JPS6295716A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6295716A JPS6295716A JP23618085A JP23618085A JPS6295716A JP S6295716 A JPS6295716 A JP S6295716A JP 23618085 A JP23618085 A JP 23618085A JP 23618085 A JP23618085 A JP 23618085A JP S6295716 A JPS6295716 A JP S6295716A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッ
ドに関するものである。
ドに関するものである。
［発明の技術的背景及びその問題点］
近年、蒸着、スパッタ、鍍金等の薄膜形成技術及びエツ
チングによるパターン形成技術を用いて、磁気回路及び
記録再生用コイルを形成する。いわゆる薄膜磁気ヘッド
が、一括製造及び高寸法精度の可能性を有し、従って低
コスト化及び高性能化の可能性を有するものとして注目
を浴びている。
チングによるパターン形成技術を用いて、磁気回路及び
記録再生用コイルを形成する。いわゆる薄膜磁気ヘッド
が、一括製造及び高寸法精度の可能性を有し、従って低
コスト化及び高性能化の可能性を有するものとして注目
を浴びている。
これを浮揚形磁気ヘッドとして磁気ディスク装置等に適
用し高密度記録を実現するためには、リングコアを構成
する磁気回路部分と記録再生用コイル部分とから成るト
ランスデユーサの部分を何らかの方法によって浮揚のた
めのスライダに機械的に結合する必要がある。
用し高密度記録を実現するためには、リングコアを構成
する磁気回路部分と記録再生用コイル部分とから成るト
ランスデユーサの部分を何らかの方法によって浮揚のた
めのスライダに機械的に結合する必要がある。
通常の薄膜磁気ヘッドにおいては、シリコンの結晶ある
いはセラミックを素材とする基板（サブストレート）の
上に°薄膜のトランスデユーサを多数整列して形成した
ウェーハを所要数のトランスデユーサ群から成るトラン
スデユーサ・チップに切断し、エポキシ系樹脂等を素材
とする有機接着剤により各チップをスライダに接着し、
しかる後にスライダの浮揚面とトランスデユーサのボー
ル表面が同一面になるように研磨してスライダ組立体を
作成する。
いはセラミックを素材とする基板（サブストレート）の
上に°薄膜のトランスデユーサを多数整列して形成した
ウェーハを所要数のトランスデユーサ群から成るトラン
スデユーサ・チップに切断し、エポキシ系樹脂等を素材
とする有機接着剤により各チップをスライダに接着し、
しかる後にスライダの浮揚面とトランスデユーサのボー
ル表面が同一面になるように研磨してスライダ組立体を
作成する。
ところが、磁気ディスク装置の記録密度が向上し、スラ
イダ組立体の浮揚量がミクロンないしはミクロン以下と
なるような領域においては、前記有機接着剤の吸湿によ
る膨潤量が相対的に大きく、また温度膨張係数も前記ス
ライダや基板の材料に比して大きいため、エージング等
の処理や精密な同一面研磨を行なっても、使用時に温度
、湿度等の環境状態に変化が生ずると、スライダ・チッ
プ間の相対的位置の非可逆的かつ経時的な変動を避ける
ことが困難となる。加えて、このような変動の様相は前
記有機接着剤の塗布、分布状態に大きく左右されコント
ロールが難かしい。通常、上記の理由に基く変動量は０
．２ないし１ミクロンであり、スライダ組立体の浮揚量
が１ミクロン以下の時には、磁気ヘッドとしての性能の
均一性を大いに損なうばかりでなく、記憶媒体たる磁気
ディスクとの機械的接触を生じやすく致命的な故障の原
因となるおそれがある。
イダ組立体の浮揚量がミクロンないしはミクロン以下と
なるような領域においては、前記有機接着剤の吸湿によ
る膨潤量が相対的に大きく、また温度膨張係数も前記ス
ライダや基板の材料に比して大きいため、エージング等
の処理や精密な同一面研磨を行なっても、使用時に温度
、湿度等の環境状態に変化が生ずると、スライダ・チッ
プ間の相対的位置の非可逆的かつ経時的な変動を避ける
ことが困難となる。加えて、このような変動の様相は前
記有機接着剤の塗布、分布状態に大きく左右されコント
ロールが難かしい。通常、上記の理由に基く変動量は０
．２ないし１ミクロンであり、スライダ組立体の浮揚量
が１ミクロン以下の時には、磁気ヘッドとしての性能の
均一性を大いに損なうばかりでなく、記憶媒体たる磁気
ディスクとの機械的接触を生じやすく致命的な故障の原
因となるおそれがある。
これに対し、従来のフェライトコアによる磁気ヘッドが
採用している対策はガラス融着法であるが、この方法を
薄膜磁気ヘッドに適用しようとすると、パーマロイ系金
属磁性材料と金あるいは銅による導電材料とを用いてい
る関係上、高温炉中におけるガラス融着処理の際に前記
材料間に拡散現象を生じたり、残留応力による磁気的機
械的特性上望ましくない結果をもたらすおそれがある。
採用している対策はガラス融着法であるが、この方法を
薄膜磁気ヘッドに適用しようとすると、パーマロイ系金
属磁性材料と金あるいは銅による導電材料とを用いてい
る関係上、高温炉中におけるガラス融着処理の際に前記
材料間に拡散現象を生じたり、残留応力による磁気的機
械的特性上望ましくない結果をもたらすおそれがある。
そこで、薄膜磁気ヘッドのスライダをトランス啄
ジューサの素板を用いて構成すること、すられら、トラ
ンスジューサとスライダを一体化構成することによって
前記問題点を解決する技術が開示されている（特公昭５
８−３７６０６号参照）。
ンスジューサとスライダを一体化構成することによって
前記問題点を解決する技術が開示されている（特公昭５
８−３７６０６号参照）。
しかしながらこの公知方法では基板上に形成されたトラ
ンスジューサを必要個数毎に分割して切断し、切断チッ
プ毎に浮揚面の研磨を行うものであるため、作業が繁雑
となり、かつチップ相互間の面出しにバラツキが生じ、
検出特性の均一化を図ることが難しいという問題を有し
ている。
ンスジューサを必要個数毎に分割して切断し、切断チッ
プ毎に浮揚面の研磨を行うものであるため、作業が繁雑
となり、かつチップ相互間の面出しにバラツキが生じ、
検出特性の均一化を図ることが難しいという問題を有し
ている。
［発明の目的］
本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、トラン
スジューサとスライダとの一体化構造でありながら浮揚
面の研磨作業と面出しが容易でチップ相互間の特性の均
一化が図れる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること
を目的とする。
スジューサとスライダとの一体化構造でありながら浮揚
面の研磨作業と面出しが容易でチップ相互間の特性の均
一化が図れる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること
を目的とする。
［発明の概要］
前記目的を連成するために本発明は、蒸着、スパッタ、
鍍金等の薄膜形成技術とエツチングによるパターン形成
技術とを用いてシリコン、セラミック等の基板上に行列
状に複数のトランスデユーサを形成し、前記複数のトラ
ンスデユーサを前記基板と共に列方向毎に切断して列状
スライダ組立体を得た後、列状スライダ組立体における
トランスデユーサが形成されている面に直交するトラン
スジューサの空隙部分が整列している側の面を浮揚面と
して精密研磨し、必要単位毎のトランスデユーサに分割
して小株のスライダ組立体を得ることを特徴とするもの
である。
鍍金等の薄膜形成技術とエツチングによるパターン形成
技術とを用いてシリコン、セラミック等の基板上に行列
状に複数のトランスデユーサを形成し、前記複数のトラ
ンスデユーサを前記基板と共に列方向毎に切断して列状
スライダ組立体を得た後、列状スライダ組立体における
トランスデユーサが形成されている面に直交するトラン
スジューサの空隙部分が整列している側の面を浮揚面と
して精密研磨し、必要単位毎のトランスデユーサに分割
して小株のスライダ組立体を得ることを特徴とするもの
である。
［発明の実施例］
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
第１図は基板（又は素板）２０上に配列形成されたトラ
ンスジューサ１０の配置状態を示す要部平面図である。
ンスジューサ１０の配置状態を示す要部平面図である。
本発明においては先ず、上記配列のトランスジューサ群
を破線で示す様に列毎に切断して列状スライダ組立体３
０を得るようになっている。ここで前記トランスジュー
サは、蒸着。
を破線で示す様に列毎に切断して列状スライダ組立体３
０を得るようになっている。ここで前記トランスジュー
サは、蒸着。
スパッタ、鍍金等の薄膜形成技術とエツチングによるパ
ターン形成技術とを用いてシリコン、セラミック等の基
板上に整列して一括形成されたものである。
ターン形成技術とを用いてシリコン、セラミック等の基
板上に整列して一括形成されたものである。
第２図は切断後の列状スライダ組立体３０の斜視図であ
る。同図において１は前記トランスジューサの素板を用
いて構成されたスライダ組立体であって、１０はトラン
スジューサ部分、２はスライダ、３はスライダ２の浮揚
面、４はトランスジューサの磁気回路部分、５はトラン
スジューサの記録再生用コイル部分、６はその引出線部
分、７は図示されていないスライダ支持機構部との結合
のための溝部である。
る。同図において１は前記トランスジューサの素板を用
いて構成されたスライダ組立体であって、１０はトラン
スジューサ部分、２はスライダ、３はスライダ２の浮揚
面、４はトランスジューサの磁気回路部分、５はトラン
スジューサの記録再生用コイル部分、６はその引出線部
分、７は図示されていないスライダ支持機構部との結合
のための溝部である。
第３図はトランスジューサ部の断面を含む要部斜視図で
ある。このトランスジューサ部分１０は、磁気回路部分
４と、磁気回路部分４の両側に引出線部分６を有する１
ターンの記録再生用コイル部分５とから成り、これがス
ライダ２の素材を兼ねた素板上に形成されている。磁気
回路部分４は、それぞれパーマロイを素材とする下部コ
ア部４１と上部コア部４２と、上下コア部間に配置され
たコイル部５１及び金を素材とする空隙部５２とからな
り、この空隙部５２の長さくボールハイド）が後述する
研磨作業の際に精度が要求される部分である。
ある。このトランスジューサ部分１０は、磁気回路部分
４と、磁気回路部分４の両側に引出線部分６を有する１
ターンの記録再生用コイル部分５とから成り、これがス
ライダ２の素材を兼ねた素板上に形成されている。磁気
回路部分４は、それぞれパーマロイを素材とする下部コ
ア部４１と上部コア部４２と、上下コア部間に配置され
たコイル部５１及び金を素材とする空隙部５２とからな
り、この空隙部５２の長さくボールハイド）が後述する
研磨作業の際に精度が要求される部分である。
引出線部６は図示されていない記録再生用回路と接続さ
れている。スライダ２の材質は本実施例においては、ア
ルミナ・チタンカーバイドを用いており、トランスデユ
ーサを多数形成する素板としての厚さは４ｍｍである。
れている。スライダ２の材質は本実施例においては、ア
ルミナ・チタンカーバイドを用いており、トランスデユ
ーサを多数形成する素板としての厚さは４ｍｍである。
尚、トランスデユーサ部分１０の各薄膜の厚さは約２μ
ｍでおる。
ｍでおる。
次に本発明の製造方法を説明する。
前述の如く、行列状にトランスデユーサ群を形成してな
る基板（又は素板＞２０における列方向に配置されたト
ランスデユーサ群を単位列３０とし、各単位列毎にカッ
ターブレード等を用いて切断して列状スライダ組立体を
得た後、第２図に示す様に加工すると共に精密研磨を行
なう。即ち、スライダ２の上面に溝７を形成すると共に
、浮揚面３の一括研磨を行なう。かかる研磨方法によれ
ば、使用単位チップ毎に研磨を行なう従来方法と比べて
面出し・が容易となると共に、作業工数の低減化を図る
ことができる。従って、前記ポールハイドの距離の均一
化が図れ、使用単位チップ毎に分割した場合に、各トラ
ンスデユーサの特性の均一化が図れる。
る基板（又は素板＞２０における列方向に配置されたト
ランスデユーサ群を単位列３０とし、各単位列毎にカッ
ターブレード等を用いて切断して列状スライダ組立体を
得た後、第２図に示す様に加工すると共に精密研磨を行
なう。即ち、スライダ２の上面に溝７を形成すると共に
、浮揚面３の一括研磨を行なう。かかる研磨方法によれ
ば、使用単位チップ毎に研磨を行なう従来方法と比べて
面出し・が容易となると共に、作業工数の低減化を図る
ことができる。従って、前記ポールハイドの距離の均一
化が図れ、使用単位チップ毎に分割した場合に、各トラ
ンスデユーサの特性の均一化が図れる。
しかる後必要単位くチップ）毎に分割してスライダ組立
体１を製作する。
体１を製作する。
第４図は上述の如きスライダ組立体１の浮揚状態を示す
図であり、８は磁気ディスクである。磁気ディスク８は
速度Ｕをもって矢印の方向に回転しており、これに対し
てスライダ組立体１はＷなる押圧力を加えられ、トラン
スデユーサ部分１０の近傍においてｈｍなる浮揚最で浮
揚している。
図であり、８は磁気ディスクである。磁気ディスク８は
速度Ｕをもって矢印の方向に回転しており、これに対し
てスライダ組立体１はＷなる押圧力を加えられ、トラン
スデユーサ部分１０の近傍においてｈｍなる浮揚最で浮
揚している。
本発明は前記実施例に限定されず種々の変形が可能であ
る。例えばトランスデユーサ部分１０の各部及びスライ
ダ２の材料、構成、形状９寸法は適宜選択でき、また、
素板上のトランスデユーサ部分１０の配置、構成等も本
発明の範囲内で適宜変形して実施することができる。更
に、トランスデユーサ部分を保護するためにトランスデ
ユーサ部分の表面に、４００℃以下の処理温度でセラミ
ック、ガラス、アルミナ膜その他の保護膜を付与しても
よい。
る。例えばトランスデユーサ部分１０の各部及びスライ
ダ２の材料、構成、形状９寸法は適宜選択でき、また、
素板上のトランスデユーサ部分１０の配置、構成等も本
発明の範囲内で適宜変形して実施することができる。更
に、トランスデユーサ部分を保護するためにトランスデ
ユーサ部分の表面に、４００℃以下の処理温度でセラミ
ック、ガラス、アルミナ膜その他の保護膜を付与しても
よい。
［発明の効果］
以上詳述した本発明によれば、第１に素板を用いてスラ
イダを構成したのでトランスデユーサとスライダの一体
化が図れ、従来の如き有機接着剤を必要としないので非
可逆的かつ経時的な位置変動が避けられ非常に安定かつ
均一なスライダ組立体を得ることができる。第２に、従
来の如くチップ単位毎に浮揚面り精密研磨を行なうので
はなく、複数のトランスデユーサを含む列毎に切断した
段階で全体を一括研磨するようにしているので面出しが
極めて容易で、作業工数の低減化が図れ、しかも研磨後
に必要単位に分割した後は各単位毎に特性が揃っている
という効果が得られる。
イダを構成したのでトランスデユーサとスライダの一体
化が図れ、従来の如き有機接着剤を必要としないので非
可逆的かつ経時的な位置変動が避けられ非常に安定かつ
均一なスライダ組立体を得ることができる。第２に、従
来の如くチップ単位毎に浮揚面り精密研磨を行なうので
はなく、複数のトランスデユーサを含む列毎に切断した
段階で全体を一括研磨するようにしているので面出しが
極めて容易で、作業工数の低減化が図れ、しかも研磨後
に必要単位に分割した後は各単位毎に特性が揃っている
という効果が得られる。
第１図は本発明の実施例におけるトランスデユーサの配
置状態を示す要部平面図、第２図は切断後の単位列部分
の斜視図、第３図はトランスデユーサの断面を含む要部
斜視図、第４図はスライダ組立体の浮揚状態を示す図で
ある。 １・・・スライダ組立体、２・・・スライダ、３・・・
浮揚面、４・・・磁気回路部分、１０・・・トランスデ
ユーサ部分、 ２０・・・基板（素板）、 ３０・・・列状スライダ組立体。 第 ４ 図
置状態を示す要部平面図、第２図は切断後の単位列部分
の斜視図、第３図はトランスデユーサの断面を含む要部
斜視図、第４図はスライダ組立体の浮揚状態を示す図で
ある。 １・・・スライダ組立体、２・・・スライダ、３・・・
浮揚面、４・・・磁気回路部分、１０・・・トランスデ
ユーサ部分、 ２０・・・基板（素板）、 ３０・・・列状スライダ組立体。 第 ４ 図
Claims (1)
- 蒸着、スパッタ、鍍金等の薄膜形成技術とエッチングに
よるパターン形成技術とを用いてシリコン、セラミック
等の基板上に行列状に複数のトランスデューサを形成し
、前記複数のトランスデューサを前記基板と共に列方向
毎に切断して列状スライダ組立体を得た後、列状スライ
ダ組立体におけるトランスデューサが形成されている面
に直交するトランスデューサの空隙部分が整列している
側の面を浮揚面として精密研磨し、必要単位毎のトラン
スデューサに分割して単体のスライダ組立体を得ること
を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23618085A JPS6295716A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23618085A JPS6295716A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6295716A true JPS6295716A (ja) | 1987-05-02 |
Family
ID=16996954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23618085A Pending JPS6295716A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6295716A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5624298A (en) * | 1994-02-17 | 1997-04-29 | Tdk Corporation | Jig for headpiece aggregate machining and method for manufacturing a thin film magnetic head |
| US5694677A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-09 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin film magnetic head |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23618085A patent/JPS6295716A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5624298A (en) * | 1994-02-17 | 1997-04-29 | Tdk Corporation | Jig for headpiece aggregate machining and method for manufacturing a thin film magnetic head |
| US5694677A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-09 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin film magnetic head |
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