JPS6275512A - 光シヤツタ素子の製造方法 - Google Patents
光シヤツタ素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6275512A JPS6275512A JP60217014A JP21701485A JPS6275512A JP S6275512 A JPS6275512 A JP S6275512A JP 60217014 A JP60217014 A JP 60217014A JP 21701485 A JP21701485 A JP 21701485A JP S6275512 A JPS6275512 A JP S6275512A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- optical shutter
- electrode surface
- slip
- shutter element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はカメラにおける高速光シャッタなどの光制御機
器に用いることが出来る光シャッタ素子の製造方法に関
するものである。
器に用いることが出来る光シャッタ素子の製造方法に関
するものである。
従来の技術
近年、機械的、電気的あるいは化学的手段を用いて、光
の透過光量を制御する、いわゆる光シャッタ素子が各分
野で幅広く用いられている。なかでもカー効果などの電
気光学効果を利用した固体光シャッタ素子は、応答性に
優れ、小型化が可能となることから、カメラのシャフタ
など高速性を必要とする光シャッタべの応用が考えられ
ている。
の透過光量を制御する、いわゆる光シャッタ素子が各分
野で幅広く用いられている。なかでもカー効果などの電
気光学効果を利用した固体光シャッタ素子は、応答性に
優れ、小型化が可能となることから、カメラのシャフタ
など高速性を必要とする光シャッタべの応用が考えられ
ている。
現在、上記光シャッタ素子として知られているものは、
チタン酸ジルコン酸鉛の一部をランタンで置換した組成
物(以下PLZTと記述する)等の透光性焼結磁器の平
板上に複数個の電極を設けた基板を、上記電極に電圧を
印加した時に生じる電界ベクトル方向に対し、±45°
の方向に偏光軸が互いに直交するように、偏光板で挟ん
だ構造を有したものである。
チタン酸ジルコン酸鉛の一部をランタンで置換した組成
物(以下PLZTと記述する)等の透光性焼結磁器の平
板上に複数個の電極を設けた基板を、上記電極に電圧を
印加した時に生じる電界ベクトル方向に対し、±45°
の方向に偏光軸が互いに直交するように、偏光板で挟ん
だ構造を有したものである。
以下、図面を参照しながら、従来の光シャッタ素子につ
いて説明する。
いて説明する。
第4図は、従来の光シャフタ素子の構成図の例を示した
ものであり、41はPLZT基板、42a。
ものであり、41はPLZT基板、42a。
42bはPLZT基板上に設けられた電極であり、42
aは電圧印加用電極、42bは接地側電極である。43
は偏光子、44は検光子であり、電圧印加用電極42a
と接地側電極42bに電圧を印加した時に生じる電界ベ
クトルの方向に対し、±45°の方向に、偏光軸が、互
いに直交するよう構成されている。このように構成され
た光ンヤッタの動作を以下に説明する。
aは電圧印加用電極、42bは接地側電極である。43
は偏光子、44は検光子であり、電圧印加用電極42a
と接地側電極42bに電圧を印加した時に生じる電界ベ
クトルの方向に対し、±45°の方向に、偏光軸が、互
いに直交するよう構成されている。このように構成され
た光ンヤッタの動作を以下に説明する。
第4図の偏光子43の後部に設けられた光源45から光
を照射した場合、PLZT基板41上に形成された電圧
印加用電極42aと接地側電極42bの電極間に電圧を
印加しない場合は、電気光学効果による複屈折は生じず
、偏光子43及び検光子44によって光は遮断されるが
、電圧を印加すると電気光学効果のカー効果によって複
屈折を生じ、光の偏光状態が変化し、光が透過する。
を照射した場合、PLZT基板41上に形成された電圧
印加用電極42aと接地側電極42bの電極間に電圧を
印加しない場合は、電気光学効果による複屈折は生じず
、偏光子43及び検光子44によって光は遮断されるが
、電圧を印加すると電気光学効果のカー効果によって複
屈折を生じ、光の偏光状態が変化し、光が透過する。
このような原理により、小型、高速の光シャッタ素子が
可能となる。(例えば、「光学セラミックスと光ファイ
バー」戸田尭三・石田宏司著、P。
