JPS6279621A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPS6279621A JPS6279621A JP60219334A JP21933485A JPS6279621A JP S6279621 A JPS6279621 A JP S6279621A JP 60219334 A JP60219334 A JP 60219334A JP 21933485 A JP21933485 A JP 21933485A JP S6279621 A JPS6279621 A JP S6279621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- stage
- coordinates
- detected
- sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔埋朶上の利用分野〕
このうむ明は、揮歪みの算出の可能な投影路光装置に関
するものである。
するものである。
従来、投影露光装置において／ンズティストーシ、ン１
倍率誤丞、マスクとウエノ〜の非平行性等によって生じ
る蓮也みの討６１］Ｊには、ウェハ上にバーニアパター
ンを織元し、税法した仮、１伐によって絖み取るとい５
ノ・−ニア法や、専用ノくターンをウェハ上に蕗尤、現
像、エツアングにより形成した後、シート抵抗を測定す
ることにより１次歪みを計測するという電気的測定法を
用（・て行って（・たＯ 〔うに明が解決しようとする問題点〕 上記のよ５な従来の像歪みの計測方法は、ノ・−二７法
においては露光、現１＊とい５工程か必要であるうえ目
視によるため精度か悪く、またより尚い精度が得られる
電気的測定法にお（・ても、露光。
倍率誤丞、マスクとウエノ〜の非平行性等によって生じ
る蓮也みの討６１］Ｊには、ウェハ上にバーニアパター
ンを織元し、税法した仮、１伐によって絖み取るとい５
ノ・−ニア法や、専用ノくターンをウェハ上に蕗尤、現
像、エツアングにより形成した後、シート抵抗を測定す
ることにより１次歪みを計測するという電気的測定法を
用（・て行って（・たＯ 〔うに明が解決しようとする問題点〕 上記のよ５な従来の像歪みの計測方法は、ノ・−二７法
においては露光、現１＊とい５工程か必要であるうえ目
視によるため精度か悪く、またより尚い精度が得られる
電気的測定法にお（・ても、露光。
現像、エツチングという工程が会費であるうえ、さらに
、専用の測定装置か会費となると（・５問題点があった
０ この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、像歪みを容易に、かつ晶（・精度で計測すること
ができる投影路光装置ン得ることを目的とする。
、専用の測定装置か会費となると（・５問題点があった
０ この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、像歪みを容易に、かつ晶（・精度で計測すること
ができる投影路光装置ン得ることを目的とする。
〔問題点Ｙｗ６決するための手段〕
このうｄ明に係る投影ｍ＋装置は、所定のピッチでマー
クが形成された測定用のマスクと、その上囲に投影され
るマーク’Ｙｗｌ出するためのセンサを有し７−ザ干渉
計によって位置制御されるＸ−Ｙステージと、このＸ−
Ｙステージ上で検出きれるマークの位置座標と理論１Ｖ
Ｌとを比較して漣歪みを算出する演算手段とを備えたも
のである。
クが形成された測定用のマスクと、その上囲に投影され
るマーク’Ｙｗｌ出するためのセンサを有し７−ザ干渉
計によって位置制御されるＸ−Ｙステージと、このＸ−
Ｙステージ上で検出きれるマークの位置座標と理論１Ｖ
Ｌとを比較して漣歪みを算出する演算手段とを備えたも
のである。
この発明においては、投影されるマークを検出するため
のセンサ乞有するＸ−Ｙステージ上に投影されたマーク
の位置座標かＸ−Ｙステージによって検出され、演算手
段によってこの検出された位置座標と理論値とか比較さ
れ像歪みが算出される。
のセンサ乞有するＸ−Ｙステージ上に投影されたマーク
の位置座標かＸ−Ｙステージによって検出され、演算手
段によってこの検出された位置座標と理論値とか比較さ
れ像歪みが算出される。
第１図はこの発明の投影露光装置の一実施ヅ］を示す概
略図で、１は所定のピッチでマークが形成された６１１
１定用のマスク、２はＶ−ザ干渉計によって位置＋１＋
１」仰されるＸ−Ｙステージ、３は口ｉ＋ ｇｔ ｘ
−Ｙステージ２上に設けられ測定用のマスク１より投影
されるマークを検出するためのセンサ、４は縮小率１／
Ｎ１ の幅小レンズ、５はウェハｇｔｉｉ台である。ま
た第２凶は測定用のマスク１の一しリを示す上聞図で、
マークかΔＸ、ΔＹのピッチで形成されている。以下、
動作について直切する。
略図で、１は所定のピッチでマークが形成された６１１
１定用のマスク、２はＶ−ザ干渉計によって位置＋１＋
１」仰されるＸ−Ｙステージ、３は口ｉ＋ ｇｔ ｘ
−Ｙステージ２上に設けられ測定用のマスク１より投影
されるマークを検出するためのセンサ、４は縮小率１／
Ｎ１ の幅小レンズ、５はウェハｇｔｉｉ台である。ま
た第２凶は測定用のマスク１の一しリを示す上聞図で、
マークかΔＸ、ΔＹのピッチで形成されている。以下、
動作について直切する。
まず、測定用のマスクＩ ＹＸ−Ｙステージ２上に投影
する。次に、投影されたマークのうち一点７基早点とし
、その位Ｕ＋￥′ｆ！：センサ３か検出するようにＸ−
Ｙステージ２を移動させる。この基準点の同曲の各マー
クについては、理論的に縮小レンズ４の縮小率か１／Ｍ
であるため、１／Ｍ ΔＸ間隔および１／Ｍ ΔＹｌｖ
ｌ＠で投影されているはずである。したがって、マーク
をセンサ３によって検出するために、Ｘ−Ｙステージ２
を基準点より、例えは１／ＭΔＸ、１／Ｍ ΔＹのよう
なピッチで移動させ、センサ３によってマークが検出で
きない時は、像歪みか生じている時であり、Ｘ−Ｙステ
ージ２によってその近傍にセンナ３を＃鯛させてマーク
を検出させる。そして、マークを検出した時のセンサ３
の位置座標は記憶され、演算手段（図示せス）に送出さ
れる。他のマークについても基準点よりピッチ送りされ
