JPS6276199A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS6276199A JPS6276199A JP60215570A JP21557085A JPS6276199A JP S6276199 A JPS6276199 A JP S6276199A JP 60215570 A JP60215570 A JP 60215570A JP 21557085 A JP21557085 A JP 21557085A JP S6276199 A JPS6276199 A JP S6276199A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- coaxial
- heating device
- support plate
- frequency
- Prior art date
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- Granted
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)
- Waveguides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野）
本発明は、内導体及び外導体からなる同軸導波管とルー
プアンテナを有する核融合プラズマカロ熱装置用イオン
サイクロトロン周波数帯加熱装置に係り、特にその同軸
給電線の構成を改良した高周波加熱装置に関する。
プアンテナを有する核融合プラズマカロ熱装置用イオン
サイクロトロン周波数帯加熱装置に係り、特にその同軸
給電線の構成を改良した高周波加熱装置に関する。
（発明の技術的背景〕
高周波′１ｔ１１ｉｆ１波による核融合プラズマ加熱方
式の一つにイオンサイクロトロン共鳴を利用したイオン
サイクロトロン周波数帯（以下ＩＣＲＦと称する）加熱
がある。Ｉ ＣＲＦｔＩ口熱装置は例えば第３図のよう
な構成となっている。
式の一つにイオンサイクロトロン共鳴を利用したイオン
サイクロトロン周波数帯（以下ＩＣＲＦと称する）加熱
がある。Ｉ ＣＲＦｔＩ口熱装置は例えば第３図のよう
な構成となっている。
即ち、ｒｃＲＦ加熱装置く高周波加熱装置）は、高出力
の百Ｍ Ｈ２Ｈの高周波型…波を発生し増幅する高周波
発振器１、この高周波発振器１から発生した高周波出力
を伝送する同軸管２を有している。
の百Ｍ Ｈ２Ｈの高周波型…波を発生し増幅する高周波
発振器１、この高周波発振器１から発生した高周波出力
を伝送する同軸管２を有している。
この同軸管２は外導体２ａと内導体２ｂとから構成され
ている。この外導体２ａと内導体２ｂとは、アンテナ３
にて結ばれている。内導体２ｂは高周波電流の往路とな
り、外導体２ａは高周波電流の帰路となる。このアンテ
ナ３に流れる高周波電流によって、…場が発生し、放電
容器４の中に閉じ込められたプラズマ５に高周波出力が
与えられる、ここで、外導体２ａと内導体？ｂとの部分
は総称して結合系６と称され、この結合系６はｔＩｌ電
容器４の一部のボート４ａよりその内部に挿入される。
ている。この外導体２ａと内導体２ｂとは、アンテナ３
にて結ばれている。内導体２ｂは高周波電流の往路とな
り、外導体２ａは高周波電流の帰路となる。このアンテ
ナ３に流れる高周波電流によって、…場が発生し、放電
容器４の中に閉じ込められたプラズマ５に高周波出力が
与えられる、ここで、外導体２ａと内導体？ｂとの部分
は総称して結合系６と称され、この結合系６はｔＩｌ電
容器４の一部のボート４ａよりその内部に挿入される。
（背景技術の問題点）
ところで、核融合条件を満足するべくプラズマ５を高温
高密度にするためには、ＩＣＲＦ加熱装胃も大容蟻化及
び長時間運転を行なう必要がある。
高密度にするためには、ＩＣＲＦ加熱装胃も大容蟻化及
び長時間運転を行なう必要がある。
しかるに、従来の構成での一部の同軸導波管２での容ａ
に限界があり、せいぜい１．５ＭＷ位であり、上記大音
消化にはとうてい満足しないものである。
に限界があり、せいぜい１．５ＭＷ位であり、上記大音
消化にはとうてい満足しないものである。
一方、長時間連続運転を行なおうとすると、外導体２ａ
と内導体２ｂとに高周波Ｍ流が長時間流れることから発
熱の問題が生じ、このため強制冷却の必要も生じてきて
いる。
と内導体２ｂとに高周波Ｍ流が長時間流れることから発
熱の問題が生じ、このため強制冷却の必要も生じてきて
いる。
また、プラズマ５に流れる電流は数Ｍ Ａにも達し、こ