可能となる。(例えば、「光学セラミックスと光ファイ
バー」戸田尭三・石田宏司著、P。
113〜P、117)
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、第4図に示したように、PLZTのよう
な電気光学材料を用いた光シャッタ素子においては、電
極部は電気光学素子の表面上に形成されているため、第
5図に示すように電界が基板の電極形成側の表面に集中
し、十分に浸透しない。従って駆動電圧を大きくしない
と希望する透過光量を得ることが出来ないという問題点
を有していた。それゆえ、駆動する周辺装置の小型化。
な電気光学材料を用いた光シャッタ素子においては、電
極部は電気光学素子の表面上に形成されているため、第
5図に示すように電界が基板の電極形成側の表面に集中
し、十分に浸透しない。従って駆動電圧を大きくしない
と希望する透過光量を得ることが出来ないという問題点
を有していた。それゆえ、駆動する周辺装置の小型化。
低電力化が困難であり、素子の駆動電圧の低減化が強く
望まれていた。なお、第5回の51はPLZT基板、5
2aは印加電圧用電極、52bは接地側電極、点線は電
界を示す。
望まれていた。なお、第5回の51はPLZT基板、5
2aは印加電圧用電極、52bは接地側電極、点線は電
界を示す。
本発明は、上記問題点に鑑み、電気光学効果を有する透
光性焼結磁器層と@種層とが交互に複数層積層すること
により、駆動電圧の低減化が可能な光シャッタ素子の製
造方法を提供することにある。
光性焼結磁器層と@種層とが交互に複数層積層すること
により、駆動電圧の低減化が可能な光シャッタ素子の製
造方法を提供することにある。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために、本発明は、まず、光シャ
ッタ素子の基板を構成するに必要な原料粉末を、所望の
組成となるよう配合、混合した後仮焼、粉砕する。この
仮焼粉と有機結合剤、可塑剤及び溶剤からなるスリップ
をドクターブレード法等により、一定厚みの生シートに
作成する。次に白金、パラジウム、銀もしくはこれらの
混合粉末をビークルと共に練ったペーストを、この生シ
ート上に、印刷法等により、塗布し電極面を形成する。
ッタ素子の基板を構成するに必要な原料粉末を、所望の
組成となるよう配合、混合した後仮焼、粉砕する。この
仮焼粉と有機結合剤、可塑剤及び溶剤からなるスリップ
をドクターブレード法等により、一定厚みの生シートに
作成する。次に白金、パラジウム、銀もしくはこれらの
混合粉末をビークルと共に練ったペーストを、この生シ
ート上に、印刷法等により、塗布し電極面を形成する。
かかるシートを複数層積層した後、圧着するか、もしく
は、電極面を形成したシート上に、前記スリップを塗布
、乾燥した後、この面上に、電、極面を形成し、再度、
前記スリップを塗布、乾燥する工程を複数回くり返すこ
とにより、シートと電極面が複数層くり返された成形体
を作製する。
は、電極面を形成したシート上に、前記スリップを塗布
、乾燥した後、この面上に、電、極面を形成し、再度、
前記スリップを塗布、乾燥する工程を複数回くり返すこ
とにより、シートと電極面が複数層くり返された成形体
を作製する。
これを酸素気流中で焼成後、電極面に垂直方向に焼結体
をスライスした後、スライス面を研磨することにより、
電極部と電気光学効果を有する焼結体とが交互にくり返
され、駆動電圧の低減化が可能な光シャッタ素子が製造
出来る。
をスライスした後、スライス面を研磨することにより、
電極部と電気光学効果を有する焼結体とが交互にくり返
され、駆動電圧の低減化が可能な光シャッタ素子が製造
出来る。
作用
第2図は、本発明の方法により作製した光ンヤノタの断
面を示したものであるが、この図から明らかなように本
発明による光シャッタの電極部は、電気光学素子の内面
に配設されているため、電極間に電圧を印加した場合、
電圧が基板内部に有効にかかるため、駆動電圧を低下さ
せることが出来る。また電極形成にスクリーン印刷等を
用いることから、電極厚みの均一性、生産性に優れると
共に、電極部が素子内部にあることにより、電極部に、
ひっかき傷等がつきにくい等の利点も存する実施例 以下本発明による光シャッタ素子の製造方法について具
体的に説明する。
面を示したものであるが、この図から明らかなように本
発明による光シャッタの電極部は、電気光学素子の内面
に配設されているため、電極間に電圧を印加した場合、
電圧が基板内部に有効にかかるため、駆動電圧を低下さ
せることが出来る。また電極形成にスクリーン印刷等を
用いることから、電極厚みの均一性、生産性に優れると
