JPS6273180A - 光磁気メモリ素子の特性測定方法 - Google Patents
光磁気メモリ素子の特性測定方法Info
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- JPS6273180A JPS6273180A JP21590885A JP21590885A JPS6273180A JP S6273180 A JPS6273180 A JP S6273180A JP 21590885 A JP21590885 A JP 21590885A JP 21590885 A JP21590885 A JP 21590885A JP S6273180 A JPS6273180 A JP S6273180A
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- magneto
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- disk
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は光磁気メモリ素子の磁気光学特性等を測定し、
評価する為の方法に関する。
評価する為の方法に関する。
〈従来技術〉
近年、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性膜(
通常希土類−鉄非晶質薄膜)を記録媒体とし、レーザ光
ビームを照射することしてよって情報の記録・再生・消
去を行なう光磁気メモリ素子が注目されている。
通常希土類−鉄非晶質薄膜)を記録媒体とし、レーザ光
ビームを照射することしてよって情報の記録・再生・消
去を行なう光磁気メモリ素子が注目されている。
この光磁気メモリ素子におりで情報の記録は光ビームを
約Iμmφ程度に集光したものを、磁性膜に照射して該
磁性膜の温度を局所的に上昇させその温度上昇部分の保
磁力を減少させ同時に外部より補助磁場を印加すること
で磁化の向きを反転させて行なう、、(消去も同様の方
法で可能である)又、記録された情報の再生は記録され
た磁性膜面に記録時よりも弱い光量の集光した直線偏光
を照射して反射した光の偏光面の傾きを検出して光の強
弱に変え、それを光検出器で検出して行なう。
約Iμmφ程度に集光したものを、磁性膜に照射して該
磁性膜の温度を局所的に上昇させその温度上昇部分の保
磁力を減少させ同時に外部より補助磁場を印加すること
で磁化の向きを反転させて行なう、、(消去も同様の方
法で可能である)又、記録された情報の再生は記録され
た磁性膜面に記録時よりも弱い光量の集光した直線偏光
を照射して反射した光の偏光面の傾きを検出して光の強
弱に変え、それを光検出器で検出して行なう。
以上の記録(消去)及び再生の原理より、光磁気メモリ
素子のメモリとしての特性は記録条件を左右する保磁力
の温度依存性と、再生信号品質に寄与する磁気光学回転
角(カー回転角)及び反射光用とによって決定されるも
のである。尚、上記保持力の温度依存性は磁性膜の種類
さえ決まれば室温での保磁力を測定するだけでも充分で
ある。
素子のメモリとしての特性は記録条件を左右する保磁力
の温度依存性と、再生信号品質に寄与する磁気光学回転
角(カー回転角)及び反射光用とによって決定されるも
のである。尚、上記保持力の温度依存性は磁性膜の種類
さえ決まれば室温での保磁力を測定するだけでも充分で
ある。
従来では光磁気メモリ素子の上記3種のパラメータを測
定する装置として、第3図に示される如きカー効果測定
装置が用いられた。第3図で、■はハロゲンランプ等の
光源であり、この光源lから出車光12を分光器2を用
いて分光し、所望の単色光Qて変えたのち、偏光子3を
用いて直線偏光としてハーフミラ−4を通過させて、中
心に穴のあいた電磁石5を通じてホルダー6に支持され
た磁性膜の付着した試料7Vc照射する。この試料7か
らの反射光はハーフミラ−41’i:より光路を変えら
れ、ファラディ素子9.検光子10.光検出器11より
なる測定系8に導入される。
定する装置として、第3図に示される如きカー効果測定
装置が用いられた。第3図で、■はハロゲンランプ等の
光源であり、この光源lから出車光12を分光器2を用
いて分光し、所望の単色光Qて変えたのち、偏光子3を
用いて直線偏光としてハーフミラ−4を通過させて、中
心に穴のあいた電磁石5を通じてホルダー6に支持され
た磁性膜の付着した試料7Vc照射する。この試料7か
らの反射光はハーフミラ−41’i:より光路を変えら
