JPS6288009A - 平面の角度合わせ装置 - Google Patents
平面の角度合わせ装置Info
- Publication number
- JPS6288009A JPS6288009A JP22810385A JP22810385A JPS6288009A JP S6288009 A JPS6288009 A JP S6288009A JP 22810385 A JP22810385 A JP 22810385A JP 22810385 A JP22810385 A JP 22810385A JP S6288009 A JPS6288009 A JP S6288009A
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- Japan
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- stage
- inclination
- piezoelectric elements
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
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- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は平面の角度合わせ装置、さらに詳しくは、干渉
計における参照鏡と検査面との角度合わせ、半導体ウェ
ハの加工工程における平面出し、顕微鏡観察における試
料の平行出し等角度の微調整が必要な分野において利用
される平面の角度合わせ装置に関するものである。
計における参照鏡と検査面との角度合わせ、半導体ウェ
ハの加工工程における平面出し、顕微鏡観察における試
料の平行出し等角度の微調整が必要な分野において利用
される平面の角度合わせ装置に関するものである。
［背景技術Ｊ
従来、平面の角度合わせにはステージを３．α支持し、
１点を支持するとともに、残りの２点をねじで上下移動
自在とすることによりステージの傾斜向きと傾斜量とを
設定していた。しかしながら、ねじによる高さ調節では
高い精度が得られず、また設定に時間がかかるという問
題があった。
１点を支持するとともに、残りの２点をねじで上下移動
自在とすることによりステージの傾斜向きと傾斜量とを
設定していた。しかしながら、ねじによる高さ調節では
高い精度が得られず、また設定に時間がかかるという問
題があった。
すなわち、第３図に示すような干渉計は、光源であるレ
ーザ２０からの光線束をビームスプリッタ−２１で透過
光と反射光とに分解し、透過光を平面鏡である参照鏡２
２で反射させてその反射光をビームスプリッタ−２１で
再反射させ、また反射光を試料２３の表面で反射させて
その反射光をビームスプリッタ−２１を透過させ、参照
鏡２２での反射光と試料２３表面での反射光との光路差
に起因した干渉縞をテレビカメラ等のモこ夕２４で観測
することにより試料２３の表面状態を検査することがで
きるようになっている。このような干渉計では、レーザ
２０としてたとえばＨｅ Ｎｅレーザが用いられるが
、その出力波長λは０．６３２８μｍであり、干渉縞が
１０本できるとすれば、光路差が１０×λ／２＃３μｍ
であることが分かるのである。しかるに、試料２３が載
せられるステージは光路差が無くなるようにその傾斜を
調節する必要があるが、このような微少な光路差を調節
するのは従来のようなねじ調節では非常に難しく、高度
な技術を有するものであった。
ーザ２０からの光線束をビームスプリッタ−２１で透過
光と反射光とに分解し、透過光を平面鏡である参照鏡２
２で反射させてその反射光をビームスプリッタ−２１で
再反射させ、また反射光を試料２３の表面で反射させて
その反射光をビームスプリッタ−２１を透過させ、参照
鏡２２での反射光と試料２３表面での反射光との光路差
に起因した干渉縞をテレビカメラ等のモこ夕２４で観測
することにより試料２３の表面状態を検査することがで
きるようになっている。このような干渉計では、レーザ
２０としてたとえばＨｅ Ｎｅレーザが用いられるが
、その出力波長λは０．６３２８μｍであり、干渉縞が
１０本できるとすれば、光路差が１０×λ／２＃３μｍ
であることが分かるのである。しかるに、試料２３が載
せられるステージは光路差が無くなるようにその傾斜を
調節する必要があるが、このような微少な光路差を調節
するのは従来のようなねじ調節では非常に難しく、高度
な技術を有するものであった。
［発明の目的１
本発明は上述の点に鑑みて為されたものであって、その
主な目的とするところは、干渉計や顕微鏡等における平
面の角度合わせを容易にした平面の角度合わせ装置を提
供することにある。
主な目的とするところは、干渉計や顕微鏡等における平
面の角度合わせを容易にした平面の角度合わせ装置を提
供することにある。
［発明の開示］
（実施例）
第１図に示すように、平板状の基台１上に印加電圧に呼
応してそれぞれ上下方向に伸縮する柱状の３個のピエゾ
素子２が配設されている。ピエゾ素子２上にはすべての
ピエゾ索子２に跨がる形で角度設定用の平板状のステー
ジ３が載置される。
応してそれぞれ上下方向に伸縮する柱状の３個のピエゾ
素子２が配設されている。ピエゾ素子２上にはすべての
ピエゾ索子２に跨がる形で角度設定用の平板状のステー
ジ３が載置される。
ピエゾ素子２は制御回路４の出力電圧により伸縮を制御
されるのであって、制御回路４は制御パターン発生回路