共に、電極部が素子内部にあることにより、電極部に、
ひっかき傷等がつきにくい等の利点も存する実施例 以下本発明による光シャッタ素子の製造方法について具
体的に説明する。
酸化鉛(PbO)、酸化チタン(T r 02 ) 。
酸化ジコニウL(Z r 02 ) −M化うンタン(
L a 203)の各粉末をPbo、++Lao、o*
(Z ro、bs Tio、3s) o、qs03とな
るよう秤量した後、ボールミルで17時間混合した。こ
の混合粉を900°Cで2時間仮焼した後、ボールミル
で17時間粉砕し、ろ過乾燥した。この仮焼粉100重
量部に対し、有機結合剤としてブチラール樹脂を2重量
部、可塑剤としてフタル酸ジ−n−ブチル(DBP>を
1重1部及び溶剤として、メチルアルコールを18重量
部加え、ボールミルで20時間混合してスリ、プを作製
した。これをポリエステル上に流し込み、ドクタブレー
ドを用いて、シート状に成形し、自然乾燥により厚さが
500μmの一定厚みの生シートを作製した。一方白金
、パラジウム、根もしくはこれらのl昆合扮、 末を
ビークルと共に練って、粘度約100ポイズのペースト
とし、これを前記化シート片全面にスクリーン印刷し、
乾燥させた。なお、電極厚みは20μmとした。
L a 203)の各粉末をPbo、++Lao、o*
(Z ro、bs Tio、3s) o、qs03とな
るよう秤量した後、ボールミルで17時間混合した。こ
の混合粉を900°Cで2時間仮焼した後、ボールミル
で17時間粉砕し、ろ過乾燥した。この仮焼粉100重
量部に対し、有機結合剤としてブチラール樹脂を2重量
部、可塑剤としてフタル酸ジ−n−ブチル(DBP>を
1重1部及び溶剤として、メチルアルコールを18重量
部加え、ボールミルで20時間混合してスリ、プを作製
した。これをポリエステル上に流し込み、ドクタブレー
ドを用いて、シート状に成形し、自然乾燥により厚さが
500μmの一定厚みの生シートを作製した。一方白金
、パラジウム、根もしくはこれらのl昆合扮、 末を
ビークルと共に練って、粘度約100ポイズのペースト
とし、これを前記化シート片全面にスクリーン印刷し、
乾燥させた。なお、電極厚みは20μmとした。
次に、白金粉末あるいは、銀とパラジウムの混合物(A
g/Pd=50150重量比)が印刷された生シートを
、30枚重ね合わせた後圧着することによりシートと電
極面がくり返された成形体を作製した。
g/Pd=50150重量比)が印刷された生シートを
、30枚重ね合わせた後圧着することによりシートと電
極面がくり返された成形体を作製した。
一方、パラジウム粉末を印刷した生シート面上には、前
述のスリップを、スクリーン印刷法を用いて再度塗布乾
燥後、この面上に、再び前述のパラジウム粉末を含むペ
ーストをスクリーン印刷法で塗布、乾燥した。この工程
を30回くり返すことにより、シートと電極面が(り返
された焼成用成形体を作製した。
述のスリップを、スクリーン印刷法を用いて再度塗布乾
燥後、この面上に、再び前述のパラジウム粉末を含むペ
ーストをスクリーン印刷法で塗布、乾燥した。この工程
を30回くり返すことにより、シートと電極面が(り返
された焼成用成形体を作製した。
これらの成形体をマグネシア基板上に置き、マグネシア
6112”aからなるスペーサを用いてサヤ詰めした後
、雲囲気炉内に置き200℃/ h rの昇温速度で4
00°Cまで昇温させ、10時間保持して、シート中に
含存されている有機成分を除去した。
6112”aからなるスペーサを用いてサヤ詰めした後
、雲囲気炉内に置き200℃/ h rの昇温速度で4
00°Cまで昇温させ、10時間保持して、シート中に
含存されている有機成分を除去した。
有機成分を除去した後、酸素を1ρ/ m i nの速
変で供給しながら、再び200℃、/ h rで、昇温
し、1130℃で40時間焼成した。次に得られた焼結
体を電極面に垂直方向に、厚み400μmにスライスし
た後、スライス面を、超微粒子のアルミナ粉末を用いて
、両面、鏡面仕上げを行った。
変で供給しながら、再び200℃、/ h rで、昇温
し、1130℃で40時間焼成した。次に得られた焼結
体を電極面に垂直方向に、厚み400μmにスライスし
た後、スライス面を、超微粒子のアルミナ粉末を用いて
、両面、鏡面仕上げを行った。
その結果、第2図に示すように白金、パラジウムもしく
は、恨−パラジウムからなる電極は、鏡面研磨された基
板の内部に設けられており、この電極部に電圧を印加す
ると電界がPLZT素子の内部前面に有効にかかり、従
来例に示すような電極構造に比べて駆動電圧が小さくす
む。なお、第2図において、21はPLZT基板、21