れ、ファラディ素子9.検光子10.光検出器11より
なる測定系8に導入される。
以上の測定方法は、フTラデイ素子を用いた対称角振動
法である。尚、同図には示されていないが、この測定装
置にはレンズ系が組み適寸れ、試料面で約1鰭φのスポ
ットになるよう設計されている。
法である。尚、同図には示されていないが、この測定装
置にはレンズ系が組み適寸れ、試料面で約1鰭φのスポ
ットになるよう設計されている。
以上のカー効果測定装置は、カー回転角の波長依存性及
びカー回転角の磁場依存性を測定でき、又試料ホルダー
を昇温可能にしているため、上記磁気光学特性の温度依
存性等を測定できる。しかし、この方法では光ビーム径
が1−φであるので上記磁気光学特性は1闘φ内での平
均値であり、実際I/i:光磁気メモリとして使用した
場合におけるビーム径1μmφでの正確な情報が得られ
ない。
びカー回転角の磁場依存性を測定でき、又試料ホルダー
を昇温可能にしているため、上記磁気光学特性の温度依
存性等を測定できる。しかし、この方法では光ビーム径
が1−φであるので上記磁気光学特性は1闘φ内での平
均値であり、実際I/i:光磁気メモリとして使用した
場合におけるビーム径1μmφでの正確な情報が得られ
ない。
また、光検出器11に入射する光量は検光子lOを通し
ているため、光の偏光状聾に強く左右されて、反射率と
正しく測定できなAo 一方、微視的な磁気光学特性を測定するためには、第4
図に示される如き微小カー効果測定装置が用いられた。
ているため、光の偏光状聾に強く左右されて、反射率と
正しく測定できなAo 一方、微視的な磁気光学特性を測定するためには、第4
図に示される如き微小カー効果測定装置が用いられた。
次に第4図の微小カー効果測定装置について、その構造
を説明する。13は半導体レーザ等のレーザ光源である
。レーザ光源を利用することにまり、ビーム径i1μm
φ程度に集光することが可能となる。記録媒体に波長依
存性があるため、レーザ光源の波長は実際の光磁気メモ
リシステムに使用するものと一致するものが望ましい。
を説明する。13は半導体レーザ等のレーザ光源である
。レーザ光源を利用することにまり、ビーム径i1μm
φ程度に集光することが可能となる。記録媒体に波長依
存性があるため、レーザ光源の波長は実際の光磁気メモ
リシステムに使用するものと一致するものが望ましい。
光源13を出た光ビーム14は、偏光子15を通り直線
偏光にされ、ハーフミラ−■6を通って更にハーフミラ
−I8により光路を変えられ、フォーカスサーボ及びト
ラックサーボの両サーボが可能な集光光学系19に導か
れる。この19の集光光学系によりIμmφに絞られた
光ビームは光磁気ディスク21の所定のトラックの所定
の位置に照射される。光磁気ディスク21は回転方向と
半径方向の送りが可能なテーブル22.23に設置され
ている。又、上記集光光学系19とは別な場所に光磁気
ディスク21に対して所定の磁場を印加するための電磁
石20が設置されている。尚、上記電磁石20は上記集
光光学系19内部のアクチュエータに悪影響を及ぼさな
い程度の位置に設置される。上記光磁気ディスク21か
らの反射光はハーフミラ−18で2分割され、その直進
光は光ビームの集光スポットの光磁気ディスク21に対
するトラック及びフォーカスずれを検出する検出系I7
に導入される。一方、ハーフミラ−I8で光路変更され
た反射光はハーフミラ−16により、更に光路変換され
た後にファラディ素子24.検光子25を通り、光検出
器26に導かれる。
偏光にされ、ハーフミラ−■6を通って更にハーフミラ
−I8により光路を変えられ、フォーカスサーボ及びト
ラックサーボの両サーボが可能な集光光学系19に導か
れる。この19の集光光学系によりIμmφに絞られた
光ビームは光磁気ディスク21の所定のトラックの所定
の位置に照射される。光磁気ディスク21は回転方向と
半径方向の送りが可能なテーブル22.23に設置され
ている。又、上記集光光学系19とは別な場所に光磁気
ディスク21に対して所定の磁場を印加するための電磁
石20が設置されている。尚、上記電磁石20は上記集
光光学系19内部のアクチュエータに悪影響を及ぼさな
い程度の位置に設置される。上記光磁気ディスク21か
らの反射光はハーフミラ−18で2分割され、その直進
光は光ビームの集光スポットの光磁気ディスク21に対
するトラック及びフォーカスずれを検出する検出系I7
に導入される。一方、ハーフミラ−I8で光路変更され
た反射光はハーフミラ−16により、更に光路変換され
