JPS6292B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6292B2 JPS6292B2 JP4115383A JP4115383A JPS6292B2 JP S6292 B2 JPS6292 B2 JP S6292B2 JP 4115383 A JP4115383 A JP 4115383A JP 4115383 A JP4115383 A JP 4115383A JP S6292 B2 JPS6292 B2 JP S6292B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- tube
- gas introduction
- raw material
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は光フアイバ母材の製造装置の改良に係
り、特に回転機構に支持された出発材料となる反
応管内に、気化されたガラス層形成用原料ガスを
効率よく導入し得る光フアイバ母材の製造装置に
関するものである。
り、特に回転機構に支持された出発材料となる反
応管内に、気化されたガラス層形成用原料ガスを
効率よく導入し得る光フアイバ母材の製造装置に
関するものである。
(b) 技術の背景
光伝送線として用いられる無機ガラスからなる
光フアイバの母材（プリフオーム）を製造する一
方法として移動加熱源を用いた内付け化学気相堆
積法（内付けCVD法）があり、低損失な光フア
イバ用母材が得られることから広く用いられてい
る。
光フアイバの母材（プリフオーム）を製造する一
方法として移動加熱源を用いた内付け化学気相堆
積法（内付けCVD法）があり、低損失な光フア
イバ用母材が得られることから広く用いられてい
る。
(c) 従来技術と問題点
上記した製造方法および装置は、従来第１図に
示すように適当な径の出発材料となる例えば石英
反応管１を装置の回転支持機構２に装着し、回転
させて該反応管１の一端より、所定温度で気化し
た例えば四塩化シリコン（SiCl4）および屈接率制
御用のオキシ塩化燐（POCl3）、四塩化ゲルマニ
ウム（GeCl4）等からなるガラス層形成用原料ガ
スを担持したキヤリアガスと酸素ガスを同時に導
入し、この反応管１の外壁を該管の長手方向に移
動する加熱手段、例えば酸水素バーナ３によつて
局所的に加熱して、前記反応管１内の原料ガスを
熱酸化反応せしめ、生成されたガラス生成物（ス
ート）を順次管内壁面に堆積、かつ溶融して所望
の厚さの透明ガラス層４を形成する。その後この
反応管１をさらに回転させながら酸水素バーナ３
で加熱して該管１の径を密に縮小せしめて中実化
し、光フアイバ母材を形成している。
示すように適当な径の出発材料となる例えば石英
反応管１を装置の回転支持機構２に装着し、回転
させて該反応管１の一端より、所定温度で気化し
た例えば四塩化シリコン（SiCl4）および屈接率制
御用のオキシ塩化燐（POCl3）、四塩化ゲルマニ
ウム（GeCl4）等からなるガラス層形成用原料ガ
スを担持したキヤリアガスと酸素ガスを同時に導
入し、この反応管１の外壁を該管の長手方向に移
動する加熱手段、例えば酸水素バーナ３によつて
局所的に加熱して、前記反応管１内の原料ガスを
熱酸化反応せしめ、生成されたガラス生成物（ス
ート）を順次管内壁面に堆積、かつ溶融して所望
の厚さの透明ガラス層４を形成する。その後この
反応管１をさらに回転させながら酸水素バーナ３
で加熱して該管１の径を密に縮小せしめて中実化
し、光フアイバ母材を形成している。
ところで上記のような製造装置の構成において
は、出発材料となる反応管１内に導入される前記
ガラス層形成用原料ガスは、室温よりも高い温度
で気化されているので、図示しないガス導入管お
よびそれに連なる反応管１のガス導入端部１ａは
鎖線５で示すように加温カバーによつて所定温度
に保温している。ところが回転支持機構２は加温
できないことから、該回転支持機構２内に装着さ
れた反応管１部分で前記原料ガスが冷却されて液
化し、該管内壁部分に付着するといつた不都合が
生じ易く、前記反応管１の所定内壁面に所望とす
る屈折率、厚さのガラス層４が堆積できなくなる
という欠点があつた。
は、出発材料となる反応管１内に導入される前記
ガラス層形成用原料ガスは、室温よりも高い温度
で気化されているので、図示しないガス導入管お
よびそれに連なる反応管１のガス導入端部１ａは
鎖線５で示すように加温カバーによつて所定温度
に保温している。ところが回転支持機構２は加温
できないことから、該回転支持機構２内に装着さ
れた反応管１部分で前記原料ガスが冷却されて液
化し、該管内壁部分に付着するといつた不都合が
生じ易く、前記反応管１の所定内壁面に所望とす
る屈折率、厚さのガラス層４が堆積できなくなる