aは電圧印加用電極、22bは接地4!]J電極であり
、点線は有効電界の分布状態を示したものである。
は、恨−パラジウムからなる電極は、鏡面研磨された基
板の内部に設けられており、この電極部に電圧を印加す
ると電界がPLZT素子の内部前面に有効にかかり、従
来例に示すような電極構造に比べて駆動電圧が小さくす
む。なお、第2図において、21はPLZT基板、21
aは電圧印加用電極、22bは接地4!]J電極であり
、点線は有効電界の分布状態を示したものである。
次に第1図に示すように、光ンヤノタの電極に電圧を印
加した時に生じろ電界ヘクトノドの方向に対して、±4
5°の偏光軸を有する偏光板をはり合わせた後、電極間
に直流電圧をO〜150V印加し、その時の透過率を調
べた。なお、第1図において11はPLZT基板、12
aは電圧印加用電極、12bは接地側電極、13は偏光
子、14は検光子、15は光源である。なお比較のため
に、従来例として、本発明と全く同一組成、同一厚みの
鏡面研磨処理されたPLZT基板上に、アルミニウムを
蒸着後、フォトエツチング法により、第4図のような?
ili極を形成した。なお、電極幅は200μmとし、
電極間隔は、本発明による光シャッタ素子と同一とした
。この電極部に、0〜200■の直流電圧を印加し、そ
の時の透過率を調べた。その結果を第3図に示す。同図
において。
加した時に生じろ電界ヘクトノドの方向に対して、±4
5°の偏光軸を有する偏光板をはり合わせた後、電極間
に直流電圧をO〜150V印加し、その時の透過率を調
べた。なお、第1図において11はPLZT基板、12
aは電圧印加用電極、12bは接地側電極、13は偏光
子、14は検光子、15は光源である。なお比較のため
に、従来例として、本発明と全く同一組成、同一厚みの
鏡面研磨処理されたPLZT基板上に、アルミニウムを
蒸着後、フォトエツチング法により、第4図のような?
ili極を形成した。なお、電極幅は200μmとし、
電極間隔は、本発明による光シャッタ素子と同一とした
。この電極部に、0〜200■の直流電圧を印加し、そ
の時の透過率を調べた。その結果を第3図に示す。同図
において。
(イ)は従来例、(ロ)、(ハ)、(ニ)はそれぞれ本
発明の実施におけるもので、それぞれ電極として、Ag
−Pd、Pd、Ptを使用したものである。第3図から
明らかなように電極材料に白金、パラジウム5あるいは
銀−パラジウムを用いて、本発明の一実施例における電
極形成法により作製した光シャッタ素子の場合、従来法
により作製した光シャッタ素子に比べて、著しく駆動電
圧を低下させることが出来る。
発明の実施におけるもので、それぞれ電極として、Ag
−Pd、Pd、Ptを使用したものである。第3図から
明らかなように電極材料に白金、パラジウム5あるいは
銀−パラジウムを用いて、本発明の一実施例における電
極形成法により作製した光シャッタ素子の場合、従来法
により作製した光シャッタ素子に比べて、著しく駆動電
圧を低下させることが出来る。
なお、本発明の実施例では、白金、パラジウムもしくは
銀−パラジウムの粉末を用いたが、白金とパラジウムの
混合粉を用いても同様の効果を得ることが出来るのは、
言うまでもないことである。
銀−パラジウムの粉末を用いたが、白金とパラジウムの
混合粉を用いても同様の効果を得ることが出来るのは、
言うまでもないことである。
また電気光学素子としてPLZTを用いたが、PLZT
と同様な電気光学効果を示す(Pb。
と同様な電気光学効果を示す(Pb。
La)(Zn、Nb)03系、 (Pb、Bi)(Z
r= T r ) 02系などを用いても同様の効果
を得ることが出来る。
r= T r ) 02系などを用いても同様の効果
を得ることが出来る。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明による製造方法
を用いて作製した光シャッタ素子の電極部は、PLZT
等の電気光学素子の基板内部に配置された電極構造を有
しているため、電極間に電圧を印加した場合、電界が素
子の基板内部全体に有効にかかるため、駆動電圧を著し
く下げることが出来る。従って、光シャッタ素子を駆動
する周辺装置の小型化、低電力下が可能となるなど、そ
の工業的価値は、きわめて大きいものがある。
を用いて作製した光シャッタ素子の電極部は、PLZT
等の電気光学素子の基板内部に配置された電極構造を有
しているため、電極間に電圧を印加した場合、電界が素
子の基板内部全体に有効にかかるため、駆動電圧を著し
く下げることが出来る。従って、光シャッタ素子を駆動
する周辺装置の小型化、低電力下が可能となるなど、そ