た後にファラディ素子24.検光子25を通り、光検出
器26に導かれる。
以上の測定装置においてカー回転角の測定は第3図のカ
ー効果測定装置と同様、対称角振動法により検出する。
ー効果測定装置と同様、対称角振動法により検出する。
ここで対称角振動法について説明する。第4図の検光子
25i、該検光子25に通過した偏光が消光する様に回
転させた時、ファラディ素子24を周波数fで変調すれ
ば、光検出器26には周波数2fの変調光が入ることに
なるが、上記検光子25が上記偏光の消去位置力1らは
ずれている時は光検出器26には周波数fの変調光が入
ることになる。従って光検出器26の出力信号の周波数
が2fになるまで上記検光子25を回転させてやりその
回転角?ポテンショメータにて取り出せば、上記偏光の
振動面の傾きを精度よく測定できることになる。以上の
測定法が対称角振動法と呼ばれるものである。
25i、該検光子25に通過した偏光が消光する様に回
転させた時、ファラディ素子24を周波数fで変調すれ
ば、光検出器26には周波数2fの変調光が入ることに
なるが、上記検光子25が上記偏光の消去位置力1らは
ずれている時は光検出器26には周波数fの変調光が入
ることになる。従って光検出器26の出力信号の周波数
が2fになるまで上記検光子25を回転させてやりその
回転角?ポテンショメータにて取り出せば、上記偏光の
振動面の傾きを精度よく測定できることになる。以上の
測定法が対称角振動法と呼ばれるものである。
上記検光子25の横には光検出器27が設置され、検光
子25により検光反射された光量を測定できるようにし
ている。又、検光子25は自動回転可能な構造を有し、
該自動回転は光検出器26に入る光が出来るだけ少なく
なるように行なわれる(上述の対称角振動法の説明参照
)。従って、光検出器27に入射する光は測定系28に
入射する光の大部分であり、従って、光検出器27の測
定値は光磁気ディスク2Iからの反射光に対応(比例)
しており、該反射光を充分近似して測定できるものであ
る。上記光検出器27は回転可能な検光子25に設置で
きるようにシリコンPINフォトダイオード等小型のも
のが用いられる。
子25により検光反射された光量を測定できるようにし
ている。又、検光子25は自動回転可能な構造を有し、
該自動回転は光検出器26に入る光が出来るだけ少なく
なるように行なわれる(上述の対称角振動法の説明参照
)。従って、光検出器27に入射する光は測定系28に
入射する光の大部分であり、従って、光検出器27の測
定値は光磁気ディスク2Iからの反射光に対応(比例)
しており、該反射光を充分近似して測定できるものであ
る。上記光検出器27は回転可能な検光子25に設置で
きるようにシリコンPINフォトダイオード等小型のも
のが用いられる。
以上の微小カー効果測定装置の測定手順を次に述べる。
即ち、
■ 先ず光磁気ディスク21の磁性膜の磁化の方向を電
磁石20により一方向にそろえておき(この方向を仮に
正方向と呼ぶ)、光ビームのスポットを光磁気ディスク
21に照射してカー回転角Ok及び反射光量(反射率)
Rを求める。
磁石20により一方向にそろえておき(この方向を仮に
正方向と呼ぶ)、光ビームのスポットを光磁気ディスク
21に照射してカー回転角Ok及び反射光量(反射率)
Rを求める。
その際、光磁気ディスク2Iを回転したり、半径方向に
平行移動したりしてカー回転角θk及び反射光量(反射
率)Rのディスク全体の分布を求める。
平行移動したりしてカー回転角θk及び反射光量(反射
率)Rのディスク全体の分布を求める。
■ 次ンこ光磁気ディスク21i/i:対し電磁石20
により上記と逆の方向の磁場を印加して磁性膜の磁化の
方向を上記とは逆方向にそろえておき(この方向に仮に
負方向と呼ぶ)、光ビームのスポットを光磁気ディスク
21に照射してカー回転角Ok′及び反射光量(反射率
)R′を求める。その際、上記と同様に光磁気ディスク
21を回転したり半径方向に平行移動したりしてカー回
転角θに′ 及び反射光量(反射率)R′求まる。又、
上記反射光ftRとR′ とは等L〈これが磁性膜の反
射率に対応してbる。
により上記と逆の方向の磁場を印加して磁性膜の磁化の
方向を上記とは逆方向にそろえておき(この方向に仮に
負方向と呼ぶ)、光ビームのスポットを光磁気ディスク
21に照射してカー回転角Ok′及び反射光量(反射率
)R′を求める。その際、上記と同様に光磁気ディスク
21を回転したり半径方向に平行移動したりしてカー回
転角θに′ 及び反射光量(反射率)R′求まる。又、