という欠点があつた。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の不都合を排除するため、出
発材料となる反応管のガス導入側の一端を閉塞し
た形で回転支持機構に支持し、該反応管の閉塞端
部近傍よりガラス層形成用原料ガスを保温状態で
導入する構成とし、前記反応管内のガラス層堆積
領域に、所定流量のガラス層形成用原料ガスを送
り込むようにした新規な光フアイバ母材の製造装
置を提供することを目的とするものである。
発材料となる反応管のガス導入側の一端を閉塞し
た形で回転支持機構に支持し、該反応管の閉塞端
部近傍よりガラス層形成用原料ガスを保温状態で
導入する構成とし、前記反応管内のガラス層堆積
領域に、所定流量のガラス層形成用原料ガスを送
り込むようにした新規な光フアイバ母材の製造装
置を提供することを目的とするものである。
(e) 発明の構成
そして上記目的は本発明によれば、回転機構に
支持した出発材料となる反応管の一端よりガラス
層形成用原料ガスを導入し、該反応管の長手方向
に沿つて移動する加熱手段で該反応管を局近的に
加熱して管内壁面に堆積した反応生成物をガラス
化する装置構成において、上記反応管のガス導入
端部を閉塞し、かつ該閉塞端部近傍の管側壁部に
ガス導入孔を穿設した形で前記回転機構に支持す
ると共に、該ガス導入孔を有するガス導入部に、
原料ガス導入用の保温手段付き回転接続機構を添
設してなることを特徴とする光フアイバ母材の製
造装置を提供することによつて達成される。
支持した出発材料となる反応管の一端よりガラス
層形成用原料ガスを導入し、該反応管の長手方向
に沿つて移動する加熱手段で該反応管を局近的に
加熱して管内壁面に堆積した反応生成物をガラス
化する装置構成において、上記反応管のガス導入
端部を閉塞し、かつ該閉塞端部近傍の管側壁部に
ガス導入孔を穿設した形で前記回転機構に支持す
ると共に、該ガス導入孔を有するガス導入部に、
原料ガス導入用の保温手段付き回転接続機構を添
設してなることを特徴とする光フアイバ母材の製
造装置を提供することによつて達成される。
(f) 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細
に説明する。
に説明する。
第２図は本発明に係る光フアイバ母材の製造装
置の一実施例を概念的に示す要部断面図である。
置の一実施例を概念的に示す要部断面図である。
なお第１図と同等部分には同一符号を付してい
る。
る。
図において２１は出発材料となる石英製の中空
反応管であつて、その一端は開塞され、さらに支
持棒２１ａが取付けられている。また該閉塞端部
近傍の管側壁部にガス導入孔２２が穿設されてい
る。
反応管であつて、その一端は開塞され、さらに支
持棒２１ａが取付けられている。また該閉塞端部
近傍の管側壁部にガス導入孔２２が穿設されてい
る。
そして該反応管２１は、前記一端の支持棒２１
ａと他端部を装置の回転機構２に装着して支持さ
れている。３は前記反応管２１の長手方向に沿つ
て移動し、該管壁を局所的に加熱する加熱手段、
例えば酸水素バーナである。
ａと他端部を装置の回転機構２に装着して支持さ
れている。３は前記反応管２１の長手方向に沿つ
て移動し、該管壁を局所的に加熱する加熱手段、
例えば酸水素バーナである。
さらに本発明においては、上記反応管２１のガ
ス導入孔２２が穿設された領域に、図示しない原
料ガス導入管が接続されたガス導入口２４を有す
る環状形回転接続器２３が気密に、かつ管外周に
対して滑動自在に添設されている。そして該環状
回転接続器２３の外周及びその近辺の反応管２１
部分には鎖線で示す形に例えば熱風あるいは電熱
等の手段による保温カバー２５が被装され、数百
度程度迄の所定温度に保温する構成がとられてい
る。
ス導入孔２２が穿設された領域に、図示しない原
料ガス導入管が接続されたガス導入口２４を有す
る環状形回転接続器２３が気密に、かつ管外周に
対して滑動自在に添設されている。そして該環状
回転接続器２３の外周及びその近辺の反応管２１
部分には鎖線で示す形に例えば熱風あるいは電熱
等の手段による保温カバー２５が被装され、数百
度程度迄の所定温度に保温する構成がとられてい
る。
よつて上記の如く構成された装置において、図
示しない保温形原料ガス導入管より、気化された
前記ガラス層形成用原料ガスを前記環状形回転接
続器２３を通して反応管２１内に導入することに
より前記原料ガスが反応管２１内のガラス層堆積
領域以外の領域で液化し、滞留するといつたこと
がなくなり、該反応管２１内の長手方向に均一な
ガラス組成および屈折率を有するガラス堆積層４
を所定の厚さに容易に形成することが可能とな
る。
示しない保温形原料ガス導入管より、気化された
前記ガラス層形成用原料ガスを前記環状形回転接