５と、制御パターン発生回路５の出力信号に呼応して各
ピエゾ索子２への印加電圧をそれぞれ発生させる３個の
高圧電源回路６とから構成される。制御パターン発生回
路５は、第２図に示すように、ステー７３の傾斜向き（
Ｒ大傾斜部分において下向きを傾斜向きとする）を所定
の周期で回転させながら（鋸歯状のパターンとなる）、
その傾斜角度を回転周側よりも十分に長い時間で次第に
小さくする（対数関数的に減衰する）ような制御パター
ンを発生させる傾斜制御部と、停止信号が入力されたと
きにステージ３をその傾斜位置で停止させる停止割込部
とを備えている。つまり、傾斜向きをあらゆる向きに変
化させながら、傾斜角度を調節し、ステージ３の傾斜位
置が所望の設定状態になると停止信号により、その傾斜
位置でステージ３を停止させるようになっているのであ
る。ここで、干渉計であれば、干渉縞のパターンをテレ
ビカメラで撮影するとともに、そのパターンをａ察し、
干渉縞が生じる位置で手動で停止信号を発生させればよ
いものであり、またテレビカメラの出力をコンピュータ
でパターン認識することにより、停止信号を自動的に発
生させるようにしてもよい。干渉計以外の装置に用いる
場合には、その装置に合わせて停止信号を発生させれば
よい。
されるのであって、制御回路４は制御パターン発生回路
５と、制御パターン発生回路５の出力信号に呼応して各
ピエゾ索子２への印加電圧をそれぞれ発生させる３個の
高圧電源回路６とから構成される。制御パターン発生回
路５は、第２図に示すように、ステー７３の傾斜向き（
Ｒ大傾斜部分において下向きを傾斜向きとする）を所定
の周期で回転させながら（鋸歯状のパターンとなる）、
その傾斜角度を回転周側よりも十分に長い時間で次第に
小さくする（対数関数的に減衰する）ような制御パター
ンを発生させる傾斜制御部と、停止信号が入力されたと
きにステージ３をその傾斜位置で停止させる停止割込部
とを備えている。つまり、傾斜向きをあらゆる向きに変
化させながら、傾斜角度を調節し、ステージ３の傾斜位
置が所望の設定状態になると停止信号により、その傾斜
位置でステージ３を停止させるようになっているのであ
る。ここで、干渉計であれば、干渉縞のパターンをテレ
ビカメラで撮影するとともに、そのパターンをａ察し、
干渉縞が生じる位置で手動で停止信号を発生させればよ
いものであり、またテレビカメラの出力をコンピュータ
でパターン認識することにより、停止信号を自動的に発
生させるようにしてもよい。干渉計以外の装置に用いる
場合には、その装置に合わせて停止信号を発生させれば
よい。
なお、上述の例ではステー７３の傾斜向きを回転させな
がら傾斜角度を小さくすることにより、あらゆる傾斜位
置を取りうるようにしているが、ステージ３を移動させ
るパターンはあらゆる傾斜位置を取りうるならば他のパ
ターンでもよいのは勿論のことである。
がら傾斜角度を小さくすることにより、あらゆる傾斜位
置を取りうるようにしているが、ステージ３を移動させ
るパターンはあらゆる傾斜位置を取りうるならば他のパ
ターンでもよいのは勿論のことである。
［発明の効果］
本発明は上述のように、基台上に配設され印加電圧に呼
応してそれぞれ上下方向に伸縮する複数のピエゾ素子と
、上記複数のピエゾ素子上に跨がる形で載設された平板
状のステージと、各ピエゾ素子への印加電圧を制御する
制御回路とから成り、制御回路はステージ上面に立てた
法線の傾斜向きと傾斜角度とを所定のパターンで変化さ
せる傾斜制御部と、所定の停止信号による割り込みがあ
るとステージをその位置で停止させる停止割込部とを備
えているので、ステージが自動的にあらゆる傾斜位置を
とるとともに、所定の傾斜位置で停止信号を発生させる
ことにより、ステージを所望の傾斜位置に設定できるも
のであり、その結果、干渉計や顕ｗｍ＊における平面の
角度合わせが迅速かつ容易にできるという利点を有し、
またピエゾ素子によりステージの傾斜位置を調節してい
るから、ピエゾ素子への印加電圧を７Ｉ４ｆｆｌｉする
ことにより傾斜位置の微調整が可能となり、干渉計等に
おいて傾斜位置を高精度に設定できるという利点を有す
るのである。
応してそれぞれ上下方向に伸縮する複数のピエゾ素子と
、上記複数のピエゾ素子上に跨がる形で載設された平板
状のステージと、各ピエゾ素子への印加電圧を制御する
制御回路とから成り、制御回路はステージ上面に立てた
法線の傾斜向きと傾斜角度とを所定のパターンで変化さ
せる傾斜制御部と、所定の停止信号による割り込みがあ
るとステージをその位置で停止させる停止割込部とを備
えているので、ステージが自動的にあらゆる傾斜位置を
とるとともに、所定の傾斜位置で停止信号を発生させる
ことにより、ステージを所望の傾斜位置に設定できるも
のであり、その結果、干渉計や顕ｗｍ＊における平面の
角度合わせが迅速かつ容易にできるという利点を有し、
またピエゾ素子によりステージの傾斜位置を調節してい
るから、ピエゾ素子への印加電圧を７Ｉ４ｆｆｌｉする
ことにより傾斜位置の微調整が可能となり、干渉計等に
おいて傾斜位置を高精度に設定できるという利点を有す
るのである。
第１図は本発明の一実施例を示す概略構成図、第２図は
同上における制御パターンの一例を示す動作説明図、第
３図は干渉計の一例を示す概略構成図である。 １は基台、２はピエゾ素子、３はステージ、４は制御回
路、５は制御パターン発生回路である。 代理人 弁理士 石 １）長 七 瀉Ｉｖ３ 得正刊 第２図
同上における制御パターンの一例を示す動作説明図、第
３図は干渉計の一例を示す概略構成図である。 １は基台、２はピエゾ素子、３はステージ、４は制御回