れか数ｍ ｓｅｃでしゃ断することがある。この場合、
結合系６には誘導電流が流れ、プラズマ閉じ込め用磁場
と鎖交し、大きな電磁力が動く、よって、結合系６とし
ては、このような電磁力に耐える必要がある。
れか数ｍ ｓｅｃでしゃ断することがある。この場合、
結合系６には誘導電流が流れ、プラズマ閉じ込め用磁場
と鎖交し、大きな電磁力が動く、よって、結合系６とし
ては、このような電磁力に耐える必要がある。
本発明は上記事情に基づいてなされたもので、その目的
は、大容量、長時間運転に耐える高周波加熱装置を提供
することである。
は、大容量、長時間運転に耐える高周波加熱装置を提供
することである。
ｎ＼
ｐかる目的を達成するために本発明による高周波加熱装
置は、その結合系を、複数個の同軸導波管を容器で囲う
構成として、該同軸導波管と容器との間を冷媒を通流し
て強制し、上記同軸導波管をねじるような電磁力の支持
のために、複数個の同軸導波管と容器とを支持板に連結
する構成としたことを特徴とする。
置は、その結合系を、複数個の同軸導波管を容器で囲う
構成として、該同軸導波管と容器との間を冷媒を通流し
て強制し、上記同軸導波管をねじるような電磁力の支持
のために、複数個の同軸導波管と容器とを支持板に連結
する構成としたことを特徴とする。
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図は第３図に示す結合系の一断面を示すものである
。第１図では、外導体２ａと内導体２ｂとからなる同軸
導波管２が複数個（４個）あり、この復教側の同軸導波
管２は、容器７により囲まれている。また、複数個の同
軸導波管２と容器７との間に形成された空間８には、強
制冷却用の冷媒が流される。
。第１図では、外導体２ａと内導体２ｂとからなる同軸
導波管２が複数個（４個）あり、この復教側の同軸導波
管２は、容器７により囲まれている。また、複数個の同
軸導波管２と容器７との間に形成された空間８には、強
制冷却用の冷媒が流される。
また、第２図は第１図の容器７と同軸導波管２との支持
構成を示す。それぞれの外導体２ａには、突起９が一部
１こ設けられている。そして、この突起９ど嵌合する支
持板１０が設けられる。この場合、支持板１０には、容
器７に形成された凸部１１と対応して凹部１２が設けら
れている。
構成を示す。それぞれの外導体２ａには、突起９が一部
１こ設けられている。そして、この突起９ど嵌合する支
持板１０が設けられる。この場合、支持板１０には、容
器７に形成された凸部１１と対応して凹部１２が設けら
れている。
上記（８成の本実施例によれば、空間８に冷却冷媒を流
すことにより、外導体２ａに発生する高周波電流が流れ
ることによって発生するジュール熱が除去できる。
すことにより、外導体２ａに発生する高周波電流が流れ
ることによって発生するジュール熱が除去できる。
一方、第４図にはプラズマ電流がしゃ断した時外導体２
ａに誘起される電流■と外部ｆｆｌ場Ｂｐが示されてい
る。この磁場Ｂｐと電流１の相互作用によりねじり力Ｆ
が作用する。口のねじり力Ｆによる応力は大きくなる。
ａに誘起される電流■と外部ｆｆｌ場Ｂｐが示されてい
る。この磁場Ｂｐと電流１の相互作用によりねじり力Ｆ
が作用する。口のねじり力Ｆによる応力は大きくなる。
これに対し、本実施例では、支持板１０が容器７と外導
体２ａとをそれぞれ凹凸９．１１により嵌合されている
。よって第４図に示す電磁力によって生ずる電位は拘束
される。もちろん、電磁力ばかりでなく自重によるたわ
みも少なくしている。
体２ａとをそれぞれ凹凸９．１１により嵌合されている
。よって第４図に示す電磁力によって生ずる電位は拘束
される。もちろん、電磁力ばかりでなく自重によるたわ
みも少なくしている。
以上の如く本実施例によれば、次のような作用効果があ
る。
る。
■ 外導体２ａの冷却を、複数個同一条件で効率よくで
きる。例えば、個々の外導体２ａを独立に冷却しようと
すると個々の外導体２ａ冷却用バスを設けることになる
がそれに比べ本実施例では経済的に冷却可能となる。
きる。例えば、個々の外導体２ａを独立に冷却しようと
すると個々の外導体２ａ冷却用バスを設けることになる
がそれに比べ本実施例では経済的に冷却可能となる。
■ 第２図のように複数の同軸導波管２を支持板１０に
より支持することによって、大きな電磁力が作用した場
合に於ても同軸導波管２は強固であり、充分安全に動作
させることができる。
より支持することによって、大きな電磁力が作用した場
合に於ても同軸導波管２は強固であり、充分安全に動作
させることができる。
