JPS6285250A - マスク - Google Patents
マスクInfo
- Publication number
- JPS6285250A JPS6285250A JP60225218A JP22521885A JPS6285250A JP S6285250 A JPS6285250 A JP S6285250A JP 60225218 A JP60225218 A JP 60225218A JP 22521885 A JP22521885 A JP 22521885A JP S6285250 A JPS6285250 A JP S6285250A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- frame
- light
- thin film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
レチクルを含むマスクの表面を保護し、直径数十ｐ■以
丁の大きさの傷や塵の転写を防止する機能を有するペリ
クルを設けたマスクの改良である。
丁の大きさの傷や塵の転写を防止する機能を有するペリ
クルを設けたマスクの改良である。
万一、ペリクルに除去不能の塵が付着したり。
修理不濠の傷が付加されたりした場合、その都度ペリク
ルをマスクから取りはずし、か〜る欠陥のないペリクル
を再び取り付ける繁雑を避けるために、あらかじめ、透
光性薄膜を多重に設けておき、最上層の透光性薄膜に欠
陥が発生した場合にはこれを除去して下層の透光性薄膜
を表層として、利用しうるようにしたマスクである。
ルをマスクから取りはずし、か〜る欠陥のないペリクル
を再び取り付ける繁雑を避けるために、あらかじめ、透
光性薄膜を多重に設けておき、最上層の透光性薄膜に欠
陥が発生した場合にはこれを除去して下層の透光性薄膜
を表層として、利用しうるようにしたマスクである。
本発明は、レチクルを含むマスクの表面を保護し、直径
数十μ■以下の大きさの傷や塵の転写を防止する機能を
有するペリクルを設けたマスクの改良に関する。特に、
ペリクルに除去不能の塵が付着したり、修理不老の傷が
付加されたりした場合の取扱を簡略にする改良に関する
。
数十μ■以下の大きさの傷や塵の転写を防止する機能を
有するペリクルを設けたマスクの改良に関する。特に、
ペリクルに除去不能の塵が付着したり、修理不老の傷が
付加されたりした場合の取扱を簡略にする改良に関する
。
半導体装置の製造方法において利用されるリソグラフィ
ー法において、パターン転写技術は必須である。このパ
ターン転写技術において使用されるマスクには、密着し
て露光される通常のコンタクト型マスクと、ステッパを
使用して縮小露光されるレチクルとがある。
ー法において、パターン転写技術は必須である。このパ
ターン転写技術において使用されるマスクには、密着し
て露光される通常のコンタクト型マスクと、ステッパを
使用して縮小露光されるレチクルとがある。
レチクルを使用するにあたっては、この表面に塵が付着
することを防ぎ、傷が付加されることを防ぎ、さらに、
−・定の大きさく例えば直Ｐｆ、５０ｇｍ以下）の塵や
傷が転写されることを防ぐ機能を有するペリクルを、第
４図に示すように、レチクルに取り付けて使用すること
が一般である３図において、ｌはレチクルであり、一般
に石英板上にクロム膜等でパターンが描かれている。２
と３とがペリクルであり、ペリクル？、３は、フレーム
２１．３１と透光性薄膜２２．２３とよりなる。この例
にあっては光は上方から下方に照射されるので５Ｌ方の
ペリクル２の高さは下方ペリクルの高さよりレチクルｌ
の厚さだけ大きくされている。クロム膜等で描かれたパ
ターンが丁度り下の透光性薄膜２２．２３の中央になる
ようにするためである。
することを防ぎ、傷が付加されることを防ぎ、さらに、
−・定の大きさく例えば直Ｐｆ、５０ｇｍ以下）の塵や
傷が転写されることを防ぐ機能を有するペリクルを、第
４図に示すように、レチクルに取り付けて使用すること
が一般である３図において、ｌはレチクルであり、一般
に石英板上にクロム膜等でパターンが描かれている。２
と３とがペリクルであり、ペリクル？、３は、フレーム
２１．３１と透光性薄膜２２．２３とよりなる。この例
にあっては光は上方から下方に照射されるので５Ｌ方の
ペリクル２の高さは下方ペリクルの高さよりレチクルｌ
の厚さだけ大きくされている。クロム膜等で描かれたパ
ターンが丁度り下の透光性薄膜２２．２３の中央になる
ようにするためである。
なお、一定の大きさく例えば直径５０鉢−以下）の塵や
傷が転写されることが防止しうる理由は、パターン縮小