続器２３を通して反応管２１内に導入することに
より前記原料ガスが反応管２１内のガラス層堆積
領域以外の領域で液化し、滞留するといつたこと
がなくなり、該反応管２１内の長手方向に均一な
ガラス組成および屈折率を有するガラス堆積層４
を所定の厚さに容易に形成することが可能とな
る。
(g) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る
光フアイバ母材の製造装置の構成によれば、出発
材料となる反応管内へガラス層形成用原料ガス
を、回転機構内を通して導入せずに、該回転機構
に支持される部分より手前の反応管部分に設けた
保温カバ付き環状形回転接続器を介して導入する
ようにしているので、導入した原料ガスがガラス
層形成領域以外の部分に液化滞留する恐れがなく
なり、該反応管内の所定領域に均一なガラス組成
および屈折率を有するガラス堆積層を所定の厚さ
に容易に形成することが可能となる。よつて比較
的高温で気化する必要がある例えば三塩化カリウ
ム（GaCl3）あるいは、三塩化アルミニウム
（AlCl3）等を含むガラス層形成用原料ガスを用い
て光フアイバ母材を形成する製造装置に適用して
極めて有利である。
光フアイバ母材の製造装置の構成によれば、出発
材料となる反応管内へガラス層形成用原料ガス
を、回転機構内を通して導入せずに、該回転機構
に支持される部分より手前の反応管部分に設けた
保温カバ付き環状形回転接続器を介して導入する
ようにしているので、導入した原料ガスがガラス
層形成領域以外の部分に液化滞留する恐れがなく
なり、該反応管内の所定領域に均一なガラス組成
および屈折率を有するガラス堆積層を所定の厚さ
に容易に形成することが可能となる。よつて比較
的高温で気化する必要がある例えば三塩化カリウ
ム（GaCl3）あるいは、三塩化アルミニウム
（AlCl3）等を含むガラス層形成用原料ガスを用い
て光フアイバ母材を形成する製造装置に適用して
極めて有利である。
第１図は従来の光フアイバ母材の製造装置を説
明する要部断面図、第２図は本発明に係る光フア
イバ母材の製造装置の一実施例を概念的に示す要
部断面図である。 図面において、２は回転機構、３は酸水素バー
ナ、４はガラス堆積層、２１は反応管、２１ａは
支持棒、２２はガス導入孔、２３は環状形回転接
続器、２４はガス導入口、２５は保温カバーを示
す。
明する要部断面図、第２図は本発明に係る光フア
イバ母材の製造装置の一実施例を概念的に示す要
部断面図である。 図面において、２は回転機構、３は酸水素バー
ナ、４はガラス堆積層、２１は反応管、２１ａは
支持棒、２２はガス導入孔、２３は環状形回転接
続器、２４はガス導入口、２５は保温カバーを示
す。
Claims (1)
- １ 回転機構に支持した出発材料となる反応管の
一端よりガラス層形成用原料ガスを導入し、該反
応管の長手方向に沿つて移動する加熱手段で該反
応管を局部的に加熱して管内壁面に堆積した反応
生成物をガラス化する装置構成において、上記反
応管のガス導入側端部を閉塞し、かつ、該閉塞端
部近傍の管側壁面にガス導入孔を穿設した形で前
記回転機構に支持すると共に、該ガス導入孔を有
するガス導入部に、原料ガス導入用の保温手段付
き回転接続機構を環装してなることを特徴とする
光フアイバ母材の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115383A JPS59164647A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115383A JPS59164647A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164647A JPS59164647A (ja) | 1984-09-17 |
| JPS6292B2 true JPS6292B2 (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=12600471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4115383A Granted JPS59164647A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59164647A (ja) |
-
1983
- 1983-03-11 JP JP4115383A patent/JPS59164647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59164647A (ja) | 1984-09-17 |
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