路、５は制御パターン発生回路である。 代理人 弁理士 石 １）長 七 瀉Ｉｖ３ 得正刊 第２図
Claims (1)
- （１）基台上に配設され印加電圧に呼応してそれぞれ上
下方向に伸縮する複数のピエゾ素子と、上記複数のピエ
ゾ素子上に跨がる形で載設された平板状のステージと、
各ピエゾ素子への印加電圧を制御する制御回路とから成
り、制御回路はステージ上面に立てた法線の傾斜向きと
傾斜角度とを所定のパターンで変化させる傾斜制御部と
、停止信号による割り込みがあるとステージをその位置
で停止させる停止割込部とを備えて成ることを特徴とす
る平面の角度合わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22810385A JPS6288009A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 平面の角度合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22810385A JPS6288009A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 平面の角度合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288009A true JPS6288009A (ja) | 1987-04-22 |
Family
ID=16871239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22810385A Pending JPS6288009A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 平面の角度合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6288009A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003027748A1 (de) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zur planparallelen ausrichtung einer zu inspizierenden ebenen objektoberfläche zu einer fokusebene eines objektives |
| JP2005236166A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Bondotekku:Kk | ピエゾアライメント方式 |
| US7423743B2 (en) | 2000-12-29 | 2008-09-09 | Icos Vision Systems Nv | Method and an apparatus for measuring positions of contact elements of an electronic component |
| RU230974U1 (ru) * | 2024-07-03 | 2024-12-26 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)" | Накладка на предметный столик для регулировки угла наклона плоскости подложки образца |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP22810385A patent/JPS6288009A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7423743B2 (en) | 2000-12-29 | 2008-09-09 | Icos Vision Systems Nv | Method and an apparatus for measuring positions of contact elements of an electronic component |
| WO2003027748A1 (de) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zur planparallelen ausrichtung einer zu inspizierenden ebenen objektoberfläche zu einer fokusebene eines objektives |
| JP2005236166A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Bondotekku:Kk | ピエゾアライメント方式 |
| RU230974U1 (ru) * | 2024-07-03 | 2024-12-26 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)" | Накладка на предметный столик для регулировки угла наклона плоскости подложки образца |
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