JPS6286821A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS6286821A JPS6286821A JP60228096A JP22809685A JPS6286821A JP S6286821 A JPS6286821 A JP S6286821A JP 60228096 A JP60228096 A JP 60228096A JP 22809685 A JP22809685 A JP 22809685A JP S6286821 A JPS6286821 A JP S6286821A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- masks
- wafer
- semiconductor manufacturing
- pellets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置に関し、特に露光装置に関する
。
。
従来、この種の露光装置は第４図（ａ）に示すように、
１種類のマスクパターン１５が形成された１枚のマスク
１１或いは第４図（ｂ）に示すように数種類のマスクツ
クターン１５〜１８が形成された１枚のマスク２１を使
用し、第２図に示すように同一ウエーノ・４１上に数種
類のマスク・母ターン１５〜１８を転写露光するか、或
いは第５図に示すように１種類のマスクツクターン１５
を複数転写露光していた。ウェーハ４１に転写露光され
たマスク・ぐターン部分にそれぞれ被レットが形成され
る。
１種類のマスクパターン１５が形成された１枚のマスク
１１或いは第４図（ｂ）に示すように数種類のマスクツ
クターン１５〜１８が形成された１枚のマスク２１を使
用し、第２図に示すように同一ウエーノ・４１上に数種
類のマスク・母ターン１５〜１８を転写露光するか、或
いは第５図に示すように１種類のマスクツクターン１５
を複数転写露光していた。ウェーハ４１に転写露光され
たマスク・ぐターン部分にそれぞれ被レットが形成され
る。
第５図に示す１種類のベレノ）ｎ＋による生産方法は、
少品種を多量に生産する少品種多量生産においては非常
に効率的な生産方法であった。しかし、多品種を少量生
産する多品種少量生産では必ずしも得策とは言えない。
少品種を多量に生産する少品種多量生産においては非常
に効率的な生産方法であった。しかし、多品種を少量生
産する多品種少量生産では必ずしも得策とは言えない。
拡散層および配線層゛を形成するウェーハの前処理工程
は、同一種類のウェーハの枚数が多い程生産効率は向上
する。したがって、１種類のペレットの配列により構成
されたウェーハによる生産方法は、多品種少量生産の場
合、同一種類のウェーノ・の枚数が少なくなり生産効率
が低下するという問題点があった。
は、同一種類のウェーハの枚数が多い程生産効率は向上
する。したがって、１種類のペレットの配列により構成
されたウェーハによる生産方法は、多品種少量生産の場
合、同一種類のウェーノ・の枚数が少なくなり生産効率
が低下するという問題点があった。
多品種少量生産において同一種類のウェーハの枚数を増
加する一方法として、第２図に示す様に数種類のベレノ
） ｎ１〜ｎ４の配列により構成されたウェーハによる
生産方法が考えられる。
加する一方法として、第２図に示す様に数種類のベレノ
） ｎ１〜ｎ４の配列により構成されたウェーハによる
生産方法が考えられる。
この場合使用するマスクは従来第４図（ｂ）に示すよう
に１枚のマスク上に数種類のマスクツやターンが形成さ
れていたため、各マスクツ母ターンの組み合わせは固定
であり、任意に変化することは不可能であった。
に１枚のマスク上に数種類のマスクツやターンが形成さ
れていたため、各マスクツ母ターンの組み合わせは固定
であり、任意に変化することは不可能であった。
本発明は前記問題点を解消し、マスク・ぐターンの組合
せに自由度をもたせてこの組合せのマスクパターンを同
一ウェーハに転写露光する半導体製造装置を提供するも
のである。
せに自由度をもたせてこの組合せのマスクパターンを同
一ウェーハに転写露光する半導体製造装置を提供するも
のである。
本発明は複数のマスクパターンを同一ウェーハ上に繰り
返し転写露光する半導体製造装置において、それぞれ個
別に１種類のマスクパターンを形成した複数枚のマスク
と、該複数枚のマスクを支持するマスク支持台と、該マ
スク支持台に支持された複数枚のマスクの中から特定の
１枚のマスクを選定し該特定のマスクを前記マスク支持
台により転写露光用の光学系に切替えて設置するマスク
制御部とを有することを特徴とする半導体製造装置であ
る。
返し転写露光する半導体製造装置において、それぞれ個
別に１種類のマスクパターンを形成した複数枚のマスク
と、該複数枚のマスクを支持するマスク支持台と、該マ
スク支持台に支持された複数枚のマスクの中から特定の
１枚のマスクを選定し該特定のマスクを前記マスク支持
台により転写露光用の光学系に切替えて設置するマスク
制御部とを有することを特徴とする半導体製造装置であ
る。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、本実施例は光源１９と、光学系２０と
、ウェーハ駆動機構６０と、それぞれ個別に１種類のマ
スクツ４ターン１５〜１８ヲ形成した複数枚のマスク１
１〜１４を同一円周上に支持するマスク支持台６１と、
マスク支持台６１を必要な角度回転させることにより特
定の１枚のマスクを選定し該特定のマスクを光学系２０
間に切替えて設置するマスク制御部２１とを有するもの
である。ここで、各マスクには外形形状及び寸法を統一
してマスク・ぐターンが形成される。またマスク支持台
６１に装着されている各マスク１１〜１４はベースライ
ンオフセット機構６２によシあらかじめウェーハとベー
スラインオフセットを行った後、露光作動に移る。露光
作業はマスク制御部２１によりマスク支持台６１ヲ必要
な角度だけ回転させることにより、マスク支持台６１に
装着されたマスクの中から必要なマスクを選定する。マ
スクの選定とウェーハ駆動方法の組合せを選ぶことによ
シウェーハ上のベレットの配列は例えば第２図および第
