JPS6282473A - 2次元強度デ−タの等高線描画方式 - Google Patents

2次元強度デ−タの等高線描画方式

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JPS6282473A
JPS6282473A JP60223054A JP22305485A JPS6282473A JP S6282473 A JPS6282473 A JP S6282473A JP 60223054 A JP60223054 A JP 60223054A JP 22305485 A JP22305485 A JP 22305485A JP S6282473 A JPS6282473 A JP S6282473A
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JP
Japan
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data
contour line
contour
rectangle
dimensional intensity
Prior art date
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Pending
Application number
JP60223054A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Odagaki
小田垣 裕二
Masami Hosono
細野 政美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、マトリクス状の2次元強度データを矩形上の
4点のデータの組からなるセル単位で順次読み出して等
高線を描画するのに好適な2次元強度データの等高線描
画方式に関するものである。
〔従来の技術〕
分析装置において得られるマトリクス状の2次元強度デ
ータには、2次元NMR(核磁気共鳴)データや2次元
走査をして得られる温度分布データ、その他様々なデー
タがある。このようなデータを分析するに際して、等高
線図で表現することがその分析の内容によってはきわめ
て有効な場合がある。このような場合、一般には分析装
置によって得られた2次元データを一旦記憶装置に格納
した後、これを順次読み出して等高線を描画している。
この等高線は、例えば等高線の高さと記憶装置から読み
出した個々のデータとを比較し、その高さに最も近い値
のデータを選択してそれらのデータ位置間を結ぶことに
よって等高線を描画するなどの手法が採られる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上述のような従来の手法では、実際には
等高線がデータとデータとの中間の位置を通る場合であ
ってもいずれかのデータ位置で描画されるため、等高線
に歪みが生じ緻密さに欠けることになる。このことは、
結果的に分析精度に悪影響を与えることになる。また、
個々のデータを順次読み出して等高線の高さとの比較を
行う比較処理、その高さに最も近い値のデータを判別し
選択する処理、選択したデータの位置間を線分で結ぶ処
理など多種の処理を行うことがら、処理も難しく複雑に
なるため、データ処理装置としての全体の負荷も多くな
り、処理速度の向上を困難にしている。
本発明は、上記の問題点を解決するものであって、簡単
な処理により、より正確に等高線を描画でき処理速度の
向」:を図ることができる2次元強度データの等高線描
画方式を提供することを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
そのために本発明の2次元強度データの等高線描画方式
は、矩形」二の4点のデータの組からなるセルを順次読
み出して等高線の高さと各データとを比較して等高線が
横断する矩形上の辺上の位置を計算し、該旧算した位置
間を矩形内で結び等高線を描画することを特徴とするも
のである。
〔作用〕
本発明の2次元強度データの等高線描画方式では、矩形
上のデータ群からなるセルを順次読み出し、等高線の高
さと各データとを比較するので、各データが等高線の高
さを越えるか否かによって当該矩形上を等高線が横断す
るか否か、さらに横断する場合にはその辺がどれかを容
易に認、識できると共に、その辺上の横断位置を計算す
ることができる。従って、これらの計算に基づく横断位
置間に線分を発生ずることによってデータの位置だけで
なく任意の位置に等高線を描画することができる。
〔実施例〕
以下、実施例を図面を参照しつつ説明する。
第1図は本発明に係る2次元強度データの等高線描画方
式の1実施例を説明するための図、第2図は2次元強度
データの読み出し処理を説明するための図、第3図はセ
ルの判定パターンを説明するための図、第4図はセル内
の等高線の描画パターンを説明するための図である。
第1図において、1は分析装置、2はデータメモリ、3
は表示線分座標演算器、4は線分発生器、5はグラフィ
ックメモリ、6はグラフインクディスプレイを示す。分
析装置1は、核磁気共鳴装置などの2次元強度データを
得る装置であり、この2次元強度データを格納するのが
データメモリ2である。表示線分座標演算器3は、4点
の矩形上のデータの組からなるセルをデータメモリ2か
ら順次読み出してそれぞれのデータを等高線の高さと比
較し、等高線が横断する矩形上の辺を認識してその辺上
の位置を計算するものであり、線分発生器4は、この計
算した位置間に線分を発生させるものである。
例えば第2図(a)に示すように2次元座標(x。
、yo)、(xIl yo)、・・・・・・、(xn、
y。
)、(xo、y+)、(X+ + ’l+ ) 、・・
・・・・・・・に対応してデータメモリ2に格納された
2次元のデータD。。、D、、、=・==・・、D、l
o、、Do5、D、1、・・・・・・、Dfi4、・・
・・・・・・・、D。、、、Dl、、、・・・・・・D
わがある場合、表示線分座標演算器3は、4点のデータ
