタク
リルアミド、α−メチMスチレン。
アリル酢酸、アリルアセトン、アリルアルコール。
アリルベンゼン、2−ビニルピリジン、N−ビニル−2
−ピロリドン、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジアリ
ル、イタコン酸モノブチル、マレイン酸ジアリル、フマ
ール酸ジアリIし、N−ラウリtvマレイミドなどがあ
げられる。
−ピロリドン、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジアリ
ル、イタコン酸モノブチル、マレイン酸ジアリル、フマ
ール酸ジアリIし、N−ラウリtvマレイミドなどがあ
げられる。
以上のほか(2)で示した以外の高分子化合物も、感光
層成分として加えることができる。その例としては、塩
化ゴム、ffl化ゴム、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリビニルピロリドン、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、スチレン−マレイン酸共重合体、ビ
ニ々メチルエーテシーマレイン酸共重合体、ケトン樹脂
などがある。
層成分として加えることができる。その例としては、塩
化ゴム、ffl化ゴム、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリビニルピロリドン、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、スチレン−マレイン酸共重合体、ビ
ニ々メチルエーテシーマレイン酸共重合体、ケトン樹脂
などがある。
また、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、P−ベンゾキノン、P−二トロフェノール等の熱
重合防止剤、トリエタノールアミン、P−ジメチャアミ
ノ安息香酸メチルエステル。
テル、P−ベンゾキノン、P−二トロフェノール等の熱
重合防止剤、トリエタノールアミン、P−ジメチャアミ
ノ安息香酸メチルエステル。
P−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルなどの
光重合促進剤、染料、顔料など適宜加えることもできる
。
光重合促進剤、染料、顔料など適宜加えることもできる
。
感光層の高分子化合物に対する囮で示される化合物の添
加量は通常0.5から10重量%であり、光重合開始剤
の添加量は通常0.1から20重重景である。また(B
lで表わされる以外のエチレン性不飽和化合物を添加す
る場合は高分子化合物に対して通常100重景9以下で
ある。
加量は通常0.5から10重量%であり、光重合開始剤
の添加量は通常0.1から20重重景である。また(B
lで表わされる以外のエチレン性不飽和化合物を添加す
る場合は高分子化合物に対して通常100重景9以下で
ある。
感光層を画像形成層上に形成する方法としてはfAl
、 fil 、 fclで示した各成分、必要に応じて
、熱重合防止剤、光重合促進剤、染料、顔料などを適当
な溶剤に溶解あるいは分散して、感光液とし、これを画
像形成層上に直接塗布し、乾燥するか、あるいは、感光
液を別の支持体上に塗布し、乾燥して感光層を形成した
後、画像形成層上にこの感光層をラミネートする方法が
一般的である。
、 fil 、 fclで示した各成分、必要に応じて
、熱重合防止剤、光重合促進剤、染料、顔料などを適当
な溶剤に溶解あるいは分散して、感光液とし、これを画
像形成層上に直接塗布し、乾燥するか、あるいは、感光
液を別の支持体上に塗布し、乾燥して感光層を形成した
後、画像形成層上にこの感光層をラミネートする方法が
一般的である。
溶剤としてはメチルエチャケトン、アセトン。
トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メチルアルコ
ール、エチルアlレコール、イソプロピルアルコ−〃、
メチルセロンルフ、エチルセロソルブ。
ール、エチルアlレコール、イソプロピルアルコ−〃、
メチルセロンルフ、エチルセロソルブ。
酢酸エチル、などが用いられる。
感光層の厚さは0.5から100 、aが一般的である
が好ましくは2から20μである。
が好ましくは2から20μである。
本発明の画像形成材料は必要に応じて感光層上に直接カ
バーフィルムを設けることもできる。また感光層上に接
着剤層を介してカバーフィルムを設けることもできる。
バーフィルムを設けることもできる。また感光層上に接
着剤層を介してカバーフィルムを設けることもできる。
その主な目的は感光層剥離時の感光層の強度の増加およ
び、露光時の空気中の酸素の影響による感度の低下を防
止するためである。カバーフィルムとしては、感光層の
光感受性を明害しないように透明性の優れたものが好ま
しく、この点より、ポリエステル、ポリプロピレン、ポ
リアミド、ポリ塩化ビニル、セルロースエステル等のフ
ィルムが適当である。また接着剤層を介してカバーフィ
ルムを設ける場合、接着剤としては、例えばアクリル系
の感圧接着剤、エポキシ系、ウレタン系等の硬化型接着
剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のホラトメシト系
の接着剤などを使用できる。
び、露光時の空気中の酸素の影響による感度の低下を防
止するためである。カバーフィルムとしては、感光層の
光感受性を明害しないように透明性の優れたものが好ま
しく、この点より、ポリエステル、ポリプロピレン、ポ
リアミド、ポリ塩化ビニル、セルロースエステル等のフ
ィルムが適当である。また接着剤層を介してカバーフィ
ルムを設ける場合、接着剤としては、例えばアクリル系
の感圧接着剤、エポキシ系、ウレタン系等の硬化型接着
剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のホラトメシト系
の接着剤などを使用できる。
以上のように構成した画像形成材料に画像露光を行うこ
とにより、露光部の感光層と画像形成層との接着力が増
大する。そこで感光層を剥離すれば、露光部に相当する
画像形成層が支持体より感光層ととも知除去され、未露
光部に相当する画像形成層が支持体上に残留して画像を
形成する。
とにより、露光部の感光層と画像形成層との接着力が増
大する。そこで感光層を剥離すれば、露光部に相当する
画像形成層が支持体より感光層ととも知除去され、未露
光部に相当する画像形成層が支持体上に残留して画像を
形成する。
この場合に用いる光源としては、太陽光を含めて紫外線
ないし、短波長側可視光線を放射するものが好適で、例
えば、高圧水錯灯、カーボンアーク灯、セキノン灯、メ
タヤハライド灯等が用いられる。
ないし、短波長側可視光線を放射するものが好適で、例
えば、高圧水錯灯、カーボンアーク灯、セキノン灯、メ
タヤハライド灯等が用いられる。
次に本発明を実施例だよって更に詳細に説明する。なお
本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではな
い。
本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではな
い。
実施例 1゜
厚さ10nμの透明ポリエチレンテレフタレートフィル
ム(支持体)の片面に真空蒸着により100 m、aの
アルミニウム薄膜を設けた。このフィルムのアルミニウ
ム面上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が、10.
aになるよ5に塗布し、90℃で2分間乾燥して、感光
性フィルムを得た。
ム(支持体)の片面に真空蒸着により100 m、aの
アルミニウム薄膜を設けた。このフィルムのアルミニウ
ム面上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が、10.
aになるよ5に塗布し、90℃で2分間乾燥して、感光
性フィルムを得た。
感光液
この感光性フィルムの感光層をポジ原稿と重ね合せ、1
5DOWの水銀灯を内蔵した株式会社リコー製ノリコピ
ー5M−1500により焼付目盛0で露光した。感光層
を剥離すると、鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体
上に得られた。
5DOWの水銀灯を内蔵した株式会社リコー製ノリコピ
ー5M−1500により焼付目盛0で露光した。感光層
を剥離すると、鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体
上に得られた。
実施例 2゜
実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が87αになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た。
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が87αになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た。
感光液
この感光性フィルムの感光層をポジ原稿と密着させ、超
高圧水銀灯2KWで1mの距離より40秒露光した。感
光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持
体上に得られた。
高圧水銀灯2KWで1mの距離より40秒露光した。感
光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持
体上に得られた。
実施例3゜
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面に真空蒸着により70nμの鋼の薄膜を設けた。こ
のフィルムの銀面上に実施例1で使用した感光液を実施
例1と同様だ塗布、乾燥して感光性フィルムを得た。
片面に真空蒸着により70nμの鋼の薄膜を設けた。こ
のフィルムの銀面上に実施例1で使用した感光液を実施
例1と同様だ塗布、乾燥して感光性フィルムを得た。
この感光性ソイlレムを、実施例1と同様に露光後、感
光層を剥離すると鮮明な釧のポジ画像が支持体上に得ら
れた。
光層を剥離すると鮮明な釧のポジ画像が支持体上に得ら
れた。
実施例 4゜
実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムのアルミ面上に下記の組成の
感光液を乾燥後の膜厚が12,6尾なるように塗布し、
90℃で2分間乾燥して、感光性フィルムを得た。
ンテレフタレートフィルムのアルミ面上に下記の組成の
感光液を乾燥後の膜厚が12,6尾なるように塗布し、
90℃で2分間乾燥して、感光性フィルムを得た。
感光液
この感光性フィルムの感光層をポジ原稿と重ね合せ、実
施例1で使用した露光装置を用い、焼付目盛5で露光し
た。感光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像
が支持体上に得られた。
施例1で使用した露光装置を用い、焼付目盛5で露光し
た。感光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像
が支持体上に得られた。
実施例 5゜
R−サ100 、u (7) ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に真空蒸着により、60 m、uの
銅の薄膜を設けた。このフィルムの銅面上に下記の組成
の感光液を乾燥後の膜厚が8μになるように塗布し、9
