JPS6271155A - 電子ビ−ム装置用陰極 - Google Patents
電子ビ−ム装置用陰極Info
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- JPS6271155A JPS6271155A JP60211526A JP21152685A JPS6271155A JP S6271155 A JPS6271155 A JP S6271155A JP 60211526 A JP60211526 A JP 60211526A JP 21152685 A JP21152685 A JP 21152685A JP S6271155 A JPS6271155 A JP S6271155A
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- Japan
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- electron
- electron beam
- emission surface
- electron emission
- cathode
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- Pending
Links
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 18
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- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、線状電子ビームを放出するためにフイラメン
Ｉ・の電子放出面を線状にした電子ビーム装置用陰極に
関するものである。
Ｉ・の電子放出面を線状にした電子ビーム装置用陰極に
関するものである。
［従来の技術Ｊ
従来、電子ビーム装置用陰極としてはタングステンやタ
ンタルなどの耐高温金属またはニッケル上に被覆した酸
化物が用いられてきた。特にタングステンは電子ビーム
加二［機では多く使われ、電７−辰出も直接通電加熱や
電子衝撃加熱の方法で行われてきた。電子ビーム加工機
の中でもアニール装置、特に大面積を均一に、例えばシ
リコンウェハをアニールするような電子ビーム装置用陰
極では、第２図に示すように、帯状のタングステンフィ
ラメン１−（例えば断面が１．４ ｍｓ ：＜ １１．
１７ｍｍの線状のらの）を単純に折り曲げたような形状
でステム部８．１０及び１．４ ａｍ Ｘ ５ ＋ｌＩ
＋の電子放出面積を有する電子放出面９を形成して直接
通電加熱をタングステンフイラメ゛ン１〜としていた。
ンタルなどの耐高温金属またはニッケル上に被覆した酸
化物が用いられてきた。特にタングステンは電子ビーム
加二［機では多く使われ、電７−辰出も直接通電加熱や
電子衝撃加熱の方法で行われてきた。電子ビーム加工機
の中でもアニール装置、特に大面積を均一に、例えばシ
リコンウェハをアニールするような電子ビーム装置用陰
極では、第２図に示すように、帯状のタングステンフィ
ラメン１−（例えば断面が１．４ ｍｓ ：＜ １１．
１７ｍｍの線状のらの）を単純に折り曲げたような形状
でステム部８．１０及び１．４ ａｍ Ｘ ５ ＋ｌＩ
＋の電子放出面積を有する電子放出面９を形成して直接
通電加熱をタングステンフイラメ゛ン１〜としていた。
電子放出面９から放出された電子は、被アユ−７し１勿
上で例えば５ ａｍ Ｘ Ｏ，’（ｌのビームになるよ
うに電磁レンズで絞られ、アニールを行う。この際、例
えばシリコンウェハのアニールに使用するには、電子ビ
ームプロファイルの電流密度の分布むらを極力抑える必
要がある。
上で例えば５ ａｍ Ｘ Ｏ，’（ｌのビームになるよ
うに電磁レンズで絞られ、アニールを行う。この際、例
えばシリコンウェハのアニールに使用するには、電子ビ
ームプロファイルの電流密度の分布むらを極力抑える必
要がある。
し発明が解決しようとする問題点１
Ｅ述した従来の直接通電加熱型タングステンフィラメン
トを用いた電子ビーム装置用陰極では、フィラメントに
２０Ａ〜４０ Ａ程度の加熱電流を第２図に示すステム
８．電子放出面ｑ、ステムｌＯの順で流すと、右ねじの
法則に従いフィラメンＩ・の回りには磁界が生じ、その
磁界は近似的に１（−１，、”２πｒの強さであり、こ
れが電子の放出方向に影響を４える。すなわち電子放出
面９かへ電子１２を放出すると磁界１１により電子１２
はＪ］を受は加熱電流が流れて来る方向（ステム８の方
向）に曲げられる。これは電子ビームの均一性を崩す原
因のひとつと考えられる。また、前述したように電子が
長辺の片１■に曲げられたために、光軸を通るべき電子
ビームが光軸をはずれたためアライメントが狂うことも
電子ビームの均一性を崩す原因のひとつとなる。
トを用いた電子ビーム装置用陰極では、フィラメントに
２０Ａ〜４０ Ａ程度の加熱電流を第２図に示すステム
８．電子放出面ｑ、ステムｌＯの順で流すと、右ねじの
