JPS6282731U - - Google Patents

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JPS6282731U
JPS6282731U JP1985173767U JP17376785U JPS6282731U JP S6282731 U JPS6282731 U JP S6282731U JP 1985173767 U JP1985173767 U JP 1985173767U JP 17376785 U JP17376785 U JP 17376785U JP S6282731 U JPS6282731 U JP S6282731U
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JP
Japan
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exposure mask
wafer
exposure
gap
holes
Prior art date
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JP1985173767U
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【図面の簡単な説明】
第1図は近接露光形態の露光装置を示す概略断
面図、第2図は露光用マスクに対する3個の貫通
孔の配置説明用平面図、第3図は隙間管理状態を
示す断面図、第4図は真空引き露光形態の露光装
置を示す概略断面図である。第5図イ,ロ,ハは
従来例の間接隙間検出形態による露光装置の隙間
制御説明図である。 2……ホルダー、3……露光用マスク、6……
ウエハ、12……ウエハ昇降機構、M……エアー
マイクロメーター。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 所定のパターンが形成された露光用マスクをホ
    ルダー上に載置すると共に、昇降機構を介して前
    記露光用マスクの下面側にウエハを対応位置させ
    るようにした露光装置において、前記露光用マス
    クに、3個以上の貫通孔を形成すると共に、露光
    用マスクとウエハの隙間を検出するエアーマイク
    ロメーターを前記貫通孔の夫々に接続する一方、
    各エアーマイクロメーターからの隙間検出情報に
    基づいて前記隙間を所定範囲内に収めるように昇
    降制御されるウエハ昇降機構を、それの昇降作用
    部を前記貫通孔近くに対応させて配置してあるこ
    とを特徴とする露光装置。
JP1985173767U 1985-11-12 1985-11-12 Pending JPS6282731U (ja)

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JP1985173767U JPS6282731U (ja) 1985-11-12 1985-11-12

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Publication Number Publication Date
JPS6282731U true JPS6282731U (ja) 1987-05-27

Family

ID=31111535

Family Applications (1)

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JP1985173767U Pending JPS6282731U (ja) 1985-11-12 1985-11-12

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280282A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Union Optical Co Ltd ウェハのキャリブレーション方法及び装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002280282A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Union Optical Co Ltd ウェハのキャリブレーション方法及び装置

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