機能を前提としているレチクルにおいては平行光は使用
されず、図に矢印をもって示すように、レチクルのパタ
ーンがレジスト面で結像されるようにされているので、
レチクルの面と離隔している透光性薄膜面に存在する塵
や傷等はレジスト面でｌ−ｉ ＆’ｉ Ｒｌ、ないこと
による。
傷が転写されることが防止しうる理由は、パターン縮小
機能を前提としているレチクルにおいては平行光は使用
されず、図に矢印をもって示すように、レチクルのパタ
ーンがレジスト面で結像されるようにされているので、
レチクルの面と離隔している透光性薄膜面に存在する塵
や傷等はレジスト面でｌ−ｉ ＆’ｉ Ｒｌ、ないこと
による。
ペリクル紮レチクルに取り伺けるには、ペリクルのフレ
ーム２１．３１の下面（透光性薄膜２２．２３の付加さ
れている側と反対の側）に取り伺けられている両面テー
プをもってレチクルｌの−Ｌ下面の所望の位置に貼着す
る。なお、Ｌ面に貼着するペリクル２と下面に貼着する
ペリクル３とはそのフレート２１．３１の高さが異なる
ことは上記のとおりである。
ーム２１．３１の下面（透光性薄膜２２．２３の付加さ
れている側と反対の側）に取り伺けられている両面テー
プをもってレチクルｌの−Ｌ下面の所望の位置に貼着す
る。なお、Ｌ面に貼着するペリクル２と下面に貼着する
ペリクル３とはそのフレート２１．３１の高さが異なる
ことは上記のとおりである。
そして、−１ルチ−クルに取り付けられた後は、ペリク
ルが取り外されることはない。
ルが取り外されることはない。
Ｌ記した従来技術に係るペリクル付きのマスクには、上
記の問題点がある。
記の問題点がある。
十分注意して取り扱われるか、ペリクルの透光性Ｑ膜面
に傷が付加されるおそれがある。また、クリーンルーム
中でのみ取り扱われるが、ペリクルの透光性薄膜面に大
きさが一定以上（例えば直径５０ｗ厘以−１）であり除
去不ず彪の塵が付着するおそれがある。このような場合
は、その都度ペリクルをレチクルから取りはずし、欠陥
のないペリクルを再び取り付けなければならず川だ繁雑
である。
に傷が付加されるおそれがある。また、クリーンルーム
中でのみ取り扱われるが、ペリクルの透光性薄膜面に大
きさが一定以上（例えば直径５０ｗ厘以−１）であり除
去不ず彪の塵が付着するおそれがある。このような場合
は、その都度ペリクルをレチクルから取りはずし、欠陥
のないペリクルを再び取り付けなければならず川だ繁雑
である。
本発明はこの欠点を解消することにあり、上記のように
、ペリクルの透光性薄膜面に傷が付加された場合、及び
／または、ペリクルの透光性薄膜面に大きさが一定以［
−（例えば直径５０ｇ■以ト）であり除去不能の塵が付
着した場合でも、その都度ペリクルの取り換えを必要と
せず取扱が簡略であるマスクを提供することにある。
、ペリクルの透光性薄膜面に傷が付加された場合、及び
／または、ペリクルの透光性薄膜面に大きさが一定以［
−（例えば直径５０ｇ■以ト）であり除去不能の塵が付
着した場合でも、その都度ペリクルの取り換えを必要と
せず取扱が簡略であるマスクを提供することにある。
■−記の目的を達成するために本発明が採った１段は、
透光性薄膜を複数枚、ケいに僅かな間隔をおいてお−む
ね平行にｆ面状にＪｉｕ’ｔするようにフレームに増り
付けることとしたことにある。
透光性薄膜を複数枚、ケいに僅かな間隔をおいてお−む
ね平行にｆ面状にＪｉｕ’ｔするようにフレームに増り
付けることとしたことにある。
上記の欠点は、ペリクルの透光性薄膜が交換不能であり
、しかも、ペリクルのレチクルに対する取り付は取りは
ずしか容易でないという性質に起因するのであるから、
透光性薄膜を多重にしておけば、必要に応じて上層のみ
光性薄膜を破棄して下層の透光性薄膜を表層として使用
することができ、上記の欠点が解消することは明らかで
ある。
、しかも、ペリクルのレチクルに対する取り付は取りは
ずしか容易でないという性質に起因するのであるから、
透光性薄膜を多重にしておけば、必要に応じて上層のみ
光性薄膜を破棄して下層の透光性薄膜を表層として使用
することができ、上記の欠点が解消することは明らかで
ある。
以下、図面を参照しつ一１本発明の一実施例に係るペリ
クルについてさらに説明する。
クルについてさらに説明する。
第２図参照
１辺の長さが約１００ｍ鵬の四角形をなし、高さが約６
１園である箱状フレーム４１を形成する。そのフＬ／−
ム４１の縁のＬ面にニトロセルローズ等ノフィルムより
なる第１層透光性ｆＪｊ膜４２を張る。
１園である箱状フレーム４１を形成する。そのフＬ／−
ム４１の縁のＬ面にニトロセルローズ等ノフィルムより
なる第１層透光性ｆＪｊ膜４２を張る。
第３図参照
