JPS6279309A - 光ビ−ムの位置検出装置 - Google Patents
光ビ−ムの位置検出装置Info
- Publication number
- JPS6279309A JPS6279309A JP21617685A JP21617685A JPS6279309A JP S6279309 A JPS6279309 A JP S6279309A JP 21617685 A JP21617685 A JP 21617685A JP 21617685 A JP21617685 A JP 21617685A JP S6279309 A JPS6279309 A JP S6279309A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- light
- scattering
- detection device
- incident
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は光ビームの位置検出装置に係る。
(従来の技術)
先にこの発明人は特公昭60−10242号公報で示す
ようなレー°ザ・ビーム等の光ビームの位置検出装置を
提案した。その概略を第4図の構成図、第5図の筒路線
図、第6図、第7図の動作説明図で証明する。8は液晶
板で表面に適宜間隔をもって縞状の透明電極9,9Iを
コーティングしたネサガラス10.10をそれぞれ90
’ずらしスペーサ11で間隔を保って透明電極9,91
間に液晶12を充填し、更にシールしたものでその他1
3は光電変換器14は制御回路であり6は光ビームとす
る。
ようなレー°ザ・ビーム等の光ビームの位置検出装置を
提案した。その概略を第4図の構成図、第5図の筒路線
図、第6図、第7図の動作説明図で証明する。8は液晶
板で表面に適宜間隔をもって縞状の透明電極9,9Iを
コーティングしたネサガラス10.10をそれぞれ90
’ずらしスペーサ11で間隔を保って透明電極9,91
間に液晶12を充填し、更にシールしたものでその他1
3は光電変換器14は制御回路であり6は光ビームとす
る。
次にその動作について説明すると、位置を横変換器13
に至り電気信号に変換される。制御回路14は第6図に
示すように縞状の透明電極9及び9Iノ素子X、 X2
X、 、、、−Xl−、、XnとY。
に至り電気信号に変換される。制御回路14は第6図に
示すように縞状の透明電極9及び9Iノ素子X、 X2
X、 、、、−Xl−、、XnとY。
YY・・・・Yl・・・・Yn間に電界を選択的に加え
ること、たとえば素子Y、 Y2Y、・・・・Yl・・
・・Ynとxi間に電界を加えることにより液晶12の
特定部分X1を不透明にし光ビーム6の透過率を低下さ
せるので、光電変換器13から出る電気信号が変化し、
光ビーム6の入射する素子x1が検出される。次いで第
7図に示すように制御回路14が素子Y1とX、 X2
X、・・・・Xl・・・・Xn間に電界を加えることに
より液晶12の特Ay1を不透明にし光ビーム6の透過
率を低下させるので、光電変換器13から出る電気信号
が変化し光ビーム6の入射する素子Y1が検出される。
ること、たとえば素子Y、 Y2Y、・・・・Yl・・
・・Ynとxi間に電界を加えることにより液晶12の
特定部分X1を不透明にし光ビーム6の透過率を低下さ
せるので、光電変換器13から出る電気信号が変化し、
光ビーム6の入射する素子x1が検出される。次いで第
7図に示すように制御回路14が素子Y1とX、 X2
X、・・・・Xl・・・・Xn間に電界を加えることに
より液晶12の特Ay1を不透明にし光ビーム6の透過
率を低下させるので、光電変換器13から出る電気信号
が変化し光ビーム6の入射する素子Y1が検出される。
このようにして制御回路14により電界を加える電極9
.9Iを順次選択し、光電変換器15から出る電気信号
の変化の有無を調べれば、光ビーム6の入射位置(Xn
、Yl)を求めることができる。
.9Iを順次選択し、光電変換器15から出る電気信号
の変化の有無を調べれば、光ビーム6の入射位置(Xn
、Yl)を求めることができる。
この種の位置検出装置の使用例として、トンネル掘進機
のトンネル基準線からのずれの測定があり、通常は掘進
機の後方より基準用の光ビーム、例えばレーザ・ビーム
を投光し、掘進機に取り付けられた位置検出装置で光ビ
ームに対する位置を検出して、もって、測量の省力化に
効果を上げている。
のトンネル基準線からのずれの測定があり、通常は掘進
機の後方より基準用の光ビーム、例えばレーザ・ビーム
を投光し、掘進機に取り付けられた位置検出装置で光ビ
ームに対する位置を検出して、もって、測量の省力化に
効果を上げている。
(発明が解決しようとする問題点)
以上のように特公昭60−10242号に記載された光
ビーム位置検出装置は液晶板を使用しているので光ビー
ムの位置検出装置の主な使用例としてトンネル掘進機の
トンネル中心から離れた場所に位置するために必要な大
きさ20α×201程度にしようとすれば、液晶をはさ
むためのガラス板の表面精度数ミクロンを広い面積につ
いて得なければならず、このため大型の工作機械の新規
な設計、製作が必要で、また透明電極のコーティングの
ための液晶用としては一般に使われていない大型の槽が