0℃で5分間賞燥して感光性フイIレムを得た。
ートフィルムの片面に真空蒸着により、60 m、uの
銅の薄膜を設けた。このフィルムの銅面上に下記の組成
の感光液を乾燥後の膜厚が8μになるように塗布し、9
0℃で5分間賞燥して感光性フイIレムを得た。
感光液
この感光性フィルムを、実施例1と同様に露光後、感光
層を剥離すると鮮明な銅のポジ画像が支持体上に得られ
た。
層を剥離すると鮮明な銅のポジ画像が支持体上に得られ
た。
実施例6゜
原さ100.Wのポリエチレンテレフタレートフィルム
の片面K I T O(In20395mo1%、 S
n025mo1%)のターゲットを用いて、0.5 K
Wの出力でスパッタリングして表面抵抗400Ω/口の
透明導電性薄膜を得た。スパッタリングガスは酸素7%
を含むアルゴンを用いた。この透明導電性薄膜の上知下
記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が10、αになるよう
に塗布し、90℃で2分間乾燥して、感光性フィルムを
得た。
の片面K I T O(In20395mo1%、 S
n025mo1%)のターゲットを用いて、0.5 K
Wの出力でスパッタリングして表面抵抗400Ω/口の
透明導電性薄膜を得た。スパッタリングガスは酸素7%
を含むアルゴンを用いた。この透明導電性薄膜の上知下
記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が10、αになるよう
に塗布し、90℃で2分間乾燥して、感光性フィルムを
得た。
感光液
この感光性フィルムを実施例2と同様に40秒間露光し
た。感光層を剥離すると、ITOのポジ画像が支持体上
に得られた。
た。感光層を剥離すると、ITOのポジ画像が支持体上
に得られた。
実施例1
実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面土に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が、12、aになるように
塗布し、90℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た
。
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面土に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が、12、aになるように
塗布し、90℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た
。
感光液
この感光性フィルムを実施例1と同様に露光後、感光層
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
実施例8゜
実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が15μになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥して感光性フイνムを得た。
ンテレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の
組成の感光液を乾燥後の膜厚が15μになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥して感光性フイνムを得た。
感光液
この感光性フイにムを実施例2と同様に1分60秒間露
光した。感光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ
画像が支持体上に得られた。
光した。感光層を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ
画像が支持体上に得られた。
実施例 9
実施例1で使用したアルミニウム蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の組
成の感光液を乾燥後の膜厚が10μになるように塗布し
、90℃で3分間乾燥して感光性フイΔ・ムを得た。
テレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の組
成の感光液を乾燥後の膜厚が10μになるように塗布し
、90℃で3分間乾燥して感光性フイΔ・ムを得た。
感光液
ヒ水 5 〃
この感光性フィルムを実施例1と同様に露光後、感光層
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
この感光性フィルムを実施例1と同様に露光後、感光層
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
実施例 10゜
実施例1で使用したアルミニウム蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムのアルミニウム面とに下記の組
成の感光液を乾燥後の膜厚が7 、uになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥した。
テレフタレートフィルムのアルミニウム面とに下記の組
成の感光液を乾燥後の膜厚が7 、uになるように塗布
し、90℃で2分間乾燥した。
感光液
この感光層上に、アクリル系、粘着接着剤(日本カーバ
イド工業社製、ニラセンPE115A)を25、aの厚
さで設けた12μの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム(カバーフィルム)をラミネートして、感光層
上に接着剤層を介してカバーフィルムを有する感光性フ
ィルムを得た。