上記反射光ftRとR′ とは等L〈これが磁性膜の反
射率に対応してbる。
■ 次に■の状態で光磁気ディスク21に対し電磁石2
0&でより正方向の磁場例えば+0006印加し、その
時光磁気ディスク21の中の磁化反転した場所を求める
。これは、カー回転角θkを測定した状態で光磁気ディ
スク21を回転移動及び平行移動すれば、磁化反転した
場所ではカー回転角θkが得られるので容易に判断がで
きる。更に、電磁石20により正方向の磁場を2000
e印加し、上記と同様光磁気ディスク2Iの中の磁化反
転した場所を求め、以下同様に電磁石20により正方向
の磁場を3000e、4000eと増加させた状態で、
上記と同様の測定を行う。こうして光磁気ディスク21
の磁化方向が円板全体に亘って正方向に磁化されてしま
うまで続けることによって保磁力Hcの分布が求まる。
0&でより正方向の磁場例えば+0006印加し、その
時光磁気ディスク21の中の磁化反転した場所を求める
。これは、カー回転角θkを測定した状態で光磁気ディ
スク21を回転移動及び平行移動すれば、磁化反転した
場所ではカー回転角θkが得られるので容易に判断がで
きる。更に、電磁石20により正方向の磁場を2000
e印加し、上記と同様光磁気ディスク2Iの中の磁化反
転した場所を求め、以下同様に電磁石20により正方向
の磁場を3000e、4000eと増加させた状態で、
上記と同様の測定を行う。こうして光磁気ディスク21
の磁化方向が円板全体に亘って正方向に磁化されてしま
うまで続けることによって保磁力Hcの分布が求まる。
以上の測定手順によって光磁気ディスクにおける反射光
量、カー回転角保磁力の微視的分布全求めることができ
る。しかしその反面次の欠点がある。
量、カー回転角保磁力の微視的分布全求めることができ
る。しかしその反面次の欠点がある。
この測定装置では集光光学系19内部にフォーカスサー
ボ及びトラックサーボ用のアクチュエータが設置される
為、そのアクチュエータ内の磁気コイルと電磁石20と
の門で相互作用が発生するので電磁石20は集光光学系
19内部のアクチュエータに悪影響を及ぼさない程度ま
で離れた位置に設置される。従って光磁気ディスク21
に対し電磁石20で磁場全印加する際、集光光学系19
と電磁石20の門でディスクの移動が必要である。
ボ及びトラックサーボ用のアクチュエータが設置される
為、そのアクチュエータ内の磁気コイルと電磁石20と
の門で相互作用が発生するので電磁石20は集光光学系
19内部のアクチュエータに悪影響を及ぼさない程度ま
で離れた位置に設置される。従って光磁気ディスク21
に対し電磁石20で磁場全印加する際、集光光学系19
と電磁石20の門でディスクの移動が必要である。
さらに、光磁気ディスク2I全体に磁場を印加するのに
ディスクを回転移動及び平行移動させる必要があり、1
回の磁場の印加に非常に時間がかかる。従っ′C1上記
■の保磁力Hcの測定方法はディスク−の磁場の印加の
回数が多くなり、測定に要する時間が非常に長くなる。
ディスクを回転移動及び平行移動させる必要があり、1
回の磁場の印加に非常に時間がかかる。従っ′C1上記
■の保磁力Hcの測定方法はディスク−の磁場の印加の
回数が多くなり、測定に要する時間が非常に長くなる。
捷た上記■の方法では磁場を不連続に増加させて印加す
るので(上記例では1000e間隔)、保磁力Hcの正
確な測定ができない。
るので(上記例では1000e間隔)、保磁力Hcの正
確な測定ができない。
く目 的〉
大発明は以上の従来技術における問題点を解消する為に
なされたものであり、従来の測定方法に改良を加えるこ
とにより、高密度メモリを狙いとする光磁気メモリ素子
の磁気光学特性等を高速に且つ正確に測定評価すること
を目的とするものである。
なされたものであり、従来の測定方法に改良を加えるこ
とにより、高密度メモリを狙いとする光磁気メモリ素子
の磁気光学特性等を高速に且つ正確に測定評価すること
を目的とするものである。
〈実施例〉
以下本発明に係る光磁気メモリ素子の特性測定方法の実
施例について詳細Qで説明する。
施例について詳細Qで説明する。
特性測定は上記の第4図に示した微小カー効果測定装置
を用いる。カー回転角及び反射光?(反射率)は従来の
測定手順■、■と同様の方法で行なうので、ここでは保
磁力の測定についてのみ述べる。第4図において先ず光
磁気ディスク2Iの磁性膜の磁化の方向を電j鼓石20
より一方向(この方向を仮に負方向とする)にそろえて
おく。次に、ディスク21に回転させながら、電磁石2