必要であり、更に液晶自体が紫外線により徐々に機能低
下を起こすので耐久性が低いなどの問題点があった。
ビーム位置検出装置は液晶板を使用しているので光ビー
ムの位置検出装置の主な使用例としてトンネル掘進機の
トンネル中心から離れた場所に位置するために必要な大
きさ20α×201程度にしようとすれば、液晶をはさ
むためのガラス板の表面精度数ミクロンを広い面積につ
いて得なければならず、このため大型の工作機械の新規
な設計、製作が必要で、また透明電極のコーティングの
ための液晶用としては一般に使われていない大型の槽が
必要であり、更に液晶自体が紫外線により徐々に機能低
下を起こすので耐久性が低いなどの問題点があった。
(問題点を解決するための手段)
このような点を考慮してこの発明では液晶を用いること
なく光ビームの断面積より大きい入射面をもちかつ入射
する光ビームを散乱させて通過個所を光らせる光の散乱
手段をもつ光学的手段とこの光の散乱部分(以下光性)
の周囲に光性の光を同時に受けられるように円周方向に
互に離れて設置され光性から出る光を集束させる光学系
と、光性の方向を電気出力として取り出す少くとも2つ
の光電位置検出器と、これら光電位置検出器よりえられ
る電気的出力から計算により前記光学的手段に対する光
ビームの位置をつる手段とを備えたものである。
なく光ビームの断面積より大きい入射面をもちかつ入射
する光ビームを散乱させて通過個所を光らせる光の散乱
手段をもつ光学的手段とこの光の散乱部分(以下光性)
の周囲に光性の光を同時に受けられるように円周方向に
互に離れて設置され光性から出る光を集束させる光学系
と、光性の方向を電気出力として取り出す少くとも2つ
の光電位置検出器と、これら光電位置検出器よりえられ
る電気的出力から計算により前記光学的手段に対する光
ビームの位置をつる手段とを備えたものである。
(作 用)
従ってこの発明によれば光の散乱を用いて光ビームの入
射位置を検出するように構成して複雑な手段を用いるこ
となく、極めて簡単な構成により製造が容易であるばか
りでなく長期間にわたり容易にかつ確実に光ビームの位
置を測定できるものであり、各種の測量機械たとえばト
ンネル掘進の際のセンタ測量に用いて顕著な効果を発揮
するのである。
射位置を検出するように構成して複雑な手段を用いるこ
となく、極めて簡単な構成により製造が容易であるばか
りでなく長期間にわたり容易にかつ確実に光ビームの位
置を測定できるものであり、各種の測量機械たとえばト
ンネル掘進の際のセンタ測量に用いて顕著な効果を発揮
するのである。
(実施例)
次にこの発明を図の実施例について説明すると第1図は
この発明の一実施例による光ビームの位置検出装置の断
面図、第2図は第1図に示した実施例の正面図、第3図
は第1図及び第2図で示した光ビームの位置検出装置の
光ビームの入射位置の求め方の説明図である。図におい
て1は箱体で光の散乱手段2、光の方向検出用のレンズ
3、カバー4、及び光電位置検出器5を収納する。光の
散乱手段2としては、光の散乱媒体を含む透明な物質例
えば微粉の浮遊する気体を用いる。勿論、箱体1は光ビ
ームの入射面が透明となっている。入射する光ヒーム6
による散乱光7(以下光性と称す)による光はレンズ乙
により光電位置検出器5上に集光される。
この発明の一実施例による光ビームの位置検出装置の断
面図、第2図は第1図に示した実施例の正面図、第3図
は第1図及び第2図で示した光ビームの位置検出装置の
光ビームの入射位置の求め方の説明図である。図におい
て1は箱体で光の散乱手段2、光の方向検出用のレンズ
3、カバー4、及び光電位置検出器5を収納する。光の
散乱手段2としては、光の散乱媒体を含む透明な物質例
えば微粉の浮遊する気体を用いる。勿論、箱体1は光ビ
ームの入射面が透明となっている。入射する光ヒーム6
による散乱光7(以下光性と称す)による光はレンズ乙
により光電位置検出器5上に集光される。
光電位置検出器5は入射光の位置に対応した電気信号を
出すもので、2個所のレンズ3に対する先住7の方向に
対応した光電位置検出器5の電気信号が計算手段(図示
せず)に入り光ビーム6の入射位置が計算される。
出すもので、2個所のレンズ3に対する先住7の方向に
対応した光電位置検出器5の電気信号が計算手段(図示
せず)に入り光ビーム6の入射位置が計算される。
次にこの発明装置を具体的な測定例について述べる。第
5図は第2図の光電位置検出器5の電気信号から光ビー
ム6の入射位置(xp、Yp)の求め方を示す。
5図は第2図の光電位置検出器5の電気信号から光ビー
ム6の入射位置(xp、Yp)の求め方を示す。
今、光ビーム6が第6図に示すように座標的な位置を透
過し、先住7を生じたとしてこの場合の位置(Xp、Y
p)は第3図の幾何学的配置に鑑み次式から求められる
。
過し、先住7を生じたとしてこの場合の位置(Xp、Y
p)は第3図の幾何学的配置に鑑み次式から求められる
。
式(1)、(2)は2個所の光電位置検出器の電気信号
を処理する計算手段(図示せず)によって計算する。
を処理する計算手段(図示せず)によって計算する。
尚、上述の実施例においてはレンズ3と光電位置検出器
5を2組平面上の辺の中央付近に設置する構成の場合に
