JPS6275923A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6275923A JPS6275923A JP21528285A JP21528285A JPS6275923A JP S6275923 A JPS6275923 A JP S6275923A JP 21528285 A JP21528285 A JP 21528285A JP 21528285 A JP21528285 A JP 21528285A JP S6275923 A JPS6275923 A JP S6275923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- head
- magnetic head
- film magnetic
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 20
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 210000001015 abdomen Anatomy 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はDAT Eデジタル・オーディオ・テープレコ
ーダ〕等に使用されるVI膜磁気ヘッドに関するもので
ある。
ーダ〕等に使用されるVI膜磁気ヘッドに関するもので
ある。
従、末の一技存
近年、コンピュータに使用されるFDD (フロッピー
・ディスク・ドライブ)やDAT用の磁気ヘッドには小
型化が要求されつつあり、そこで磁気抵抗素子を利用し
た再生専用の薄膜磁気ヘッドが開発されζいる。このm
1lIl膜磁気へソドの具体例を第3図及び第4図を参
照し7なから説明する。同図に於いて、(])はヒラミ
、ツクやガラス等からなる絶縁性のヘッド基板、(2)
は該ヘッド基板(1)上にスパッタ法等によりM膜状に
形成した磁気ヘッド素子で、この磁気ヘッド素子(2)
L才、パーマロイ等の強磁性体からなる磁気抵抗素子(
3)と、該磁気1゛″″”7′“°′″711jl;/
1゛−;y grh″″”“°゛″7”°1なる外部引
出し用のリード(4)(4)とから構成される。」二記
出猟ヘンド素子(2)の磁気抵抗素子(3)は、テープ
摺動面(5)をテープ〔図示せず〕が走行することによ
り生じる磁界の変化を検出して該磁界の変化に応じて電
気1ffitA:f′*(t’、8 ”L J:Et
−1”KM’REHg ht: 。
・ディスク・ドライブ)やDAT用の磁気ヘッドには小
型化が要求されつつあり、そこで磁気抵抗素子を利用し
た再生専用の薄膜磁気ヘッドが開発されζいる。このm
1lIl膜磁気へソドの具体例を第3図及び第4図を参
照し7なから説明する。同図に於いて、(])はヒラミ
、ツクやガラス等からなる絶縁性のヘッド基板、(2)
は該ヘッド基板(1)上にスパッタ法等によりM膜状に
形成した磁気ヘッド素子で、この磁気ヘッド素子(2)
L才、パーマロイ等の強磁性体からなる磁気抵抗素子(
3)と、該磁気1゛″″”7′“°′″711jl;/
1゛−;y grh″″”“°゛″7”°1なる外部引
出し用のリード(4)(4)とから構成される。」二記
出猟ヘンド素子(2)の磁気抵抗素子(3)は、テープ
摺動面(5)をテープ〔図示せず〕が走行することによ
り生じる磁界の変化を検出して該磁界の変化に応じて電
気1ffitA:f′*(t’、8 ”L J:Et
−1”KM’REHg ht: 。
情報を再生するものである。(6)は上記ヘッド基板(
1)上の少なくとも磁気ヘッド素子(2)を含む主要部
分に被着形成した絶縁性の保護膜、(7)は該保護膜(
6)ヒの磁気ヘッド素子(2)を含む主要部分に貼着し
た結晶化ガラス等からなる絶縁性の保護板である。上記
構成からなる薄膜磁気ヘッドは、第5図に示すように、
通常、1つのヘン1′基板(1)I−に複数の磁気へン
ド素子(2)(2)・・・を整列させて形成したマルチ
ヘッド方式が採用される。
1)上の少なくとも磁気ヘッド素子(2)を含む主要部
分に被着形成した絶縁性の保護膜、(7)は該保護膜(
6)ヒの磁気ヘッド素子(2)を含む主要部分に貼着し
た結晶化ガラス等からなる絶縁性の保護板である。上記
構成からなる薄膜磁気ヘッドは、第5図に示すように、
通常、1つのヘン1′基板(1)I−に複数の磁気へン
ド素子(2)(2)・・・を整列させて形成したマルチ
ヘッド方式が採用される。
発明が解状友、!;−う上す−る問題点上記した薄膜磁
気へ7 t’をマルチヘラ1一方式で使用する場合、各
磁気ヘラ1′素子(2)(2)・・・と磁気テープとの
テープ摺動面(5)が略完全な平面でメfく、該テープ
摺動面(5)と磁気テープとの間にスペーシングロスが
あると、再生ロスが発生したり、ノイズの原因ともなる
ため、上記接触摺動面は略完全l「平面にする必要があ
る。このため従来は第6図に示す如く、薄置突磁気ヘッ