■ 同軸導波管２の自重による変形も、剛性の大きな容
器７に支持されるため、小さくすることが可能となる。
器７に支持されるため、小さくすることが可能となる。
■ 容器７の外側は、第３図に示す放電容器４の中に挿
入されるので、本実施例の如く簡単な形状であれば、溶
接線の長さも短くなり、真空漏れの割合が減り信頼性の
向上を図ることができる。
入されるので、本実施例の如く簡単な形状であれば、溶
接線の長さも短くなり、真空漏れの割合が減り信頼性の
向上を図ることができる。
（発明の効果）
以上詳述したように本発明によれば、複数の同軸導波管
が用いられ、且つ有効に冷Ｗ可能であることから大容量
でかつ長時間運転可能な高周波加熱装置が提供でるもの
である。
が用いられ、且つ有効に冷Ｗ可能であることから大容量
でかつ長時間運転可能な高周波加熱装置が提供でるもの
である。
第１図は本発明による高周波加熱装置の一実施例を示す
一部断面斜視図、第２図は第１図の支持構造を示す一部
断面斜視図、第３図は高周波加熱装置の全体を示す図、
第４図は、同軸導波管に作用する電磁力を示す図である
。 １・・・高周波発振器、２・・・同軸（導波）管、２ａ
・・・外導体、２ｂ・・・内導体、３・・・アンテナ、
４・・・放電容器、５・・・プラズマ、６・・・結合系
、６ａ・・・ボート、７・・・容器、８・・・空間、９
・・・突起、１０・・・支持板、１１・・・凸部、１２
・・・凹部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
一部断面斜視図、第２図は第１図の支持構造を示す一部
断面斜視図、第３図は高周波加熱装置の全体を示す図、
第４図は、同軸導波管に作用する電磁力を示す図である
。 １・・・高周波発振器、２・・・同軸（導波）管、２ａ
・・・外導体、２ｂ・・・内導体、３・・・アンテナ、
４・・・放電容器、５・・・プラズマ、６・・・結合系
、６ａ・・・ボート、７・・・容器、８・・・空間、９
・・・突起、１０・・・支持板、１１・・・凸部、１２
・・・凹部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図
Claims (3)
- （１）外導体及び内導体からなる同軸導波管とループア
ンテナとを有するプラズマ加熱用イオンサイクロトロン
周波数帯の高周波加熱装置において、上記同軸導波管の
複数個を囲う容器を備えたことを特徴とする高周波加熱
装置。 - （２）同軸導波管と容器との間に、強制冷却用の冷媒を
通流させることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の加熱装置。 - （３）複数個の外導体に突起物を設け、該突起物と嵌合
する支持板を設け、該支持板はその外側に配置される容
器により支持されることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60215570A JPH0750180B2 (ja) | 1985-09-28 | 1985-09-28 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60215570A JPH0750180B2 (ja) | 1985-09-28 | 1985-09-28 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276199A true JPS6276199A (ja) | 1987-04-08 |
| JPH0750180B2 JPH0750180B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=16674619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60215570A Expired - Lifetime JPH0750180B2 (ja) | 1985-09-28 | 1985-09-28 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0750180B2 (ja) |
-
1985
- 1985-09-28 JP JP60215570A patent/JPH0750180B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0750180B2 (ja) | 1995-05-31 |
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