イド工業社製、ニラセンPE115A)を25、aの厚
さで設けた12μの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム(カバーフィルム)をラミネートして、感光層
上に接着剤層を介してカバーフィルムを有する感光性フ
ィルムを得た。
この感光性フィルムのカバーフィルム上にポジ原稿を密
着させ、超高圧水銀灯2KWで1mの距離より1分間露
光した。感光層を接着剤層、カバーフィルムとともに剥
離すると、アルミニウムのポジ画像が支持体上に、ネガ
画像が接着剤層とカバーフィルムをともなった感光層上
に鮮明に得られた。また、カバーフィルムを有するため
に感光層の剥離を容易に行うことができた。
着させ、超高圧水銀灯2KWで1mの距離より1分間露
光した。感光層を接着剤層、カバーフィルムとともに剥
離すると、アルミニウムのポジ画像が支持体上に、ネガ
画像が接着剤層とカバーフィルムをともなった感光層上
に鮮明に得られた。また、カバーフィルムを有するため
に感光層の剥離を容易に行うことができた。
実施例 11゜
厚さ25μのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮
の支持体)上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が8
μになるように塗布し、90’Cで2分間乾燥して、感
光層を形成した。
の支持体)上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚が8
μになるように塗布し、90’Cで2分間乾燥して、感
光層を形成した。
感光液
この感光層上に下記の組成のドライラミネート用接着剤
液を35.aの厚さで設けた12μのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(カバーフィルム)を80℃でラミ
ネートし、接着剤層を介してカバーマイlレムを有する
感光層を得た。
液を35.aの厚さで設けた12μのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(カバーフィルム)を80℃でラミ
ネートし、接着剤層を介してカバーマイlレムを有する
感光層を得た。
ドライラミネート用接着剤液
次に5[1,αのポリエチレンテレフタレートフィルム
を除去後、接着剤層を介してカバーフィルムを有する感
光層の感光膜面を実施例1で使用したアルミニウムを蒸
着したポリエチレンテレフタレートフィルムのアルミニ
ウム面上に80℃でラミネートし、感光性フィルムを得
た。
を除去後、接着剤層を介してカバーフィルムを有する感
光層の感光膜面を実施例1で使用したアルミニウムを蒸
着したポリエチレンテレフタレートフィルムのアルミニ
ウム面上に80℃でラミネートし、感光性フィルムを得
た。
この感光性フイνムを実施例10と同様に1分間露光し
た。感光層を接着剤層とカバーフィルムとともの剥離す
ると支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また、接着
剤層とカバーフィルムをともなった感光層上にネガ画像
が鮮明に得られた。
た。感光層を接着剤層とカバーフィルムとともの剥離す
ると支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また、接着
剤層とカバーフィルムをともなった感光層上にネガ画像
が鮮明に得られた。
実施例 12゜
実施例6で使用したITOをスパッタリングしたポリエ
チレンテレフタレートフィルムのITO面上に実施例1
1と同様にして得た接着剤層を介してカバーフィルムを
有する感光層を80°Cでうミネートし、感光性フィル
ムを得た。
チレンテレフタレートフィルムのITO面上に実施例1
1と同様にして得た接着剤層を介してカバーフィルムを
有する感光層を80°Cでうミネートし、感光性フィル
ムを得た。
この感光性フィルムを実施例10と同様に露光後、感光
層を接着剤層、カバーフィルムとともに剥離すると、支
持体上にITOのポジ画像がまた接着剤層とカバーフィ
ルムをともなった感光層上にネガ画像が得られた。
層を接着剤層、カバーフィルムとともに剥離すると、支
持体上にITOのポジ画像がまた接着剤層とカバーフィ
ルムをともなった感光層上にネガ画像が得られた。
実施例 13゜
コロナ放電処理により表面処理した厚さ1207αのポ
リプロピレンフィルムの片面に真空蒸着により50m7
αのアルミニウム模を設けた。このソイlレムのアルミ
ニウム面上に、実施例2で使用した感光液を実施例2と
同様く塗布、乾燥して感光性フィルムを得た。
リプロピレンフィルムの片面に真空蒸着により50m7
αのアルミニウム模を設けた。このソイlレムのアルミ
ニウム面上に、実施例2で使用した感光液を実施例2と
同様く塗布、乾燥して感光性フィルムを得た。
この感光性フィルムを実施例2と同#VC露光後、感光
層を剥離すると、鮮明なポジ画像が支持体上π得られた
。
層を剥離すると、鮮明なポジ画像が支持体上π得られた
。
実施例14゜
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面に真空蒸着により50mμの銅の薄膜を設けた。さ
らに銅の薄膜上に真空蒸着により50 m、aのニッケ
ルの薄膜を設け、銅とニッケルの二層よりなる画像形成
層を形成した。
片面に真空蒸着により50mμの銅の薄膜を設けた。さ
らに銅の薄膜上に真空蒸着により50 m、aのニッケ
ルの薄膜を設け、銅とニッケルの二層よりなる画像形成
層を形成した。
このフィルムの画像形成層上に下記の組成の感光液を乾
燥後の瞭厚が12.uになるように塗布し90℃で2分
間乾燥して感光性フィルムを得た。
燥後の瞭厚が12.uになるように塗布し90℃で2分