ドの形成時、基板(1)の先端面(1a)が各磁気−・
ンド(2)(2)・・・の先端面(2a) (2a)
・・・より前方に来るように形成し、予め研磨量(8)
を形成しておく。そしてこの後、各磁気ヘッド素子(2
)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・が
露出する研磨終了線(m)まで基板(+)の先端面(l
a)をVr磨加Tすることにより、テープ摺動面(5)
を略完全な平面に什−1,げ−(いる。又、この研磨作
業時の研磨終了1!(m)の位置を各種薄膜磁気ヘッド
毎に設定し、+ilf磨量を調整することにより、各種
薄膜磁気ヘッドの磁気ヘッド素子(2)(2)・・・の
電気的特性を調整している。しかし、上記方法によって
テープ摺動面(5)を形成するに際しては、作業員が顕
微鏡等を利用して、その目視により磁気ヘッド素子(2
)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・が
露出するのを確認するまで研磨量(7)を研磨加コーシ
ていたため、研磨作業に熟練を要するといった問題点が
あった。又、磁気ヘソF素子(2)(2)・・・の先端
面(2a)(2a)・・・を目視によって確認すると、
作業者によって研磨量に偏差が生じ、製品の特性が安定
しないといった問題点もあった。
気へ7 t’をマルチヘラ1一方式で使用する場合、各
磁気ヘラ1′素子(2)(2)・・・と磁気テープとの
テープ摺動面(5)が略完全な平面でメfく、該テープ
摺動面(5)と磁気テープとの間にスペーシングロスが
あると、再生ロスが発生したり、ノイズの原因ともなる
ため、上記接触摺動面は略完全l「平面にする必要があ
る。このため従来は第6図に示す如く、薄置突磁気ヘッ
ドの形成時、基板(1)の先端面(1a)が各磁気−・
ンド(2)(2)・・・の先端面(2a) (2a)
・・・より前方に来るように形成し、予め研磨量(8)
を形成しておく。そしてこの後、各磁気ヘッド素子(2
)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・が
露出する研磨終了線(m)まで基板(+)の先端面(l
a)をVr磨加Tすることにより、テープ摺動面(5)
を略完全な平面に什−1,げ−(いる。又、この研磨作
業時の研磨終了1!(m)の位置を各種薄膜磁気ヘッド
毎に設定し、+ilf磨量を調整することにより、各種
薄膜磁気ヘッドの磁気ヘッド素子(2)(2)・・・の
電気的特性を調整している。しかし、上記方法によって
テープ摺動面(5)を形成するに際しては、作業員が顕
微鏡等を利用して、その目視により磁気ヘッド素子(2
)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・が
露出するのを確認するまで研磨量(7)を研磨加コーシ
ていたため、研磨作業に熟練を要するといった問題点が
あった。又、磁気ヘソF素子(2)(2)・・・の先端
面(2a)(2a)・・・を目視によって確認すると、
作業者によって研磨量に偏差が生じ、製品の特性が安定
しないといった問題点もあった。
問題点奎解決ず−Ak−め一畔段
平板状をしたヘッド基板上にスパッタリング法等により
、複数の磁気ヘッド素子を形成してなる薄膜磁気ヘッド
に於いて、上記ヘッド基板上の磁気ヘッド素子が形成さ
れていない研磨代部分に、薄膜磁気ヘッド研磨加]一時
の研磨量を電気的に検出するためのテスト専用ヘッドを
形成したものである。
、複数の磁気ヘッド素子を形成してなる薄膜磁気ヘッド
に於いて、上記ヘッド基板上の磁気ヘッド素子が形成さ
れていない研磨代部分に、薄膜磁気ヘッド研磨加]一時
の研磨量を電気的に検出するためのテスト専用ヘッドを
形成したものである。
イwi
上記テスト専用ヘッドによって、i膜磁気ヘッドffr
磨加工時の研磨量を電気的に検出することにより、研磨
量を常に一定に保つものである。
磨加工時の研磨量を電気的に検出することにより、研磨
量を常に一定に保つものである。
実m桝
以下に本発明に係る薄1を磁気ヘッドの一実施例を第1
図及び第2図に示し説明する。尚、第3図乃至第6Mと
同一部分は同一参照符号を付し説明は省略する0本発明
が従来と相違する点は、ヘッド基板(1)の側部の磁気
ヘッド素子(2)(2)・・・が形成されていない研磨
代部分に、研N量を一定に保つためのテスト専用ヘッド
(1(1)を設けたことにある。このステト専用ヘッド
(1(1)は、磁気ヘッド素子(2>(2)−・・と同
じく、磁気抵抗素子(11)と、磁気抵抗素子(11)
の両端から延びる外部引出し用のリード(12) (
12)とから構成される。そしてその形成位置は、テス
ト専用ヘッド(1(1)の先端面(10a)が、薄膜磁
気ヘッドの研磨量(8)を研磨する時の研磨終了線(m
)より所定量だけ前方に突出する位置に設けておく。
図及び第2図に示し説明する。尚、第3図乃至第6Mと