の工業的価値は、きわめて大きいものがある。
第1図、第2図はそれぞれ本発明の一実施例における製
造方法を用いて作製した光シャッタ素子の構成図及び断
面図、第3図は従来例と本発明の一実施例における光シ
ャフタ素子の印加電圧によるi3過率の変化を示した特
性図、第4図、第5図はそれぞれ従来例の光シャンク素
子の構成図及び断面図である。 11・・・・・・PLZT基板、12a・・・・・・電
圧印加用電極、12b・・・・・・接地側電極、13・
・・・・・偏光子、14・・・・・・検光子、15・・
・・・・光源。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名12b−一
一締工こ別室、仮 I3− 情丸テ 14− ↓¥梵蚤 +s−を源 @2図 2l−PLZ r、1.a 男 3 図
造方法を用いて作製した光シャッタ素子の構成図及び断
面図、第3図は従来例と本発明の一実施例における光シ
ャフタ素子の印加電圧によるi3過率の変化を示した特
性図、第4図、第5図はそれぞれ従来例の光シャンク素
子の構成図及び断面図である。 11・・・・・・PLZT基板、12a・・・・・・電
圧印加用電極、12b・・・・・・接地側電極、13・
・・・・・偏光子、14・・・・・・検光子、15・・
・・・・光源。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名12b−一
一締工こ別室、仮 I3− 情丸テ 14− ↓¥梵蚤 +s−を源 @2図 2l−PLZ r、1.a 男 3 図
Claims (3)
- (1)電気光学素子を構成するに必要な原料粉末を、混
合、仮焼、粉砕した後、この仮焼粉と有機結合剤、可塑
剤、及び溶剤からなるスリップを用いて、一定厚みのシ
ートを作成し、前記シート面上に電極面を形成した後、
前記シートを複数枚積層した後、圧着するか、もしくは
電極面を形成したシート状に、前記スリップを塗布、乾
燥後、この面上に電極面を形成し、再度、前記スリップ
を塗布、乾燥する工程を複数回くり返すことにより、シ
ートと電極面が複数回くり返された成形体を作製した後
、前記成形体を酸素気流中で焼成し、電極部と電気光学
素子からなる基板部とが交互にくり返された焼結体を作
製し、前記焼結体を電極面に対して垂直方向にスライス
し、スライスされた面を研磨することにより、光シャッ
タ列を構成することを特徴とする光シャッタ素子の製造
方法。 - (2)電気光学素子としてチタン酸ジルコン酸鉛中の鉛
の一部をランタンで置換した組成物であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の光シャッタ素子の製造
方法。 - (3)電極材料が、白金、パラジウム、銀もしくは、こ
れらの混合物からなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の光シャッタ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60217014A JPS6275512A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光シヤツタ素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60217014A JPS6275512A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光シヤツタ素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275512A true JPS6275512A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16697473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60217014A Pending JPS6275512A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光シヤツタ素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275512A (ja) |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60217014A patent/JPS6275512A/ja active Pending
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