JPS61193151A - ペリクル枠の構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 縮小投影露光法において、レチクル保護のため用いられ
るペリクル枠の構造を二分割することにより、不良発生
時ペリクル枠を容易に取り外し再使用可能とした。

〔産業上の利用分野〕

光を用いてウェハー上のレジストにパターンを露光する
方法として、マスクを直接密着させて露光する方法、あ
るいは近接露光法の他、投影露光法がある。

投影露光法にも１：１の露光よりも最近は高集積化によ
る微細加工の要求により５：１．１０：１等の縮小投影
露光法が用いられる。

縮小投影露光法の場合、実際のウェハー上のパターン寸
法の５倍、あるいは１０倍のクロームパターンをガラス
板上に被着した、所謂、レチクルと称せられるマスクを
用いる。

本発明は、このレチクルにゴミ付着することによる、ウ
ェハー露光工程での不良発生防止用に用いられるペリク
ル構造の改良に関する。

〔従来の技術〕

従来の技術による縮小投影露光装置の一例を第２図に示
す。

一般に縮小投影露光法によってウェハー上に投影出来る
面積は２０　Ｘ　２Ｏｎ＋ｍ程度であり、４．５インチ
程度の大きい面積のウェハー面の全面を露光するために
は、ステップアンドリピート法によりウェハーを固定し
ている移動台１４をｘ、ｙ方向に機械的に精密に移動さ
せて繰り返し露光することになる。

この場合レチクル３の上には５倍、あるいは１０倍のパ
ターンが描かれ、通常、複数個のチップパターンが描か
れている。第３図では６個のチップパターンの場合を示
す。

このレチクルは、大量に生産されるウェハー露光に何回
も使用されることになるが、工程の途中におけるゴミ付
着はクリールルーム内といえども避けることが出来ない
。

これを防止するためペリクルと呼ばれる保護膜が用いら
れる。ペリクル構造を用いた投影露光法の原理図を第４
図に示す。

ペリクルは、レチクル３の上下に一対として用いられ、
それぞれペリクル枠１とペリクル枠の端面に張られたペ
リクル膜２よりなる。ペリクル膜２はニトロセルローズ
材よりなる非常に薄い光透過率の良い薄膜より成ってい
る。

ペリクルのない場合、レチクル面上のゴミＡばその侭レ
ンズにより縮小されてウェハー上に焦点Ｂを結び（第４
図（ａｌ）、露光パターンの傷となる。

ペリクル膜２で保護され、ペリクル膜の上に付着したゴ
ミＡは、レチクル面３より隔離されているため、ウェハ
ー上では結像しないのでパターン像としては残らない（
第４図（ｂ））。

ペリクル膜上のゴミはエアーブロー、あるいは洗浄も可
能である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記に述べた、従来の技術による方法では、レチクル３
にペリクル枠ｌを張りつけた後、精密なるパターンの検
査が行われ、パターン不良が発見されたときペリクルの
救済が困難であった。

これらの不良はレチクルに描かれた原図パターン自体の
欠陥の場合もあり、ペリクルを張りつける前にレチクル
に付着したゴミに起因する場合もある。

何れの場合も、一度レチクルにペリクル枠を固定した後
、レチクル面で欠陥が発見され検査不合格となると、ペ
リクル枠は接着剤で強くレチクルに固定されているため
、薄いペリクル膜２を傷つけずに剥がすことは極めて困
難である。

現状では殆どペリクルを破棄せざるを得ない。

そのため非常に高価なペリクルを犠牲にせざるを得ない
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点は、第１図に示すごとくペリクル枠を内外二
層の枠構造１．５に分割することにより解決される。

即ち、ペリクル膜２を張りつけたペリクル枠１と、もう
一方のレチクル３に固定するペリクル枠５を準備する。

ペリクル枠５の外周には、ゴムまたはプラスチックより
なる緩衝膜６を備え、ペリクル枠１をペリクル枠５に挿
入、嵌合させて、固定する構造となっている。

〔作用〕

ペリクル枠を二分割して、内外二層の枠構造１゜５とす
ることにより、レチクル部に欠陥が発見され、修理を必
要とするとき、ペリクル枠は内外二層の嵌合構造のため
１、容易にペリクル膜を張りつけたペリクル枠１を取り
外すことが出来る。

また、取り外したペリクル枠は、再使用可能である。

〔実施例〕

本発明による一実施例を第１図により詳細説明する。

ペリクル枠は二つの部分に分かれ、ペリクル枠１はその
端面にペリクル膜２を張りつめである。

ペリクル膜は従来と同様にニトロセルローズによる１μ
ｍ以下の薄い膜が高精度の膜厚、平面度をもって端面に
張りつけられている。

ペリクル枠１は、その内側のペリクル枠５と、５の外周
に設けられたゴム、またはプラスチックよりなる緩衝膜
６を介して挿入嵌合される。

ペリクル枠１の高さを５より大きく選び、且つ端面の精
度を上げることにより、ペリクル膜面２はレチクル３に
対して平行平面として形成される。

レチクル面の上下両面に対して、上記ペリクル枠を取り
つけることにより、レチクル面の保護構造とする。

上記レチクルを投影露光法により検査用ウェハーを用い
て欠陥の検査を行って、不合格と判定された時は、外側
のペリクル枠１を回転させなが引っ張ることにより容易
にペリクル枠５より取り外しが可能である。

取り外したペリクル枠は、再使用可能となる。

〔発明の効果〕

以上に説明せるごとく、ペリクル枠を内外二層の構成部
品に分割することにより、レチクル面でパターンの欠陥
、あるいはゴミが発見されたとき、高価なペリクル枠の
回収が容易となり、コスト削減に寄与する所大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかわるペリクル枠部の構造断面図、 第２図は縮小投影露光装置の斜視図、 第３図はレチクルおよびウェハー上のパターン、 第４図はべりタルの効果を示す原理図、を示す。 図面において、 ■、５はペリクル枠、 ２はベリタル膜、 ３はレチクル、 ４はウェハー、 ６は緩衝膜、 １１は光源、 １２はレンズ、 １３は縮小レンズ、 １４は移動台、 をそれぞれ示す。 オ擢１’／Ｌ−よう′（リフル苓千４驚ｒ鉦第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　内外二層のペリクル枠により構成され、 該二層のペリクル枠の第１のペリクル枠（５）の一端面
   は、レチクル（３）に接着され、 該ペリクル枠（５）の外周はゴムまたはプラスチックよ
   りなる緩衝膜（６）を備え、 第２のペリクル枠（１）の一端面は、ペリクル膜（２）
   を張りつめ、前記第１のペリクル枠の緩衝膜（６）の外
   側に嵌合させることにより、一体化する構造を特徴とす
   るペリクル枠の構造。