ついて説明したが、先住の位置が計算できる場所であれ
ばよく、たとえば平面のコーナーに設けてもよい。また
さらにレンズ3と光電位置検出器5を1組以上光柱の周
囲に上述の2組とは離して設置することにより、入射位
置の検出範囲および精度を上げ得ることはもちろんであ
る。また上述の実施例においては光の散乱手段として微
粉の浮遊する気体を使用する場合について述べたが、透
明な液体にコロイド状の微粉を含むもの、あるいは透明
なプラスチック又はガラスに微粉を含むもの等を用いる
こともできる。いずれにしてもこの発明に係る光ビーム
位置検出装置は光の散乱手段を用いて入射する光ビーム
の通過部分に散乱光(以下、先住)を生じさせ、先住の
周囲に円周方向に互に離して設けた2か所以上の集光す
るレンズとこの集光した光の位置を電気信号に変換する
光電位置検出器を用いて先住の方向を検出し、これらの
2か所以上の光電位置検出器の電気信号から計算の上、
光ビームの入射位置を求めるようにしたものである。
5を2組平面上の辺の中央付近に設置する構成の場合に
ついて説明したが、先住の位置が計算できる場所であれ
ばよく、たとえば平面のコーナーに設けてもよい。また
さらにレンズ3と光電位置検出器5を1組以上光柱の周
囲に上述の2組とは離して設置することにより、入射位
置の検出範囲および精度を上げ得ることはもちろんであ
る。また上述の実施例においては光の散乱手段として微
粉の浮遊する気体を使用する場合について述べたが、透
明な液体にコロイド状の微粉を含むもの、あるいは透明
なプラスチック又はガラスに微粉を含むもの等を用いる
こともできる。いずれにしてもこの発明に係る光ビーム
位置検出装置は光の散乱手段を用いて入射する光ビーム
の通過部分に散乱光(以下、先住)を生じさせ、先住の
周囲に円周方向に互に離して設けた2か所以上の集光す
るレンズとこの集光した光の位置を電気信号に変換する
光電位置検出器を用いて先住の方向を検出し、これらの
2か所以上の光電位置検出器の電気信号から計算の上、
光ビームの入射位置を求めるようにしたものである。
以上この発明をおもに一実施例について説明したが、こ
の記載はこの発明の範囲を限定するものではなく、要旨
を変更しない範囲内で適宜変形して実施し得ることは勿
論である。
の記載はこの発明の範囲を限定するものではなく、要旨
を変更しない範囲内で適宜変形して実施し得ることは勿
論である。
(発明の効果)
以上のように、この発明によれば光の散乱を用いて光ビ
ームの入射位置を検出するように構成したので液晶のよ
うな複雑な手段を用いることなく極めて簡単な構成によ
り製造が容易であるばかりでなく、耐久性があって長期
間にわたって容易にかつ確実に光ヒームの位置を測定で
き、各種の測量機械たとえばI・ンネル掘進の際のセン
タ測量に用いて顕著な効果を発揮することができる。又
、この発明における光ビームの散乱手段は光ビームの入
射位置の検出を光ビームの進行方向の直角方向において
可能とする。
ームの入射位置を検出するように構成したので液晶のよ
うな複雑な手段を用いることなく極めて簡単な構成によ
り製造が容易であるばかりでなく、耐久性があって長期
間にわたって容易にかつ確実に光ヒームの位置を測定で
き、各種の測量機械たとえばI・ンネル掘進の際のセン
タ測量に用いて顕著な効果を発揮することができる。又
、この発明における光ビームの散乱手段は光ビームの入
射位置の検出を光ビームの進行方向の直角方向において
可能とする。
第1図はこの発明の一実施例による光ビームの位置検出
装置の断面図、第2図は第1図に示した実施例の正面図
、第3図は第1図及び第2図で示した光ビームの位置検
出装置の光ビームの入射位置の求め方の説明線図、第4
図は従来の光ビームの位置検出装置の構成図、第5図は
第4図の簡略構成図、第6図及び第7図は第4図の動作
説明図である。 1は箱体、2は光の散乱手段、3はレンズ、4はカバー
、5は光電位置検出器、6は光ビーム、7は先住。 相I粁漱睡、ムー 己1ゴレ=/ジョブ壬t−gh矛
シ罵1図 健2図 %3図 99’ +3 +0 8 9’
装置の断面図、第2図は第1図に示した実施例の正面図
、第3図は第1図及び第2図で示した光ビームの位置検
出装置の光ビームの入射位置の求め方の説明線図、第4
図は従来の光ビームの位置検出装置の構成図、第5図は
第4図の簡略構成図、第6図及び第7図は第4図の動作
説明図である。 1は箱体、2は光の散乱手段、3はレンズ、4はカバー
、5は光電位置検出器、6は光ビーム、7は先住。 相I粁漱睡、ムー 己1ゴレ=/ジョブ壬t−gh矛
シ罵1図 健2図 %3図 99’ +3 +0 8 9’
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光ビームの断面積より大きい入射面をもち、入射す
る光ビームを散乱させて通過個所を光らせる光の散乱手
段をもつ光学的手段と、この光の散乱部分の周囲に散乱
部分の光を同時に受けられるように円周方向に互に離れ
て設置され散乱部分からでる光を集束させる光学系をも
ち、光の散乱部分の方向を電気出力として取り出せる少
くとも2つの光電位置検出器と、そしてこれらの光電位
置検出器よりえられる電気的出力から計算して前記光学
的手段に対する光ビームの位置をうる手段とを備えるこ