同一部分は同一参照符号を付し説明は省略する0本発明
が従来と相違する点は、ヘッド基板(1)の側部の磁気
ヘッド素子(2)(2)・・・が形成されていない研磨
代部分に、研N量を一定に保つためのテスト専用ヘッド
(1(1)を設けたことにある。このステト専用ヘッド
(1(1)は、磁気ヘッド素子(2>(2)−・・と同
じく、磁気抵抗素子(11)と、磁気抵抗素子(11)
の両端から延びる外部引出し用のリード(12) (
12)とから構成される。そしてその形成位置は、テス
ト専用ヘッド(1(1)の先端面(10a)が、薄膜磁
気ヘッドの研磨量(8)を研磨する時の研磨終了線(m
)より所定量だけ前方に突出する位置に設けておく。
上記構成からなるテスト専用ヘッド(1(1)を有する
薄膜磁気ヘッドの研磨量(8)を研磨し、第2図に示す
如くテープ摺動面(5)を形成する時、研磨作業時には
先ずテスト専用ヘッド(1(1)の先端面(]Oa)が
研磨面に表われ、このテスト専用ヘッド(lO)の先端
面(10a)が所定量研磨された後、磁気ヘッド素子(
2)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・
が表われ、研磨終了線(m)に達することになる。従っ
て、研磨作業時、テスト専用ヘッド(1(1)の先端面
(]Oa)は所定量研磨されることになるため、この研
磨によって生じるテスト専用ヘッド(1(1)の電気的
変化を予めテストによって測定しておく。この場合、検
出電気信号の変化を、より検出し易くしたい時には、磁
気抵抗素子(11)の近傍、例えば研磨終了線(m)l
111付近に、抵抗−磁界特性における動作点バイアス
調整用の永久磁石薄膜を形成するとよい。そして研磨作
業時、テスト専用ヘッド(1(1)が研磨されるごとに
より生じる電気的変化が所定値に達した時、研磨装置を
自動的に停+L−させるようにすれば、WIi膜磁気ヘ
ッドの研磨量を常に−・定に保つことができる。
薄膜磁気ヘッドの研磨量(8)を研磨し、第2図に示す
如くテープ摺動面(5)を形成する時、研磨作業時には
先ずテスト専用ヘッド(1(1)の先端面(]Oa)が
研磨面に表われ、このテスト専用ヘッド(lO)の先端
面(10a)が所定量研磨された後、磁気ヘッド素子(
2)(2)・・・の先端面(2a) (2a)・・・
が表われ、研磨終了線(m)に達することになる。従っ
て、研磨作業時、テスト専用ヘッド(1(1)の先端面
(]Oa)は所定量研磨されることになるため、この研
磨によって生じるテスト専用ヘッド(1(1)の電気的
変化を予めテストによって測定しておく。この場合、検
出電気信号の変化を、より検出し易くしたい時には、磁
気抵抗素子(11)の近傍、例えば研磨終了線(m)l
111付近に、抵抗−磁界特性における動作点バイアス
調整用の永久磁石薄膜を形成するとよい。そして研磨作
業時、テスト専用ヘッド(1(1)が研磨されるごとに
より生じる電気的変化が所定値に達した時、研磨装置を
自動的に停+L−させるようにすれば、WIi膜磁気ヘ
ッドの研磨量を常に−・定に保つことができる。
尚、上記実施例は本発明を磁気抵抗素子を利用した再往
専用のMRヘッドに通用し、た場合について説明したが
、本発明はその場合に限らず、ヨーク型MRヘッド或い
は記録再生用のインダクティブヘッド等の伯の形式の薄
Wiji &!気ヘッドにも適用できる。
専用のMRヘッドに通用し、た場合について説明したが
、本発明はその場合に限らず、ヨーク型MRヘッド或い
は記録再生用のインダクティブヘッド等の伯の形式の薄
Wiji &!気ヘッドにも適用できる。
光叫−のりL果
上記した如く、本発明は薄膜磁気ヘッドに形成したテス
ト専用ヘッドにより、薄膜磁気ヘンド研磨加工時の研磨
量を電気的に検出し、この時の電気的変化が所定値に達
すると研磨装置を自動的に停止させるようにしたから、
研磨量を常に一定に保つことができ、製品の特性の安定
化が可能となる。又このように研磨量を電気的に検出す
れば、@磨量の調整を自由に行うことができるため、研
磨量を調整することにより行う磁気ヘッド素子の電気的
特性のt8wを正確に行えるようになる。
ト専用ヘッドにより、薄膜磁気ヘンド研磨加工時の研磨
量を電気的に検出し、この時の電気的変化が所定値に達
すると研磨装置を自動的に停止させるようにしたから、
研磨量を常に一定に保つことができ、製品の特性の安定
化が可能となる。又このように研磨量を電気的に検出す
れば、@磨量の調整を自由に行うことができるため、研
磨量を調整することにより行う磁気ヘッド素子の電気的
特性のt8wを正確に行えるようになる。
第1図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドのfIf磨前の状
態を示す平面図、第2図は研磨後の状態を示す平面図で
ある。第3図は薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第