法則に従いフィラメンＩ・の回りには磁界が生じ、その
磁界は近似的に１（−１，、”２πｒの強さであり、こ
れが電子の放出方向に影響を４える。すなわち電子放出
面９かへ電子１２を放出すると磁界１１により電子１２
はＪ］を受は加熱電流が流れて来る方向（ステム８の方
向）に曲げられる。これは電子ビームの均一性を崩す原
因のひとつと考えられる。また、前述したように電子が
長辺の片１■に曲げられたために、光軸を通るべき電子
ビームが光軸をはずれたためアライメントが狂うことも
電子ビームの均一性を崩す原因のひとつとなる。
さらに、通電加熱によりフィラメントは約２７（’ｊ
Ｏ’（’：に熟せられるためＧこ゛フィラメントのズ悲
′失形ら電−１′−ビームの均一性を阻′−Ｆする原因
とな−）ている。
Ｏ’（’：に熟せられるためＧこ゛フィラメントのズ悲
′失形ら電−１′−ビームの均一性を阻′−Ｆする原因
とな−）ている。
本発明の［１的は、この問題点を解決し均一な電子ビー
ノ、をマ°）ることができる電ｒビーノｓ′Ａ置用陰極
念提供することにある。
ノ、をマ°）ることができる電ｒビーノｓ′Ａ置用陰極
念提供することにある。
［問題点を解決するための手段Ｊ
本発明の電−ｒ−ビーム装置用陰極は、線状の電子放出
面と、それぞれが前記電゛ｒ−放出面の両側のｊそ辺に
接続された一対のステムとを片み、前記ステノ、の一方
から他方へ流れる加熱電流が前記電′１′−放出面にお
いて前記電子放出面の長辺方向と直角な方向に流れるこ
と含特徴とする。。
面と、それぞれが前記電゛ｒ−放出面の両側のｊそ辺に
接続された一対のステムとを片み、前記ステノ、の一方
から他方へ流れる加熱電流が前記電′１′−放出面にお
いて前記電子放出面の長辺方向と直角な方向に流れるこ
と含特徴とする。。
本発明の電子ビーム装置用陰極は、電子放出面が長辺方
向の折り目で折り曲げられたようにすることらできる。
向の折り目で折り曲げられたようにすることらできる。
（実施例゛１
次に図面を用いて本発明に−）いて説明する。
第１図は本発明の電子ビーム装置用陰極の一実施例のタ
ングステンフィラメントの斜視図である。
ングステンフィラメントの斜視図である。
第１図において電子放出面２の両側辺のほぼ中央部に接
続して、かつ電子放出面２の長平方向にほぼ直交してス
テム１，３が設けられている。ステム１から加熱用電流
が流れ、電子放出面２を通りステム３に流れる。この際
ステム１．電子放出面２、ステム３を十分に熟する。加
熱電流による磁界はステム部１．３における磁界４．５
と電子放出面２における磁界６である。電子７に影響を
与える電子放出面２における磁界６は磁界の及ぼす範囲
が電子放出面２の短辺方向に限られているため小さく、
電′ｆ７は悪影響なく放出される。
続して、かつ電子放出面２の長平方向にほぼ直交してス
テム１，３が設けられている。ステム１から加熱用電流
が流れ、電子放出面２を通りステム３に流れる。この際
ステム１．電子放出面２、ステム３を十分に熟する。加
熱電流による磁界はステム部１．３における磁界４．５
と電子放出面２における磁界６である。電子７に影響を
与える電子放出面２における磁界６は磁界の及ぼす範囲
が電子放出面２の短辺方向に限られているため小さく、
電′ｆ７は悪影響なく放出される。
すなわち、第２図に示すように電子放出面９の長辺方向
に電流が流れれば、磁界により電子１２が曲がる方向が
電子放出面９の長辺方向になるため放出電子１２が影響
を受ける距離が長くなり、影響を無視できないが、第１
図のように電流を電子放出面２の短辺方向に流すことに
より放出電子７は電子放出面２の短辺方向に少し曲げら
れるだけで電子７が磁界の影響を受ける距離を短くでき
、電子７が受ける影響を無視しうるほと小さくできる。
に電流が流れれば、磁界により電子１２が曲がる方向が
電子放出面９の長辺方向になるため放出電子１２が影響
を受ける距離が長くなり、影響を無視できないが、第１
図のように電流を電子放出面２の短辺方向に流すことに
より放出電子７は電子放出面２の短辺方向に少し曲げら
れるだけで電子７が磁界の影響を受ける距離を短くでき
、電子７が受ける影響を無視しうるほと小さくできる。
また電子放出面２を長辺方向の折り１」に対して例えば
１２０’に折り曲げることにより剛性金高め、熱変形に
より電子放出面２が曲がるのを防市し、電子放出面２か
ら安定した電子ビームが供給される。
１２０’に折り曲げることにより剛性金高め、熱変形に
より電子放出面２が曲がるのを防市し、電子放出面２か
ら安定した電子ビームが供給される。
なお、加熱電流に対しては、電子放出面２はステム部１
，３よりら断面積が入きくなるため加熱は低くなるが、
ステム部１．３からの熱伝導に、しり電子放出面２が十
分熟されらな状態となり、空間電荷電流領域で使うこと
により安定した電そビーム電流を得ることができる。
，３よりら断面積が入きくなるため加熱は低くなるが、
ステム部１．３からの熱伝導に、しり電子放出面２が十
分熟されらな状態となり、空間電荷電流領域で使うこと