とを特徴とする光ビームの位置検出装置。 2、光の散乱手段として微粉の浮遊する気体のように光
の散乱媒体を含む透明物質を使用したことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の光ビームの位置検出装置。 3、光の散乱手段として透明な液体にコロイド状微粉を
含むものを使用したことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光ビームの位置検出装置。 4、光の散乱手段として透明なプラスチック又はガラス
に微粉を含むものを使用したことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の光ビームの位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21617685A JPS6279309A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 光ビ−ムの位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21617685A JPS6279309A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 光ビ−ムの位置検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6279309A true JPS6279309A (ja) | 1987-04-11 |
| JPH0560525B2 JPH0560525B2 (ja) | 1993-09-02 |
Family
ID=16684475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21617685A Granted JPS6279309A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 光ビ−ムの位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6279309A (ja) |
-
1985
- 1985-10-01 JP JP21617685A patent/JPS6279309A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0560525B2 (ja) | 1993-09-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN203405182U (zh) | 一种基于视觉测量的隧道断面轮廊测量装置 | |
| US4484069A (en) | Apparatus and method for sensing distance | |
| JPH0560525B2 (ja) | ||
| JPS6073403A (ja) | エツジ位置検出方式 | |
| JPS6010242B2 (ja) | 光ビ−ムの位置検出装置 | |
| JP3705863B2 (ja) | 高さ測定装置及び高さ測定方法 | |
| JPH03289504A (ja) | 気泡計測装置 | |
| KR100269180B1 (ko) | 표적추적장치의 표적거리 측정 방법 | |
| JPH03175314A (ja) | 座標計測方法及び座標計測装置 | |
| JPS63225120A (ja) | ワンマン測量システム | |
| GB1471372A (en) | Method of and/apparatus for oscillation amplitude measurement | |
| JPS5833524Y2 (ja) | レ−ザ−式位置傾斜測定装置 | |
| JP3406022B2 (ja) | レーザー光を用いた位置決め指示装置 | |
| JPH112507A (ja) | トンネル掘削機における供給セグメントの位置検出方法 | |
| JPH045507A (ja) | 形状測定装置 | |
| JPH01224619A (ja) | 距離計測方法 | |
| JPH0243871B2 (ja) | Tonnerunainosagyosaikurutaimunosokuteihohonarabinisokuteisochi | |
| JP2542548Y2 (ja) | シールド掘削機方向検出装置 | |
| JPH087259B2 (ja) | 移動体の位置検出装置 | |
| JP2763464B2 (ja) | 移動体の進行状態検出装置 | |
| JPS635206A (ja) | 表面形状測定装置 | |
| JPS5918405A (ja) | 光学的変位測定装置 | |
| JPH03277904A (ja) | 角度・変位センサ | |
| WO2001088469A8 (en) | Interferometric apparatus and method | |
| JPH0447209A (ja) | 光学式距離測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |