JPS6293365A - マスキング材料 - Google Patents
マスキング材料Info
- Publication number
- JPS6293365A JPS6293365A JP23344385A JP23344385A JPS6293365A JP S6293365 A JPS6293365 A JP S6293365A JP 23344385 A JP23344385 A JP 23344385A JP 23344385 A JP23344385 A JP 23344385A JP S6293365 A JPS6293365 A JP S6293365A
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- Japan
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- masking material
- soluble
- masking
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明はマスキング材料に関し、詳しくは非水溶性無機
質粉末と、水ガラスおよび水溶性無機化合物1)r r
うなる水溶性原石とをそれぞれ特定の割合で配合するこ
とにより、取扱い操作が容易で、しかも“F地どの密着
性に優れた金属化合物皮膜を安価に形成できるマスキン
グ材料に関する。
質粉末と、水ガラスおよび水溶性無機化合物1)r r
うなる水溶性原石とをそれぞれ特定の割合で配合するこ
とにより、取扱い操作が容易で、しかも“F地どの密着
性に優れた金属化合物皮膜を安価に形成できるマスキン
グ材料に関する。
[発明の背m]
一般に囃空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタ
リング法、プラズマ法等の物理的蒸着払(P V 11
法)によって、金属やセラミツタス等の下地表面に多結
晶シリコン、酸化ケイ索、アルミナ、窒素チタン等の金
属や金属化合物等の皮膜を形成さ0る揚台は、予め皮膜
を形成しない部分にマスキングを施してから蒸着を行な
っている。
リング法、プラズマ法等の物理的蒸着払(P V 11
法)によって、金属やセラミツタス等の下地表面に多結
晶シリコン、酸化ケイ索、アルミナ、窒素チタン等の金
属や金属化合物等の皮膜を形成さ0る揚台は、予め皮膜
を形成しない部分にマスキングを施してから蒸着を行な
っている。
従来、このJ、うなマスキングのh払どしでは、皮膜形
成の不要な部分に金属板等を強固に密着保持しCマスキ
ングJる乃払が知られている。しかし、この方法では、
金属板を密着させる操作に手間がかかり、複層1h形状
のものへの適応性に乏しく13に独v!シた細かなパタ
ーンができないという欠Jj、1がある。
成の不要な部分に金属板等を強固に密着保持しCマスキ
ングJる乃払が知られている。しかし、この方法では、
金属板を密着させる操作に手間がかかり、複層1h形状
のものへの適応性に乏しく13に独v!シた細かなパタ
ーンができないという欠Jj、1がある。
−h、他のマスキング方法としては、粘土等の無機質粉
末を有機質樹材とIFN合し水性または油性のペースト
としてから、皮膜を形成しない部分に塗布し、500〜
800℃で焼成付着させる方法が知られている。しかし
、この方法ではペース1へを直接印刷したり、陶磁器画
材の転写法等により付着さ1!るが、500〜800′
Cの高ン品で有機質樹材を焼成して焼失さl!なければ
ならないため、金属のように500℃程醍で容易に酸化
されるものには適用できないとい・う欠点がある。
末を有機質樹材とIFN合し水性または油性のペースト
としてから、皮膜を形成しない部分に塗布し、500〜
800℃で焼成付着させる方法が知られている。しかし
、この方法ではペース1へを直接印刷したり、陶磁器画
材の転写法等により付着さ1!るが、500〜800′
Cの高ン品で有機質樹材を焼成して焼失さl!なければ
ならないため、金属のように500℃程醍で容易に酸化
されるものには適用できないとい・う欠点がある。
また、このマス4−ング材オ′シは100℃以」二に加
熱づると、有機費糊材に起因するガスが発生ずるため、
500〜800℃の焼成に」、る脱ガス操作という]稈
が必ず必要となる。これは、′JP、住したガスが形成
皮膜の純痘を低下させ皮膜の付着強度等に悲影響を与え
るためである。
熱づると、有機費糊材に起因するガスが発生ずるため、
500〜800℃の焼成に」、る脱ガス操作という]稈
が必ず必要となる。これは、′JP、住したガスが形成
皮膜の純痘を低下させ皮膜の付着強度等に悲影響を与え
るためである。
1光明の目的]
本発明は上述の問題貞に名みてなさねたもので、取1ノ
々いが容易C′、しかも下地との密着性に侵れt、:金
属化合物皮膜を安価に形成できるマスキング材r+1を
l!i! fltすることを目的とづる。
々いが容易C′、しかも下地との密着性に侵れt、:金
属化合物皮膜を安価に形成できるマスキング材r+1を
l!i! fltすることを目的とづる。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検問した
ところ、通常のマスキング材Hの主原石どして用いられ
るノ1水溶↑l[無機質粉末に、水ガラスおよび水溶性
無機化合物からなる水溶性原料を特定の化率で配合覆る
ことにより上記目的を達成するマスキング材料を見出し
本発明に到達した。
ところ、通常のマスキング材Hの主原石どして用いられ
るノ1水溶↑l[無機質粉末に、水ガラスおよび水溶性
無機化合物からなる水溶性原料を特定の化率で配合覆る
ことにより上記目的を達成するマスキング材料を見出し
本発明に到達した。
[発明の1ill+戊」
すなわち本発明let、)1水溶M無機質粉末原l′:
1(A) 100車φ部IJ、固形分として水ガラス
を5〜95重量%おにび水溶性無機化合物5〜95車量
%の組成からなる水溶r1原利(F3)を15〜200
車醋部混合し、所望量の水を加え(−ペース]へ状1−
/q: letスラリー状としたことを特徴とするマス
キング材料である。
1(A) 100車φ部IJ、固形分として水ガラス
を5〜95重量%おにび水溶性無機化合物5〜95車量
%の組成からなる水溶r1原利(F3)を15〜200
車醋部混合し、所望量の水を加え(−ペース]へ状1−
/q: letスラリー状としたことを特徴とするマス
キング材料である。
本発明において、非水溶性無機質粉末原11(△)は、
通常マスキング材料の主原料として用いられる無機質粉
末で、例えば珪石、長石、カオリン、タルク、雲母等の
造岩鉱物、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等
の金属酸化物、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の
非水溶性の炭酸塩等が挙げられる。
通常マスキング材料の主原料として用いられる無機質粉
末で、例えば珪石、長石、カオリン、タルク、雲母等の
造岩鉱物、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等
の金属酸化物、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の
非水溶性の炭酸塩等が挙げられる。
また、本発明に、!りいて水溶性rlH’1N1)とし
て、水ガラスと水溶性無機化合物の北合物を用いる。
て、水ガラスと水溶性無機化合物の北合物を用いる。
水ガラスとしては出版の水ガラスが用いられ、ナトリウ
ム、カリウム、リチウム等のアルカリ珪酸塩から選ばれ
る少な(とも1種以上またはこれらの水溶液が用いられ
る。これらの水ガラスのう1う、特にJ I S K
140gに規定されているものがOfましい。
ム、カリウム、リチウム等のアルカリ珪酸塩から選ばれ
る少な(とも1種以上またはこれらの水溶液が用いられ
る。これらの水ガラスのう1う、特にJ I S K
140gに規定されているものがOfましい。
」:だ、水溶tp+無(;賃化合物どしては、炭酸ナト
リウlい、炭酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム等の水溶性の炭酸塩や塩化物が用いられる。
リウlい、炭酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム等の水溶性の炭酸塩や塩化物が用いられる。
この水溶性無機化合物は、マスキング層の水洗除去を可
能とするため水に容易に溶けることが必要であり、また
蒸着時の処理温度に耐えられるように融点や分解温度が
500℃以上のものが好ましい。
能とするため水に容易に溶けることが必要であり、また
蒸着時の処理温度に耐えられるように融点や分解温度が
500℃以上のものが好ましい。
さらにマスキング材料として使用された後、水洗により
除去して廃棄されるため、T場廃水に混入l〕でもM境
汚染を起こさない化合物であることが望ましい。
除去して廃棄されるため、T場廃水に混入l〕でもM境
汚染を起こさない化合物であることが望ましい。
本発明においては、水溶性[料(B)における水ガラス
および水溶性無機化合物の固形分としての混合割合は、
水ガラス5〜95重樋%、好ましくは30〜70重指%
、水溶性無機化合物95〜5重量%、Q?ましくは70
〜30市聞%の範囲である。なお、この水ガラスの混合
割合においては、水ガラス中の6一 水分はイの1fflに含まないものである。水ガラスの
混合量が95小吊%を越えたり、水溶性無敗化合物の混
合間が5小吊%未満では、マスキング手4利を乾燥固化
した後のマスキング層の被マスク面l\の付着強度が人
さ)過さ゛るため、蒸着後に7ス一1ング層を除去する
のが困勤どなる。また水力゛ラスの混合間が5重M%末
)−で・あったり、水溶tq無機化合物の混合間が95
車崩%を越えた場合には、逆に乾燥固化後の被マスク面
へのfd着強度が弱Jぎで蒸着等の取板い中に脱落し−
でしまう。
および水溶性無機化合物の固形分としての混合割合は、
水ガラス5〜95重樋%、好ましくは30〜70重指%
、水溶性無機化合物95〜5重量%、Q?ましくは70
〜30市聞%の範囲である。なお、この水ガラスの混合
割合においては、水ガラス中の6一 水分はイの1fflに含まないものである。水ガラスの
混合量が95小吊%を越えたり、水溶性無敗化合物の混
合間が5小吊%未満では、マスキング手4利を乾燥固化
した後のマスキング層の被マスク面l\の付着強度が人
さ)過さ゛るため、蒸着後に7ス一1ング層を除去する
のが困勤どなる。また水力゛ラスの混合間が5重M%末
)−で・あったり、水溶tq無機化合物の混合間が95
車崩%を越えた場合には、逆に乾燥固化後の被マスク面
へのfd着強度が弱Jぎで蒸着等の取板い中に脱落し−
でしまう。
上述の比率で配合された水溶付原料([3)は、非水溶
性無機質粉末原料(△)100小吊部に対し、固形分と
して15〜200重量部配合されることが必要である。
性無機質粉末原料(△)100小吊部に対し、固形分と
して15〜200重量部配合されることが必要である。
なお、Jr*溶性無機質粉末原籾(A>はその比重や粒
度等によって高が異なるため、上記範囲内において、嵩
の多い場合は水溶性原料(B)を多くし、嵩の少ない場
合は水溶↑1原判(B)を少なくして付着強度や洗浄除
去の郵易度を調節する必要がある。水溶佐原!’lN1
)の配合量が200重硲小金越えるとマスキング層と下
地面どの付着強度が人さくなるが洗浄除去が困難となり
、また15千吊部未満では洗浄除去し易くなるが付着強
度が小さくなるためそれぞれ好ましくない。
度等によって高が異なるため、上記範囲内において、嵩
の多い場合は水溶性原料(B)を多くし、嵩の少ない場
合は水溶↑1原判(B)を少なくして付着強度や洗浄除
去の郵易度を調節する必要がある。水溶佐原!’lN1
)の配合量が200重硲小金越えるとマスキング層と下
地面どの付着強度が人さくなるが洗浄除去が困難となり
、また15千吊部未満では洗浄除去し易くなるが付着強
度が小さくなるためそれぞれ好ましくない。
本発明においては、マスキング材料の粘稠度を調節した
り、無機質粉末原料と水溶性原料の混合を容易にし、ペ
ースミル状またはスラリー状とするために、所望量の水
を配合する。なお、水ガラス中に予め必要量の水が含有
されでいるときは、さl)に水を加える必要はない。
り、無機質粉末原料と水溶性原料の混合を容易にし、ペ
ースミル状またはスラリー状とするために、所望量の水
を配合する。なお、水ガラス中に予め必要量の水が含有
されでいるときは、さl)に水を加える必要はない。
以下、本発明のマスキング材料の使用方法を説明づる。
まず、1−述のようにペースト状またはスラリー状に調
製されたマスキング材料を、刷毛塗り、スプレー塗11
J、直接印刷等の方法でマスキングが施される下地とし
ての金属やセラミックス等の表面に塗布する。次に、塗
布されたマスキング材料を乾燥させて水分を除去して固
化させマスキング層を形成する。ざらに物理蒸着法によ
り、マスキング層が施されていない下地表面に金属また
は金属化合物の皮膜を形成する。この物理蒸着法では、
−’/ − 下地表面を500℃程庶までに加熱して金属または金属
化合物の皮膜を形成する。この際、本発明に用いられる
原料はいずれも無機物で、また、水は低温乾燥で蒸発さ
れるのでマスキング層からガスが発生しない。従って、
有機物を原料の一部とする従来のマスキング材料に必要
だった脱ガス工程を省略することができる。さらに、こ
のようなガスが発生すると炉中で蒸発している蒸W I
Jに混入し純度を低下させるが1本発明ではガスが発生
しないため蒸着材に全く影響を及ぼさない。
製されたマスキング材料を、刷毛塗り、スプレー塗11
J、直接印刷等の方法でマスキングが施される下地とし
ての金属やセラミックス等の表面に塗布する。次に、塗
布されたマスキング材料を乾燥させて水分を除去して固
化させマスキング層を形成する。ざらに物理蒸着法によ
り、マスキング層が施されていない下地表面に金属また
は金属化合物の皮膜を形成する。この物理蒸着法では、
−’/ − 下地表面を500℃程庶までに加熱して金属または金属
化合物の皮膜を形成する。この際、本発明に用いられる
原料はいずれも無機物で、また、水は低温乾燥で蒸発さ
れるのでマスキング層からガスが発生しない。従って、
有機物を原料の一部とする従来のマスキング材料に必要
だった脱ガス工程を省略することができる。さらに、こ
のようなガスが発生すると炉中で蒸発している蒸W I
Jに混入し純度を低下させるが1本発明ではガスが発生
しないため蒸着材に全く影響を及ぼさない。
R後に、不要となったマスキング層を水洗により除去す
る。本発明のマスキング材料には水溶性無機化合物が配
合されているため、水洗の際それらが溶出しマスキング
層の付着強度を低下させマスキング層が容易に除去でき
る。
る。本発明のマスキング材料には水溶性無機化合物が配
合されているため、水洗の際それらが溶出しマスキング
層の付着強度を低下させマスキング層が容易に除去でき
る。
なお、本発明のマスキング材料は物理的蒸善法に用いら
れるものであるが、化学的蒸着法(CVD法)が500
℃以下で行なうことが可能な場合には、本発明のマス4
ング材¥+1は化学的蒸着法にも適用可能である。
れるものであるが、化学的蒸着法(CVD法)が500
℃以下で行なうことが可能な場合には、本発明のマス4
ング材¥+1は化学的蒸着法にも適用可能である。
一〇−
〔発明の実施例〕
以下、本什明を実施例および比較例に基づき具体的に説
明づる。
明づる。
実施J1〜8および比較例1〜2
先ず、第1表に示す配合割合で、非水溶性無機質粉末原
料(A)、水ガラスと水溶性無機質化合物とからなる水
溶性原料(B)および水を配合してマスキング材料を調
製した。なお、第1表中の1月、3号および4号珪酸ソ
ーダはJIS K1408に規定する水ガラスである
。
料(A)、水ガラスと水溶性無機質化合物とからなる水
溶性原料(B)および水を配合してマスキング材料を調
製した。なお、第1表中の1月、3号および4号珪酸ソ
ーダはJIS K1408に規定する水ガラスである
。
得られた各マスキング材料をよく研磨した金属表面に、
直接印刷、スプレー塗装、刷毛塗りで塗布し、次いで乾
燥固化し、部分的にマスキング層を設けた。さらにイオ
ンブレーティング法により、真空中、300℃の条件下
に窒化チタンを蒸着し、最後に水洗によりマスキング層
を除去した。
直接印刷、スプレー塗装、刷毛塗りで塗布し、次いで乾
燥固化し、部分的にマスキング層を設けた。さらにイオ
ンブレーティング法により、真空中、300℃の条件下
に窒化チタンを蒸着し、最後に水洗によりマスキング層
を除去した。
この一連の操作において、マスキング層と下地どの付着
強度、窒化チタンの蒸着状態とマスキング効果および洗
浄の勤易を調べ、結果を第1表に示した。
強度、窒化チタンの蒸着状態とマスキング効果および洗
浄の勤易を調べ、結果を第1表に示した。
第1表に示されるごとく、本発明のマスキング材料(i
いずれも物即蒸着法に用いられるマスキング材料とし−
C1中川に11(シq!fることが判った。
いずれも物即蒸着法に用いられるマスキング材料とし−
C1中川に11(シq!fることが判った。
[発明の効里]
以I K+2明したJ、うに、本発明の7スキング祠r
1によれば以下の効果を秦する。
1によれば以下の効果を秦する。
■ 金属やレラミックス等の下地との付着強tαが高い
伯を示し、しかも皮膜の蒸着状態やマス4−ング効宋す
良好である。
伯を示し、しかも皮膜の蒸着状態やマス4−ング効宋す
良好である。
■ 蒸着を行なう際にガスを発生しないので、従来必要
だった111(ガスT程を省略することがで・き、また
ガス発生による形成皮膜への悪影響がない。
だった111(ガスT程を省略することがで・き、また
ガス発生による形成皮膜への悪影響がない。
■ 水溶性−無機化合物を含有さIJることによ【〕、
マスキング層の洗浄除去は水を用いて行なうことかでき
るので、従来の方法よりも取扱い操作が容易である。
マスキング層の洗浄除去は水を用いて行なうことかでき
るので、従来の方法よりも取扱い操作が容易である。
■ 無機化合物や水をIii判とするため、従来の樹脂
や有機溶剤を用いたマスキング材¥11よりも安価で取
扱いが容易である。
や有機溶剤を用いたマスキング材¥11よりも安価で取
扱いが容易である。
従って、ト記のような効果を奏する本発明のマスキング
材料は、金属やセラミックス等の下地表面に物理的蒸着
法を用いて皮膜を形成する際に有効である。
材料は、金属やセラミックス等の下地表面に物理的蒸着
法を用いて皮膜を形成する際に有効である。
特許出駈1人 株式会社ノリタケカンパニーリミテド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非水溶性無機質粉末原料(A)100重量部に、固
形分として水ガラスを5〜95重量%および水溶性無機
化合物95〜5重量%の組成からなる水溶性原料(B)
を15〜200重量部混合し、所望量の水を加えてペー
スト状またはスラリー状としたことを特徴とするマスキ
ング材料。 2、前記非水溶性無機質粉末原料が、造岩鉱物、金属酸
化物、炭酸塩を主成分とする前記特許請求の範囲第1項
記載のマスキング材料。 3、前記造岩鉱物が珪石、長石、カオリン、タルク、雲
母から選択される少なくとも1種である前記特許請求の
範囲第2項記載のマスキング材料。 4、前記金属酸化物がシリカ、アルミナ、ジルコニア、
チタニアから選択される少なくとも1種である前記特許
請求の範囲第2項記載のマスキング材料。 5、前記炭酸塩が炭酸マグネシウムおよび/または炭酸
カルシウムである前記特許請求の範囲第2項記載にのマ
スキング材料。 6、前記水ガラスがアルカリ珪酸塩水溶液を主成分とす
る前記特許請求の範囲第1項記載のマスキング材料。 7、前記水溶性無機化合物がナトリウム、カリウムの炭
酸塩化合物または塩化物を主成分とし、かつ融点または
分解温度が500℃以上である前記特許請求の範囲第1
項記載のマスキング材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60233443A JPH0649932B2 (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マスキング材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60233443A JPH0649932B2 (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マスキング材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6293365A true JPS6293365A (ja) | 1987-04-28 |
| JPH0649932B2 JPH0649932B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=16955121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60233443A Expired - Lifetime JPH0649932B2 (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マスキング材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649932B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033347A (ja) * | 1983-08-03 | 1985-02-20 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 蒸着におけるマスキング方法 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP60233443A patent/JPH0649932B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033347A (ja) * | 1983-08-03 | 1985-02-20 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 蒸着におけるマスキング方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0649932B2 (ja) | 1994-06-29 |
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