JPS6288112A - 再生出力の安定な浮上型磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッド、特にコンビ、−ターの外部記憶装
置に用いられる、記録媒体に対して極めて僅かの間隙を
保って浮上させ記録、再生を行なう磁気ヘッドに関する
ものであり、浮上時に安定した再生出力を得る事を目的
とするものである。

（従来の技術） 従来磁気記録媒体を高速で回転させ、記録再生を行なう
磁気ヘッドを浮上させて用いるいわゆる浮上型磁気ヘッ
ドとしては１）Ｎｌ−ＺａあるいはＭｎ　−Ｚ　ａフェ
ライトで構成された一体型のモノリシック型２）Ｍｕ−
Ｚｎからなる磁気コア部を非磁性スライダー中に埋設し
ガラスで固着したコンポジット型および３）　Ａｔ２０
３−Ｔｉｃ等の非磁性スライダーの側面に磁気コア部を
設けたいわゆる薄膜ヘッドが用いられている。第５図は
モノリシック型磁気ヘッドの概略を示す図で２５．２６
はＮｉ−２１１６るいはＭｎ−Ｚｎフェライトであり、
２７が磁気ギヤラグである。また第６図はコンポジット
型磁気ヘッドの概略図であり２８は非磁性スライダー、
２９は埋設固着された磁気コアで３０が磁気ギヤラグそ
して３１は磁気コアを固着するガラスを表わす。

このコンポジット型磁気コアの拡大図を第７図に示した
。３２が磁気ギャップでありがラス３３で接合されたＣ
型３４および１型３５のＭｎ−Ｚｎフェライトより構成
されている。記録媒体に対向するフェライト部分に切除
部３６を施したのは狭トラツクを実現するための手段で
あり第７図中３７がトラック巾に相当する。さらに第８
図は薄膜ヘッドの概略図でおり、３８は機械的強度の優
れた例えばＡｔ２０．−Ｔ　ｉ　Ｃのごとき酸化物非磁
性材料よりなるスライダーで磁気コア部３９．４０は該
スライダーの一側面すなわち浮上時の空気流出端側の側
面に位置する。第９図はこの磁気コア部を媒体対向面側
より眺めた場合の磁気だャッ″７’４１を介して配置さ
れた磁性体の形状を示す。４２．４３が磁性体で、磁性
体としてはＦ・−Ｎ１合金をスノッタあるいはメッキ法
により成膜したものが用いられる場合が多い。

以上の様に従来より浮上型磁気記録装置に用いられてき
た磁気ヘッドとしては大別して上記の３種類が挙げられ
るが、これらはいずれも磁気ギヤラグ部の構成が、磁気
ギヤラグの両側の磁性体が単に平面上に形成されている
。すなわち平面形状の磁性体で磁気ギヤラグが形成され
ているという構成である点において共通である。かかる
ギヤラグ構成の磁気ヘッドにおいては後に詳述する様に
浮上量の変動に対して再生出力の変化率が大きいという
欠点を有することが発明者の詳細な検討により明らかと
なった。

一方、高密度記録を達成するためには記録媒体の記録時
における減磁を少なくする目的で一層保磁力の大きな記
録媒体を用いる様になってきている。この傾向に対して
磁気ヘッドとしては記録時に磁性体が磁気的飽和をする
と充分な記録が不可能となる。従って磁性体を飽和磁束
密度がｓｏｏ。

〜５５００Ｇ（がウス）と小さいＭローｚａ７エライト
よりさら＆Ｃ７０００Ｇ以上と大きな合金磁性材料を精
密加工の容易な薄膜として基板上に成膜し磁気ヘッドを
構成する試みが行われ℃いる。かかる観点からは磁性体
として高飽和磁束密度の磁性材料を用い磁気回路を構成
することが望ましく上述の従来の磁気ヘッドのうち薄膜
ヘッドは飽和磁束密度が９〜１０ｋＧにも達するＦ・−
Ｎ１合金薄膜を用いている点で有利であるが、先に述べ
た様に磁性部の構成の点で、浮上量に対する再生出力の
変化率が大きく好ましくない。