0て第1図talに示す如くノコギリ状の磁場を正方向
に印加する。第1図(alでθはディスク−周当りの測
定点数fnとしたとき、(J = 360/n (de
g)で表わされる値である。すなわち、この測定方法は
ディスク−周を等間隔に分け、それぞれの範囲で(即ち
0〜θ、θ〜2θ、・・、(n−1)θ〜n。
を用いる。カー回転角及び反射光?(反射率)は従来の
測定手順■、■と同様の方法で行なうので、ここでは保
磁力の測定についてのみ述べる。第4図において先ず光
磁気ディスク2Iの磁性膜の磁化の方向を電j鼓石20
より一方向(この方向を仮に負方向とする)にそろえて
おく。次に、ディスク21に回転させながら、電磁石2
0て第1図talに示す如くノコギリ状の磁場を正方向
に印加する。第1図(alでθはディスク−周当りの測
定点数fnとしたとき、(J = 360/n (de
g)で表わされる値である。すなわち、この測定方法は
ディスク−周を等間隔に分け、それぞれの範囲で(即ち
0〜θ、θ〜2θ、・・、(n−1)θ〜n。
7)各範囲)保磁力がほぼ一定と見なし、各・俺囲での
保磁力全求めるものである。従って、測定点数は上記θ
の値により決められる。また、上記ノコギリ状の磁場の
最大値HmaX(Oe)はディスクの保磁力より十分大
きな値とする。
保磁力全求めるものである。従って、測定点数は上記θ
の値により決められる。また、上記ノコギリ状の磁場の
最大値HmaX(Oe)はディスクの保磁力より十分大
きな値とする。
上記ノコギリ波状の磁場を印加したディスクのカー回転
角を周方向に測定すると、第1図fb)のようになる。
角を周方向に測定すると、第1図fb)のようになる。
これから磁化反転した時の印加磁場がわかり各範囲での
保磁力Hcが求まる。すなわち保磁力が求められる。さ
らにディスクを半径方向に平行移動させ、同様の測定を
行なうことによりディスク全体の分布が求まる。
保磁力Hcが求まる。すなわち保磁力が求められる。さ
らにディスクを半径方向に平行移動させ、同様の測定を
行なうことによりディスク全体の分布が求まる。
上記例では印加磁場を0〜Hma x (Oe)まで変
化させたが、測定する光磁気ディスクの保磁力がある程
度予想できる場合は電磁石20による磁場を0(Oe)
から始める必要はなく、もっと狭い範囲で変化させるこ
とにより(たとえば、ディスクの保磁力がIKOe#J
後であれば0.50e〜1.50eまで印加する。)、
さらに正確に測定でき、また測定点数を増やすことも可
能になる。
化させたが、測定する光磁気ディスクの保磁力がある程
度予想できる場合は電磁石20による磁場を0(Oe)
から始める必要はなく、もっと狭い範囲で変化させるこ
とにより(たとえば、ディスクの保磁力がIKOe#J
後であれば0.50e〜1.50eまで印加する。)、
さらに正確に測定でき、また測定点数を増やすことも可
能になる。
以上の測定方法によれば、保磁力の測定においてディス
クに対する電磁石での磁場の印加が一回で済み、測定時
間が大幅に短縮される。従って光磁気ディスクの標準化
の為の測定あるいは抜き取りテスト等に非常に有用であ
る。
クに対する電磁石での磁場の印加が一回で済み、測定時
間が大幅に短縮される。従って光磁気ディスクの標準化
の為の測定あるいは抜き取りテスト等に非常に有用であ
る。
ここで、以上の測定方法は本発明の一実施例に過ぎない
事は勿論であり、例えば、第2図に示す如く磁場印加す
ることによっても、上記と同様の測定が可能である。(
同図の例では 一生二旦min二一り二±兵二λ匹m」上−か(呆磁カ
ドナル、、)c + d −+−c さらCて、カー回転角も各範囲で一定と見なすことによ
り、保磁力の測定時に同時にカー回転角の四分カー回転
角とする。)、さらに測定時間全短縮することができる
。
事は勿論であり、例えば、第2図に示す如く磁場印加す
ることによっても、上記と同様の測定が可能である。(
同図の例では 一生二旦min二一り二±兵二λ匹m」上−か(呆磁カ
ドナル、、)c + d −+−c さらCて、カー回転角も各範囲で一定と見なすことによ
り、保磁力の測定時に同時にカー回転角の四分カー回転
角とする。)、さらに測定時間全短縮することができる
。
〈効 果〉
以上詳細に説明した本発明によれば、従来の方法では保
磁力の測定においてディスクへの電磁石による磁場の印
加の回数が多いために測定時間が非常に長かったものが
、電磁石による印加磁場全ノコギリ波状にすることによ
り、磁場の印加が1回のみて済み測定時間を大幅に短縮
することができるものである。さらに従来の方法では、