ｈ 記のフレーム４１の縁の上に、上記フレーム４１と
同一形状であるが高さが約４鳳■の第２のフレーム４３
ヲｆｉねて貼着する。その：５２のフレーム４３の縁の
１−面にニトロセルローズ等のフィルムよりなる第２層
透光性薄膜４４を張る。
同一形状であるが高さが約４鳳■の第２のフレーム４３
ヲｆｉねて貼着する。その：５２のフレーム４３の縁の
１−面にニトロセルローズ等のフィルムよりなる第２層
透光性薄膜４４を張る。
第１図参照
以上の工程を所望の回ａ繰り返して、所望の層数の多重
のペリクル４を製造する。
のペリクル４を製造する。
以上のＬ程をもって製造されたペリクル４は、透光性ｇ
ｊ膜４２．４４が多毛であるから、ペリクル４の透光性
薄膜４２．４４の面に傷が付加された場合、及び／また
は、ペリクル４の透光性薄Ｗｇ４２．４４の面に大きさ
が一定以−１−であり除去不能の塵が付着した場合でも
、最上の層の透光性薄膜（この例においては４４）を破
って、その直下の層の透光性薄膜（この例においては４
２）を使用すればよいから、ペリクル４の取り換えを必
要としない。
ｊ膜４２．４４が多毛であるから、ペリクル４の透光性
薄膜４２．４４の面に傷が付加された場合、及び／また
は、ペリクル４の透光性薄Ｗｇ４２．４４の面に大きさ
が一定以−１−であり除去不能の塵が付着した場合でも
、最上の層の透光性薄膜（この例においては４４）を破
って、その直下の層の透光性薄膜（この例においては４
２）を使用すればよいから、ペリクル４の取り換えを必
要としない。
以上説明せるとおり、本発明に係るマスクは透光性薄膜
が多重とされているので、ペリクルの透光性薄膜面に傷
が付加された場合、及び／または、ペリクルの透光性薄
膜面に大きさが一定以上であり除去不能の塵が＋ｔ Ｒ
した場合、ペリクルの取り換えを必要としない。
が多重とされているので、ペリクルの透光性薄膜面に傷
が付加された場合、及び／または、ペリクルの透光性薄
膜面に大きさが一定以上であり除去不能の塵が＋ｔ Ｒ
した場合、ペリクルの取り換えを必要としない。
第１図は、本発明の一実施例に係るペリクルの断面図で
ある。 第２．３図は、本発明の一実施例に係るペリクルの製造
下程図である。 第４図は、従来技術に係るペリクルの使用状通説【！１
図である。 − １・・・レチクル、２．３−・・従来技術に係るペリク
ル、 ２１．３１・・・従来技術に係るペリクルのフレ
ーム、 ２２．２３１１・・透光性薄膜、４１・本発明
の一実施例に係るペリクル、４１−−Φ第１層フレーム
、 ４２＃−か第１層透光性薄膜、 ４３・争・第２
層フレーム、 ４４・―Φ第第２透透光性薄咬
ある。 第２．３図は、本発明の一実施例に係るペリクルの製造
下程図である。 第４図は、従来技術に係るペリクルの使用状通説【！１
図である。 − １・・・レチクル、２．３−・・従来技術に係るペリク
ル、 ２１．３１・・・従来技術に係るペリクルのフレ
ーム、 ２２．２３１１・・透光性薄膜、４１・本発明
の一実施例に係るペリクル、４１−−Φ第１層フレーム
、 ４２＃−か第１層透光性薄膜、 ４３・争・第２
層フレーム、 ４４・―Φ第第２透透光性薄咬
Claims (1)
- 少なくとも２枚の透光性薄膜（４２）、（４４）が、僅
少な間隔を隔てて相互に離隔して平面状に展延されるよ
うにフレーム（４１）、（４３）に取り付けられてなる
ペリクルを有することを特徴とするマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225218A JPS6285250A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60225218A JPS6285250A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6285250A true JPS6285250A (ja) | 1987-04-18 |
Family
ID=16825837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60225218A Pending JPS6285250A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6285250A (ja) |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP60225218A patent/JPS6285250A/ja active Pending
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