浮上量の変動に対する再生出力の変化率を小さくするこ
とが重要なことは容易に理解し得るがさらに詳述すると
以下である。すなわち高密度記録達成のためには極力浮
上量を小さくすることが必要であり、この浮上量の変遷
についてはＤａｔａｑｕａｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ　Ｓｔｏｒａｇｅ　ｆｄｕｓｔｒｙ　５ｅｒｖｉｃｅ
（Ｒｉｇｌｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒ１ｖ＊編）１９８４年版
２．２−６頁に記載されている。この記載によれば浮上
量は１０マイクロインチ（０，２５μｍ）に迄低下して
いる鎗この様に極めて僅かの浮上量で常に安定に磁気ヘ
ッドを浮上させる事は困難でちり、安定浮上の努力も数
多くなされているもののある程度の浮上量の変動は避け
られない、従って磁気ヘッドとしては浮上量変動に対し
てより一定した再生出力の得られる方が好ましい事は容
易に理解出来る。

従って本発明は高飽和磁束密度の合金薄膜を磁性体とし
て用い、かつ低浮上量で用いるにおいて浮上量変動に対
して再生出力変化の小さな磁気ヘッドを得るための構成
に関するものである。

（発明が解決しようとする問題点） 以上述べたごとぐ本発明は高保磁力の記録媒体に対して
も充分記録の可能な高飽和磁束密度の合金磁性薄膜を用
い、従来の磁気ヘッドの欠点であった浮上量変動に対し
再生出力の変化率が大きいことを解消せんとするもので
ある。

（問題点を解決するための手段） 本発明の構成はＶ字型形状を有する基板上に高飽和磁束
密度の合金薄膜を成膜し、この一対の基板をギヤラグ規
制膜を介し接合した磁気ヘッドにおいて、Ｖ字型部の角
度を適切に選ぶことにより上記問題点を解決せんとする
ものである。Ｖ字型部の斜交角度θを３０〜１２０度と
することにより、浮上量変動に対して再生出力の安定化
を達成したものでおる。

第１図は本発明の一実施例の磁気コア部の概略図でおる
。１．２は基板、３．４は高飽和磁束密度の合金薄膜、
５は巻線窓、６は磁気ギヤラグ、７．８が接合ガラスで
ある。ＴＶがトラック幅となる。かかる構成の磁気コア
を得るには巻線窓５のために第２図に示したＣ溝９を設
けた基板半対ｌＯを用意する。基板にはＶ字状突起１８
が設けてらる。基板上に高飽和磁束密度の合金薄膜１１
をスパッタ、あるいはイオングレーティング等の物理的
手段あるいはメッキ等の化学的手段、望ましくはスパッ
タにより形成する。この後１２および１２′を結ぶ線迄
研摩等の手段により薄膜の一部を除去する。さらにＣ溝
部を設けない同様のコア半対を作成し、Ｃ溝を設けた、
あるいは設けないいずれかるるいは双方の研摩面上に所
定の厚さとなる様ギャップ規制膜を成膜する。

次にこれら両灯を対向させ溝部１３にがラスを流入させ
接合する。接合後１４．１５を結ぶ線および１６．１７
を結ぶ線で切断することにより第１図に示した磁気コア
を得る。第１図でギャップを介した両側の合金薄膜は各
々角度θで斜交している。該磁気コアを浮上型磁気ヘッ
ドとするには、磁気コアを第６図に示した非磁性スライ
ダー２８中に埋設しが２スあるいは樹脂で固着すること
により得ることが出来る。かかる構成による磁気コアは
特開昭５８−１７５１２２等によりすでに提案されてい
る。しかしながらこれら先例は平坦なな基板上に７字溝
状の合金薄膜を形成し、その目的を擬似ギャップを生じ
せしめないためとしている。この擬似ギャップを防止す
るためのヘッド構成については種々の改良、工夫があり
例えば特公昭４６−１６３５３、特開昭５４−９６０１
３、米国特許２，９０２．５４４号等に例を見ることが
出来る。従って特開昭５８−１７５１２２等に提案され
た磁気コア構成は擬似ギャップを防止するための一構成
法であるが、本発明においては、かかる擬似ギャップの
現象発生とはかかわりなく、浮上量に対する再生出力の
安定な事を見い出したものである。