により安定した電そビーム電流を得ることができる。
１発明の効宋〕
以ト説明したように本発明は、電子放出面において加熱
電流を長辺に直角な方向に流すことにより、放出電子に
対する加熱電流による磁界の影響を軽減し安定した線状
電子ビームを得ることができる。、さらに、電子放出面
を折り曲げれば、電子放出面の加熱時の熱変形を抑える
ことができ、安定した線状電子ビームを照射することが
できる。
電流を長辺に直角な方向に流すことにより、放出電子に
対する加熱電流による磁界の影響を軽減し安定した線状
電子ビームを得ることができる。、さらに、電子放出面
を折り曲げれば、電子放出面の加熱時の熱変形を抑える
ことができ、安定した線状電子ビームを照射することが
できる。
第１図は本た明の一実施例の斜視図、第２図は屍東の電
子ビーム装置用陰極の斜視ＩＡである。 １．３，８．１０・・・ステ広部、２．（）・・・電そ
放出面、４．５．６．１１・・・電流磁界、７．１２・
・・放出電子。 ｔｎ “ 代理人 弁理士 内 原 ■１ 躬 ｌ 図 第Ｚ図
子ビーム装置用陰極の斜視ＩＡである。 １．３，８．１０・・・ステ広部、２．（）・・・電そ
放出面、４．５．６．１１・・・電流磁界、７．１２・
・・放出電子。 ｔｎ “ 代理人 弁理士 内 原 ■１ 躬 ｌ 図 第Ｚ図
Claims (2)
- （１）線状の電子放出面と、それぞれが前記電子放出面
の両側の長辺に接続された一対のステムとを含み、前記
ステムの一方から他方へ流れる加熱電流が前記電子放出
面において前記電子放出面の長辺方向と直角な方向に流
れることを特徴とする電子ビーム装置用陰極。 - （２）電子放出面が長辺方向の折り目で折り曲げられた
特許請求の範囲第１項記載の電子ビーム装置用陰極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211526A JPS6271155A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 電子ビ−ム装置用陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211526A JPS6271155A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 電子ビ−ム装置用陰極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271155A true JPS6271155A (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16607350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60211526A Pending JPS6271155A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 電子ビ−ム装置用陰極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271155A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457552A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Hitachi Ltd | Electron source |
| JPS6465758A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Hitachi Ltd | Electron source |
| JP2011040292A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Ulvac Japan Ltd | 電子銃、電子銃を用いた真空処理装置 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP60211526A patent/JPS6271155A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457552A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Hitachi Ltd | Electron source |
| JPS6465758A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Hitachi Ltd | Electron source |
| JP2011040292A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Ulvac Japan Ltd | 電子銃、電子銃を用いた真空処理装置 |
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