間乾燥して感光性フィルムを得た。
感光液
この感光性フィルムを実施例2と同様に50秒間露光し
た。感光層を剥離すると銅とニッケルの二層よりなる鮮
明なポジ画像が支持体上に得られた。
た。感光層を剥離すると銅とニッケルの二層よりなる鮮
明なポジ画像が支持体上に得られた。
実施例 15゜
Fll[”IQ、αのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの片面にスパッタリングにより60 m、αの黄銅
(亜鉛、、4Fl=33/67 )の薄膜を設けた。
ルムの片面にスパッタリングにより60 m、αの黄銅
(亜鉛、、4Fl=33/67 )の薄膜を設けた。
このフィルムの黄銅面上に下記の組成の感光液を乾燥後
の瞑厚が12μになるように塗布し90℃で2分間乾燥
して、感光性フィルムを得た。
の瞑厚が12μになるように塗布し90℃で2分間乾燥
して、感光性フィルムを得た。
感光液
「フェノキシ樹脂PKHH10重量部
い、、A;+、、ア7.ヨー〜
30 −この感光性フィルムを実施例2と同様に1分間
露光した。感光層を剥離すると鮮明なポジ画像が支持体
上に得られた。
30 −この感光性フィルムを実施例2と同様に1分間
露光した。感光層を剥離すると鮮明なポジ画像が支持体
上に得られた。
実施例 16゜
実施例1で使用したアルミニウム蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の組
成の感光液を乾燥後の模厚が10μになるように塗布し
、90°Cで2分間乾燥した。
テレフタレートフィルムのアルミニウム面上に下記の組
成の感光液を乾燥後の模厚が10μになるように塗布し
、90°Cで2分間乾燥した。
感光液
この感光性フィルムを実施例1と同様に霧光後、感光層
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
を剥離すると鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上
に得られた。
実施例 1Z
実施例1で使用したアルミニウム蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムのアルミ面、、[下記の組成の
感光液を乾燥後の膜厚が8μになるようだ塗布し、90
℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た。
テレフタレートフィルムのアルミ面、、[下記の組成の
感光液を乾燥後の膜厚が8μになるようだ塗布し、90
℃で2分間乾燥して感光性フィルムを得た。
感光液
ヒトIレニン
40 〃この感光性フイヤムの感光層をポジ原稿
と重ね合せ、実施例1で使用した露光装置を用い焼付目
盛、10で露光した。感光層を剥離すると、鮮明なアル
ミニウムのポジ画像が支持体上に得られた。
40 〃この感光性フイヤムの感光層をポジ原稿
と重ね合せ、実施例1で使用した露光装置を用い焼付目
盛、10で露光した。感光層を剥離すると、鮮明なアル
ミニウムのポジ画像が支持体上に得られた。
実施例 18゜
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフィルム(カ
バーフィルム)上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚
が、12μになるように塗布し、90℃で2分間乾燥し
て感光層を形成した。
バーフィルム)上に下記の組成の感光液を乾燥後の膜厚
が、12μになるように塗布し、90℃で2分間乾燥し
て感光層を形成した。
感光液
この感光層を有するカバーフィルムの感光面と実施例1
で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレンフィル
ムのアルミニウム面とを90℃でラミネートし、カバー
フィルムを有する感光性フイヤムを得た。
で使用したアルミニウムを蒸着したポリエチレンフィル
ムのアルミニウム面とを90℃でラミネートし、カバー
フィルムを有する感光性フイヤムを得た。
この感光性フイヤムのカバーフィルム面(ポジ原稿を重
ね合せ、実施例1で使用したβ光装置を用い、焼付目盛
、20で露光した。カバーフィルムと感光層を剥離する
と鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上に得られた
。
ね合せ、実施例1で使用したβ光装置を用い、焼付目盛
、20で露光した。カバーフィルムと感光層を剥離する
と鮮明なアルミニウムのポジ画像が支持体上に得られた
。
〈発明の効果〉
本発明の画像形成材料は、画像形成層上に特殊な表面処
理を行う必要がなく、また、露光後、加熱等の処理を一
切必要とせず、単に感光層を剥離するだけで画像を形成
することができる。
理を行う必要がなく、また、露光後、加熱等の処理を一
切必要とせず、単に感光層を剥離するだけで画像を形成
することができる。
第1図のa、b、(は本発明の画像形成材料の断面図で
ある。 第2図のa * b * cは本発明の画像形成材料を
原稿を通して活性光で露光している断面図である。 第6図のa、b、cは露光後、感光層を剥離して画像を
形成した状態を示す。 1・・・支持体、 2・・・画像形成層、 5・・
・感光層、4・・・カバーフィルム、 5・・・接着
剤層、 6・・・原稿(マスク)、 7・・・活性光
。 特許出願人 株式会社 き も と (外5名)
ある。 第2図のa * b * cは本発明の画像形成材料を
原稿を通して活性光で露光している断面図である。 第6図のa、b、cは露光後、感光層を剥離して画像を
形成した状態を示す。 1・・・支持体、 2・・・画像形成層、 5・・
・感光層、4・・・カバーフィルム、 5・・・接着
剤層、 6・・・原稿(マスク)、 7・・・活性光
。 特許出願人 株式会社 き も と (外5名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、支持体、画像形成層、感光層をこの順に有し、未露
感時には、画像形成層−感光層間の接着力は支持体−画
像形成層間の接着力より低く、かつ露光により、画像形
成層−感光層間の接着力が支持体−画像形成層間の接着
力より高くなり、露光後、感光層を剥離することにより
、露光部の画像形成層を感光層とともに支持体より除去
し、支持体上に未露光部の画像形成層を残留させる画像
形成材料において、画像形成層が、金属、金属化合物、
金属と金属化合物の混合物の中から選ばれた、一層以上
からなり、感光層が (A)セルロースエステル、ポリアミド、ポリエステル
、ポリウレタン、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセター
ル、塩化ビニル(共重合体)、酢酸ビニル(共重合体)
、塩化ビニリデン(共重合体)、アクリル酸エステル(
共重合体)、ポリビニルアルコールの中より選ばれた一
種以上の高分子化合物。 (B)▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_1は水素原子又はメチル基;R_2はアルキ
レン基;m、nはそれぞれ1又は2で m+n=5) で表わされる化合物の一種以上、及び (C)光重合開始剤 を必須の成分とする画像形成材料。 2、感光層上にカバーフィルムを有する特許請求の範囲
第1項に記載の画像形成材料。 3、感光層上に接着剤層、カバーフィルムをこの順に有
する特許請求の範囲第1項に記載の画像形成材料。 4、感光層に▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_1は水素原子、又はメチル基、R_2はアル
キレン基、m、nはそれぞれ1又は2でm+n=3) で表わされる化合物以外の重合可能なエチレン性不飽和
化合物を含有する、特許請求の範囲第1〜3項に記載の
画像形成材料。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210487A JPS6270835A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 剥離による画像形成材料 |
| US07/043,188 US4751167A (en) | 1985-09-24 | 1987-04-27 | Image producing material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210487A JPS6270835A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 剥離による画像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6270835A true JPS6270835A (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16590159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60210487A Pending JPS6270835A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 剥離による画像形成材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4751167A (ja) |
| JP (1) | JPS6270835A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO1995028665A1 (en) * | 1994-04-13 | 1995-10-26 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition for form plates and printing block material of photosensitive resin |
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| EP0762214A1 (en) * | 1995-09-05 | 1997-03-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer |
| US6400916B1 (en) * | 1998-11-30 | 2002-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Process cartridge and electrophotographic apparatus |
| DE102005024980B3 (de) * | 2005-06-01 | 2006-12-28 | Leuze Electronic Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Herstellung eines Optikelements für einen optischen Sensor |
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Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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