本発明において薄膜を成膜する基板としては磁性酸化物
であるフェライトや非磁性酸化物例えばＴ　Ｉ　Ｏ−Ｃ
ａ　Ｏ−Ａｔ２０ｓ　−Ｔ　Ｉ　Ｃ−Ｍｎ０−Ｎ　ｌ　
Ｏの様な材料さらには結晶化ガラス等のがラス組成物い
ずれをも用いる事が出来る。また薄膜材料としてはＦｅ
−Ａｔ−８ｌ　、　Ｆｅ−８１、Ｆａ−Ｎｉのごとき結
晶質材料あるいはＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ　＃　Ｃｏ−Ｔ＊
−Ｚｒ等のアモルファス材料いずれも可能である。これ
らの薄膜は単一層でもよいしまた高周波１ｃおける透磁
率の向上を図る目的で絶縁層を介し積層しても良い。Ｆ
・−ｋｌ−８１を用いる場合組成はｋｌが３〜７ａｔ％
、Ｓｉが７〜１１ａｔ（ｉおよびＦ’ｅが８２〜９０　
ａｔ　％さらに好ましくはＡｔ４．５〜６．５ａｔ％、
　Ｓｉ　８．０〜１０．５　ａｔｅ、　Ｆ＊８３〜８７
　ａｔ　％である。またアモルファス材であるＣｏ　−
Ｎｂ−Ｚｒの場合Ｃｏ８１〜９２　ａｔｅ　、　Ｎｂ　
６〜１２ａｔ％　＃　Ｚｒ　２〜７　ａｔ　％好ましく
はＣｏ８２〜８６ａｔ％。

Ｎｂｌ　１〜ｌ　３　ａｔ’％、　Ｚｒ　３〜５　ａｔ
ｅである。

第３図は本発明の他の実施例を示す図である。

１９はスライダーを兼ねた基板、２０はギャップ。

２１は合金薄膜、２２は巻線窓、２３はジンノ々ルを取
りつけるためのつめ溝である。ギャップ部は第１図と同
様に角度θで斜交した一対の合金薄膜がイヤツブを介し
てプラスで固着されている。

第４図は第３図のギャップ部分を拡大した図であり角度
θで斜交した一対の薄膜はがラス２４でギャップ２０を
介して接合される。

第１図および第３図の構成は磁気コアをあらかじめ作製
しておきスライダー中に固定するかまたは、スライダー
を兼ねた磁気コアとするかの差であり、いずれも角度θ
で斜交した一対の合金薄膜を接合した構成、という点で
同一である。従って第３図における構成でスライダー（
基板）材、合金薄膜材としてどの様なものを用いる事が
可能かについても同様である。

以下に実施例を示す。

〔実施例１〕 第２図に示す形状のＭｎ−Ｚｎフェライト基板上にＡＡ
５．１ａｔ％、　８１９．Ｏａｔｅ　、　Ｆａ　８５．
９　ａｔｑｂの組成で厚さ５μｍの膜をス・ぐツタにて
単層成膜した。斜交角θは６０度である。該一対を第２
図を用いて説明した工程に従がい、トラック幅１５μｍ
、イヤッゾ長０．８５μｍの磁気コアに加工した後Ｔｌ
０−ＣａＯのスライダー中に埋設がラスで固着し磁気ヘ
ッドを得た。該磁気ヘッドをＨｅ　７０００ｓのＣｏ−
Ｎｉ合金薄膜を磁性層とする５、２５インチのス・４ツ
タデイスクを用い浮上量と再生出力の関係を他の磁気ヘ
ッドと周波数２．５　ＭＨｚで比較測定した結果を第１
表に示す。

第１賢 第１表では浮上量０．２５μｍの場合の再生出力を各々
１００として浮上量を変えた場合の再生出力を上記に対
する百分率表示で記しである。比較に供したＭｕ　−Ｚ
　ａモノリシック型ヘッドおよび薄膜ヘッドのトラック
幅は各々２２および１８μｍ、ギャップ長は各々０．８
３　、０．８５μｍである。第１賢より明白な様に本実
施による磁気ヘッドは他に比べ浮上量変動に対して再生
出力の変化が小さい。

〔実施例２〕 実施例１と同一組成のＦｅ−Ａｔ−８ｉ膜をＴｌ０−Ｃ
ａＯ基板上に斜交角０４５度で成膜した。この後実施例
１と同様の加工を施しトラック幅１８μｍ、ギャップ長
０．７５〜０．８μｍの磁気ヘッドを得た。膜厚および
積層数を変え作製した試料を実施例１の媒体を用い２．
５ＭＨｚで測定した結果を第２表に百分率で示す。なお
積層は絶縁層とし′Ｃ，０，１μｍのｓｉｏ□膜をスノ
イツタした。