た位ＴＩ！ｆ座憚を基準として、同体の操作を行うこと
により、ｔｌＬ算手段にはＸ−Ｙステージ２上に投影さ
れた全マークの位置座標か入力される。そして演算手段
は、検出されたマークの位置座標と基準点よりピッチ送
りされた位置座標とを比較して像歪み？算出する。こう
して侍られた像歪みには、Ｘ−Ｙステージ２によるｇ４
差等も含まれるが、これらの誤差は杭計的手法により除
去することかできる。
する。次に、投影されたマークのうち一点７基早点とし
、その位Ｕ＋￥′ｆ！：センサ３か検出するようにＸ−
Ｙステージ２を移動させる。この基準点の同曲の各マー
クについては、理論的に縮小レンズ４の縮小率か１／Ｍ
であるため、１／Ｍ ΔＸ間隔および１／Ｍ ΔＹｌｖ
ｌ＠で投影されているはずである。したがって、マーク
をセンサ３によって検出するために、Ｘ−Ｙステージ２
を基準点より、例えは１／ＭΔＸ、１／Ｍ ΔＹのよう
なピッチで移動させ、センサ３によってマークが検出で
きない時は、像歪みか生じている時であり、Ｘ−Ｙステ
ージ２によってその近傍にセンナ３を＃鯛させてマーク
を検出させる。そして、マークを検出した時のセンサ３
の位置座標は記憶され、演算手段（図示せス）に送出さ
れる。他のマークについても基準点よりピッチ送りされ
た位ＴＩ！ｆ座憚を基準として、同体の操作を行うこと
により、ｔｌＬ算手段にはＸ−Ｙステージ２上に投影さ
れた全マークの位置座標か入力される。そして演算手段
は、検出されたマークの位置座標と基準点よりピッチ送
りされた位置座標とを比較して像歪み？算出する。こう
して侍られた像歪みには、Ｘ−Ｙステージ２によるｇ４
差等も含まれるが、これらの誤差は杭計的手法により除
去することかできる。
なお、上記のようにして求めた像歪みケ考慮して像歪み
によって生じるアライメント用のマークの位置ずれの補
正を行うようにしてもよい。
によって生じるアライメント用のマークの位置ずれの補
正を行うようにしてもよい。
このＪＡＩＩｌＨま以上説明したとおり、Ｄｒ定のピッ
チでマークが形成された測定用のマスクと、その上面に
投影されるマークを検出するためのセンサを有し、／−
ザ干渉計によって位置制卸されるＸ−Ｙステージと、こ
のＸ−Ｙステージ上で検出されるマークの位置座標と理
論値とを比較して隊歪みを算出する演算手段と乞備えた
ので、他の測定装置を会食とせずに、稼歪み乞谷易に、
かつ晶い棺度で計測することができるという効果かある
。
チでマークが形成された測定用のマスクと、その上面に
投影されるマークを検出するためのセンサを有し、／−
ザ干渉計によって位置制卸されるＸ−Ｙステージと、こ
のＸ−Ｙステージ上で検出されるマークの位置座標と理
論値とを比較して隊歪みを算出する演算手段と乞備えた
ので、他の測定装置を会食とせずに、稼歪み乞谷易に、
かつ晶い棺度で計測することができるという効果かある
。
第１図はこの発明の投影露光装置の一実厖例を示す概略
図、第２図は測定用のマスクの一例を示す上面図である
。 図において、１は測定用のマスク、２はＸ−Ｙステージ
、３はセンサである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
図、第２図は測定用のマスクの一例を示す上面図である
。 図において、１は測定用のマスク、２はＸ−Ｙステージ
、３はセンサである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 所定のピッチでマークが形成された測定用のマスクと、
その上面に投影される前記マスクからのマークを検出す
るためのセンサを有し、レーザ干渉計によって位置制御
されるＸ−Ｙステージと、このＸ−Ｙステージ上で検出
されるマークの位置座標と理論値とを比較して像歪みを
算出する演算手段とを備えたことを特徴とする投影露光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60219334A JPS6279621A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60219334A JPS6279621A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6279621A true JPS6279621A (ja) | 1987-04-13 |
Family
ID=16733832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60219334A Pending JPS6279621A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6279621A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100353263C (zh) * | 2003-01-17 | 2007-12-05 | 佳能株式会社 | 弹性部件、弹性部件的制造方法及批量生产方法、成像处理盒及电摄影装置 |
| JP2013239639A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Canon Inc | 露光装置及びその調整方法、パターンのずれの計測方法、並びに、デバイス製造方法 |
-
1985
- 1985-10-02 JP JP60219334A patent/JPS6279621A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100353263C (zh) * | 2003-01-17 | 2007-12-05 | 佳能株式会社 | 弹性部件、弹性部件的制造方法及批量生产方法、成像处理盒及电摄影装置 |
| JP2013239639A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Canon Inc | 露光装置及びその調整方法、パターンのずれの計測方法、並びに、デバイス製造方法 |
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