３図の様に変化させることができる。第２図はｎｌ、ｎ
２．ｎ３およびｎ４の４種類のベレットが繰り返し配列
されている場合を示し、第３図はＪ、ｎ２およびｎ３の
３種類のベレットが１列ごとに繰り返されている場合を
示す。
、ウェーハ駆動機構６０と、それぞれ個別に１種類のマ
スクツ４ターン１５〜１８ヲ形成した複数枚のマスク１
１〜１４を同一円周上に支持するマスク支持台６１と、
マスク支持台６１を必要な角度回転させることにより特
定の１枚のマスクを選定し該特定のマスクを光学系２０
間に切替えて設置するマスク制御部２１とを有するもの
である。ここで、各マスクには外形形状及び寸法を統一
してマスク・ぐターンが形成される。またマスク支持台
６１に装着されている各マスク１１〜１４はベースライ
ンオフセット機構６２によシあらかじめウェーハとベー
スラインオフセットを行った後、露光作動に移る。露光
作業はマスク制御部２１によりマスク支持台６１ヲ必要
な角度だけ回転させることにより、マスク支持台６１に
装着されたマスクの中から必要なマスクを選定する。マ
スクの選定とウェーハ駆動方法の組合せを選ぶことによ
シウェーハ上のベレットの配列は例えば第２図および第
３図の様に変化させることができる。第２図はｎｌ、ｎ
２．ｎ３およびｎ４の４種類のベレットが繰り返し配列
されている場合を示し、第３図はＪ、ｎ２およびｎ３の
３種類のベレットが１列ごとに繰り返されている場合を
示す。
以上説明したように本発明は、複数枚のマスクを使用し
マスクの選定とウェーハ、駆動方法の組合せを選ぶこと
により、１枚のウェーハ上に数種類の波レットを構成し
、任意にその組み合わせを変化することができ、したが
って１枚のウェーハ上に数種類のベレットが配列された
多品種少量生産においてその効果は大きい。
マスクの選定とウェーハ、駆動方法の組合せを選ぶこと
により、１枚のウェーハ上に数種類の波レットを構成し
、任意にその組み合わせを変化することができ、したが
って１枚のウェーハ上に数種類のベレットが配列された
多品種少量生産においてその効果は大きい。
又、マスク支持台に装着されたマスクの中から１種類の
マスクだけを選定することにより、１枚のウェーハ上の
ベレットを１種類とし少品種多量生産に対応できる効果
を有するものである。
マスクだけを選定することにより、１枚のウェーハ上の
ベレットを１種類とし少品種多量生産に対応できる効果
を有するものである。
第１図は本発明の露光装置を示す図、第２図、第３図お
よび第５図はにレットの配列を示すウェーハの平面図、
第４図は従来のマスクの平面図である。 １１．１２，１３．１４・・・マスク、１５．１６，１
７．１８・・・マスクツ母ターン、１９・・・光源、２
０・・・光学系、２１・・・マスク制御部、４１・・・
ウェーハ、６０・・・ウェーハ駆動機構、６１・・・マ
スク支持台、６２・・・ベースラインオフセット機構。 特許出願人 日本電気株式会社 ％１図 第２図 第３図 （α） （ｂ） 第４図
よび第５図はにレットの配列を示すウェーハの平面図、
第４図は従来のマスクの平面図である。 １１．１２，１３．１４・・・マスク、１５．１６，１
７．１８・・・マスクツ母ターン、１９・・・光源、２
０・・・光学系、２１・・・マスク制御部、４１・・・
ウェーハ、６０・・・ウェーハ駆動機構、６１・・・マ
スク支持台、６２・・・ベースラインオフセット機構。 特許出願人 日本電気株式会社 ％１図 第２図 第３図 （α） （ｂ） 第４図
Claims (1)
- （１）複数のマスクパターンを同一ウェーハ上に繰り返
し転写露光する半導体製造装置において、それぞれ個別
に１種類のマスクパターンを形成した複数枚のマスクと
、該複数枚のマスクを支持するマスク支持台と、該マス
ク支持台に支持された複数枚のマスクの中から特定の１
枚のマスクを選定し該特定のマスクを前記マスク支持台
により転写露光用の光学系に切替えて設置するマスク制
御部を有することを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228096A JPS6286821A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228096A JPS6286821A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286821A true JPS6286821A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=16871122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60228096A Pending JPS6286821A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286821A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211622A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-09-02 | Yokogawa Hewlett Packard Ltd | マルチレベル・レチクル |
| JPH0223606A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP60228096A patent/JPS6286821A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211622A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-09-02 | Yokogawa Hewlett Packard Ltd | マルチレベル・レチクル |
| JPH0223606A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Fujitsu Ltd | レチクル移動交換機 |
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