第２表 〔実施例３〕 Ｍａ−Ｚａ　７　エライト基板上にＣｏ８４ａｔチ、　
Ｎｂ１３ａｔ’％　ｅ　Ｚｎ　３　ａ　ｔ％の組成の合
金薄膜を斜交角０７５度で３μｍの厚さで３層積層した
。この後実施例１と同様の加工を行ないトラック幅１３
μｍでイヤクプ長を変えた磁気コアを得た。該磁気コア
をＴ１ω００のスライダー中に２成分系エポキシ樹脂を
用い加熱固着し磁気ヘッドを得た。上記実施例と同一測
定の結果を表３に記す。

第３茂 〔実施例４〕 Ｔ１０−ＣａＯ基板上に斜交角θを変え実施例３のＣｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ薄膜を５μｍ２層成膜し、該一対をガラス
で固着し第２図に示した磁気コアを得た。ギャップ長は
０．８０μｍｓ）ラック幅は１９μｍである。

該磁気コアを同一材のＴ１０−ＣａＯスライダー中に実
施例３の樹脂を用い固着し磁気ヘッドを得た。同様の測
定結果を第４表に記す。

第　　４　　表 第４表より明らかな様に斜交角θが３０〜１２０度では
安定した再生出力を示すがこれ以外ではＭＩｌ−Ｚｎモ
ノリシック型および薄膜ヘッドと同程度に再生出力の変
化が著しい。

〔実施例５〕 実施例４のＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ薄膜を５μｍ２層斜交角
θ＝９０度でＭｎ０−Ｎｉ０非磁性基板上に成膜した。

該一対を第３図に示した磁気ヘッドとして加工し、同一
測定を行なった結果を第５茨に示す。

第　５　　表 以上詳述したごとく本発明による磁気ヘッドは合金薄膜
をＶ字状基板に斜交させて成膜し、該一対を磁気イヤラ
グを介して接合した構成とすることにより、従来知られ
ていなかった再生出力が浮上量変動に対して安定である
という利点が判明し高密度記録だ適した浮上型磁気ヘッ
ドである。この理由は明確でないが、斜交角に対して再
生出力変化が依存することを考慮すると磁気ギャップよ
り洩れる磁束の分布が従来の構成の磁気ヘッドと異なる
ためではないかと推測される。基板をＶ字状に加工を施
す場合、Ｖ字状突起の頂点が欠は等によりやや平坦にな
り易いが数μｍ程度欠けを生じても、合金薄膜が明瞭に
斜交していると認められる程度の状態であれば同様の効
果を有する。

また実施例では左右一対が同じ角度θで斜交している場
合を示したが、すでに述べた点から明らかな様に左右一
対が異なる角度で斜交していても同様の効果を有するこ
とは明白である。

〔発明の効果〕

以上より明らかなごとく本発明による磁気ヘッドは高密
度記録に必須の浮上量変動に対して再生出力の変化が小
さいという効果を示し工業上の利用価値大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例の磁気コアの概観図、第２図
は第１図の磁気コアを得るための薄膜成膜状態を示す説
明図、第３図は他の実施例を示す概観図である。第４図
は第３図におけるギャップ部分の拡大図を示し、第５図
はモノリシック型磁気ヘッドの概観図を示す。第６図は
コンポジット型磁気ヘッドの概観図を、第７図は第６図
のスライダー中に埋設固着される磁気コアの拡大図を示
す。 第８図は薄膜ヘッドの概観図を、第９図は第８図の磁気
コア部を浮上面より眺めた場合のギヤラグ構成の模式図
を示す。 １．２：基板、３，４：合金磁性薄膜、５：巻線窓、６
：磁気ギャップ、θ：斜斜交 角 箱１図 第２図 ｌｌ 第３図 第４図 第５図 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁性および非磁性酸化物あるいはガラス組成物でＶ字状
   突起を有する基板上に高飽和磁束密度の合金薄膜を成膜
   し、この一対を磁気ギャップ層を介して接合した構成の
   磁気ヘッドにおいて、該合金薄膜が角度３０〜１２０度
   で斜交することを特徴とする浮上量変動に対して再生出
   力の安定な浮上型磁気ヘッド。