DII、D1□、D21.D2゜の組からなるセル毎に
データをデータメモリ2から読み出し、各データと等高
線の高さとを比較する。そして、その比較結果により全
てのデータが等高線の高さを越えている場合、或いはそ
の逆の場合にはそのセル内に等高線は描画されないが、
4点のデータの中に等高線の高さを越えているデータと
越えていないデータがある場合にはそのセル内に等高線
が描画されることになる。そこで、表示線分座標演算器
3は、等高線が描画される場合にはその等高線が横断す
る辺上の位置を求める。すなわち、等高線が横断する位
置は、等高線の高さより低いデータと高いデータを結ぶ
矩形の辺上にあり、第2図(b)に示すようにデータD
2□が等高線の高さを越え(H)、他のデータは等高線
の高さより低い(L)場合には、第2図(alの対応す
るセル部分に示すようにこのデータの位置を含む辺で等
高線が横断することになる。
このように第2図(alに示す全てのデータについてセ
ル毎に順次読み出して同様の処理をし、グラフインクメ
モリ5に書き込んでゆくとグラフィックディスプレイ6
に等高線り、 、h、を出力表示することができる。
ところで、セルの各データと等高線の高さとを比較して
得られるパターンは、第3図に示すように16通りであ
る。そのうち全てのデータが等高線の高さより低いパタ
ーン(0)、或いは高いパターン(F)が先に述べたよ
うに等高線の描画されない場合である。そして残りの1
4のパターンについては、第3図に示すようにそれぞれ
の等高線描画パターンを有することになる。従って、表
示線分座標演算器3及び線分発生器4では、このような
バクーン認識を行うことによって、座標演算を行う辺の
判定や線分発生の認識処理を簡単にすることができる。
例えば、第4図に示すデータDI2とD22のそれぞれ
の位置を結ぶ辺上での等高線が横断する位置P2の座標
(x+□、y2)は、 D22  D+2 により計算される。このようにしてデータDI□とD2
□のそれぞれの位置を結ぶ辺上の横断位置P2(X12
1”lz)及びデータDZIとD22とを結ぶ辺上の位
置P+  (xz、)’+z)が求められると、線分発
生器4は、この位置Pt と位置P2との間に線分を発
生させる。この場合、等高線は一般に曲線となるため、
第4図に示すように単にセルの辺上の等高線横断位置P
、とP2との間を高線ρ。
で結ぶより曲線12やρ3で結ぶ方がより近似度の高い
等高線が得られることになる。この場合、一般に高い方
の点から遠い方、例えば第4図に示すセルの場合にはデ
ータD2□の位置から遠い方すなわちデータDI+に近
い方を通る線分j!2やρ3となる。高等線の曲率は、
第2図(a)に示す等高線り、よりh2のように高い程
大きい。従って、第4図に示すような折れ線による線分
7!2の描画であっても、円弧による線分β3の描画で
あっても、その膨らみ具合は等高線の高さによって調整
すると、より近似度の高い等高線を得ることができる。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、矩形
上の4点のデータの組からなるセル毎にそのセル内に等
高線を描画して合成するので、等高線描画のための各種
処理をパターン化することができ、データの位置以外の
任意の位置を通る等高線を描画できる。また、セル内に
等高線を折れ線や円弧(楕円弧)などの曲線を使って描
画することによって、より近似度の高い等高線を描画す
ることができる。さらには、セル単位で強度データ群を
読み出して等高線横断点を求め線分を発生させる処理を
順次行えばよいので、処理が単純化でき処理速度の向上
を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る2次元強度データの等高線描画方
式の1実施例を説明するための図、第2図は2次元強度
データの読み出し処理を説明するための図、第3図はセ
ルの判定パターンを説明するための図、第4図はセル内
の等高線の描画パターンを説明するための図である。 1・・・分析装置、2・・・データメモリ、3・・・表
示線分座標演算器、4・・・線分発生器、5・・・グラ
フィックメモリ、6・・・グラフィックディスプレイ。 出 願 人  日本電子株式会社 代理人弁理士 阿 部  龍 吉 二:=千Fイ1ヨヨし二↓壬       (b)第3
図 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)マトリクス状の2次元強度データを順次読み出し
    て等高線を描画する2次元強度データの等高線描画方式
    であって、矩形上の4点のデータの組からなるセルを順
    次読み出して等高線の高さと各データとを比較して等高
    線が横断する矩形上の辺上の位置を計算し、該計算した
    位置間を矩形内で結び等高線を描画することを特徴とす
    る2次元強度データの等高線描画方式。
  2. (2)高さに応じて設定した曲率に従って前記計算した
    点間を矩形内で結ぶことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の2次元強度データの等高線描画方式。
  3. (3)等高線の高さを越えるデータのある位置により矩
    形内の等高線の描画パターン化を行うことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の2次元強度データの等高線
    描画方式。
JP60223054A 1985-10-07 1985-10-07 2次元強度デ−タの等高線描画方式 Pending JPS6282473A (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151323A (ja) * 2002-04-22 2009-07-09 Dgs Computer:Kk ディジタル地形図の作成方法及び作成装置
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