4図は第3図の薄膜磁気へラドのテープ摺動面を示す正
面図、第5図はマルチヘッドタイプの薄膜磁気ヘッドの
研磨後の状態を示す平面図、第6図は研磨前の状態を示
す平面図である。 (1)−ヘッド基板、(2) −磁気ヘッド素子、(1
(1)・−テスト専用ヘッド。 第3図 、il、Fj材禾へ7μ力/19f/i第5図
リ?l大砿夏へ、A”!bm (M/fが) tx7tR) り ヂ ft−り 手続補正書 昭和61年 2月25「1 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年 特許層 第215282号2、発明の名称
薄膜磁気ヘッド 3、i!正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 関西日本電気株式会社 4、代理人 住 所 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目15番26号
昭和61年1月8日 (発送日 昭和61年1月28日) 6、補正の対象 図 面 7、I!正の内容 図面全図を別紙の通り補正する。
態を示す平面図、第2図は研磨後の状態を示す平面図で
ある。第3図は薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第
4図は第3図の薄膜磁気へラドのテープ摺動面を示す正
面図、第5図はマルチヘッドタイプの薄膜磁気ヘッドの
研磨後の状態を示す平面図、第6図は研磨前の状態を示
す平面図である。 (1)−ヘッド基板、(2) −磁気ヘッド素子、(1
(1)・−テスト専用ヘッド。 第3図 、il、Fj材禾へ7μ力/19f/i第5図
リ?l大砿夏へ、A”!bm (M/fが) tx7tR) り ヂ ft−り 手続補正書 昭和61年 2月25「1 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年 特許層 第215282号2、発明の名称
薄膜磁気ヘッド 3、i!正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 関西日本電気株式会社 4、代理人 住 所 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目15番26号
昭和61年1月8日 (発送日 昭和61年1月28日) 6、補正の対象 図 面 7、I!正の内容 図面全図を別紙の通り補正する。
Claims (1)
- (1)平板状をしたヘッド基板上に、複数の磁気ヘッド
素子を形成してなる薄膜磁気ヘッドに於いて、 上記ヘッド基板上の磁気ヘッド素子が形成されていない
研磨代部分に、薄膜磁気ヘッド研磨加工時の研磨量を電
気的に検出するためのテスト専用ヘッドを形成したこと
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21528285A JPS6275923A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21528285A JPS6275923A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275923A true JPS6275923A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16669735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21528285A Pending JPS6275923A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6275923A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001003127A1 (fr) * | 1999-07-05 | 2001-01-11 | Fujitsu Limited | Coulisse a tete magnetique et entrainement de support d'enregistrement |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21528285A patent/JPS6275923A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001003127A1 (fr) * | 1999-07-05 | 2001-01-11 | Fujitsu Limited | Coulisse a tete magnetique et entrainement de support d'enregistrement |
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