印加磁場が不連続なものであったのに対し本発明ではノ
コギリ波状に連続的に増加させながら磁場を印加してい
るため保磁力をより正確に測定することが可能となるも
のである。
磁力の測定においてディスクへの電磁石による磁場の印
加の回数が多いために測定時間が非常に長かったものが
、電磁石による印加磁場全ノコギリ波状にすることによ
り、磁場の印加が1回のみて済み測定時間を大幅に短縮
することができるものである。さらに従来の方法では、
印加磁場が不連続なものであったのに対し本発明ではノ
コギリ波状に連続的に増加させながら磁場を印加してい
るため保磁力をより正確に測定することが可能となるも
のである。
第1図及び第2図は本発明による光磁気メモリ素子の特
性測定方法の実施例を説明するためのもので、夫々の図
のfalは保磁力測定時のディスクへの磁場印加のタイ
ミング波形、図iblはその時のディスクのカー回転角
のタイミング波形、第3図及び第4図は光磁気メモリ素
子の特性測定装置を示す。 図中 1−光源、 2:分光器、3:偏光子、
4:ハーフミラ−,5:電磁石、
6:ホルダー、7:試料、 8:測定系 9:ファラディ素子、 IO=検光子、ll:光検出
器、 12:光 13:レーザ光源、 14:光ビーム、15:偏
光子、 16:ハーフミラ−,17:検出系、
18:ハーフミラ−,19:集光光学系、
20:電磁石、2I:光磁気ディスク、 22.
23:テーブノペ24:ファラディ素子、 25:検光
子、26.27:光検出器、 28:測定系。
性測定方法の実施例を説明するためのもので、夫々の図
のfalは保磁力測定時のディスクへの磁場印加のタイ
ミング波形、図iblはその時のディスクのカー回転角
のタイミング波形、第3図及び第4図は光磁気メモリ素
子の特性測定装置を示す。 図中 1−光源、 2:分光器、3:偏光子、
4:ハーフミラ−,5:電磁石、
6:ホルダー、7:試料、 8:測定系 9:ファラディ素子、 IO=検光子、ll:光検出
器、 12:光 13:レーザ光源、 14:光ビーム、15:偏
光子、 16:ハーフミラ−,17:検出系、
18:ハーフミラ−,19:集光光学系、
20:電磁石、2I:光磁気ディスク、 22.
23:テーブノペ24:ファラディ素子、 25:検光
子、26.27:光検出器、 28:測定系。
Claims (1)
- 1、偏光したレーザ光を集光して光磁気メモリ素子に照
射する集光光学装置と、該集光光学装置に対して磁気的
な悪影響を及ぼさない位置に設置され、前記光磁気メモ
リ素子に磁場を印加する磁場発生装置と、前記光磁気メ
モリ素子からの反射レーザ光の偏光状態を検出する検出
装置とを用い、前記磁場発生装置により、最大値が光磁
気メモリ素子の保持力より十分大きなノコギリ波状の磁
場を印加した状態でのカー回転角の検出によって保磁力
の測定を行なうことを特徴とする光磁気メモリ素子の特
性測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21590885A JPS6273180A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光磁気メモリ素子の特性測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21590885A JPS6273180A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光磁気メモリ素子の特性測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6273180A true JPS6273180A (ja) | 1987-04-03 |
Family
ID=16680240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21590885A Pending JPS6273180A (ja) | 1985-09-26 | 1985-09-26 | 光磁気メモリ素子の特性測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6273180A (ja) |
-
1985
- 1985-09-26 JP JP21590885A patent/JPS6273180A/ja active Pending
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