JPS63110341A - 施釉コンクリ−トパネル - Google Patents
施釉コンクリ−トパネルInfo
- Publication number
- JPS63110341A JPS63110341A JP25800286A JP25800286A JPS63110341A JP S63110341 A JPS63110341 A JP S63110341A JP 25800286 A JP25800286 A JP 25800286A JP 25800286 A JP25800286 A JP 25800286A JP S63110341 A JPS63110341 A JP S63110341A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concrete panel
- cement
- silica
- panel
- glazed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 229910021487 silica fume Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 6
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Landscapes
- Panels For Use In Building Construction (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は施釉コンクリートパネルに関する。
さらに詳しくは、焼成に際しクラックが発生することが
なく、また表面の平滑性および釉薬の密着性に優れた施
釉コンクリートパネルに関する。
なく、また表面の平滑性および釉薬の密着性に優れた施
釉コンクリートパネルに関する。
［従来の技術］
従来よりコンクリートパネルは、あらかじめ工場で製造
されるため現場で型枠を組んでコンクリートを打設する
必要がなく品質に優れるとともに、工期の大巾な短縮が
図れるためプレハブ住宅や、ビル、工場、倉庫などの一
般建築物のカーテンウオール、床などに多用されている
。
されるため現場で型枠を組んでコンクリートを打設する
必要がなく品質に優れるとともに、工期の大巾な短縮が
図れるためプレハブ住宅や、ビル、工場、倉庫などの一
般建築物のカーテンウオール、床などに多用されている
。
かかるコンクリートパネルは、美観を向−トさせたり、
耐久性を向上させるためにパネル表面に釉薬が焼付けら
れる。
耐久性を向上させるためにパネル表面に釉薬が焼付けら
れる。
［発明が解決しようとする間ｍ点］
しかしながら、従来のコンクリートパネルにおいては、
流動性を確保するため水セメント比が高く、また型枠成
形のばあいは表面水（ブリージング）の影響や型枠接触
面では水が型枠面に集まるためパネルの表層部の水セメ
ント比が高くなってしまい、焼成に際し該表層部の熱膨
張率が高くなるため亀甲状のクラックが発生し、美観を
損ねるだけでなくコンクリートパネルの強度を低下させ
るという問題がある。
流動性を確保するため水セメント比が高く、また型枠成
形のばあいは表面水（ブリージング）の影響や型枠接触
面では水が型枠面に集まるためパネルの表層部の水セメ
ント比が高くなってしまい、焼成に際し該表層部の熱膨
張率が高くなるため亀甲状のクラックが発生し、美観を
損ねるだけでなくコンクリートパネルの強度を低下させ
るという問題がある。
また表層部の水セメント比が高くなることよりコンクリ
ートが緻密でなくなり、表面の平滑性および釉薬の密着
性に劣るという問題がある。
ートが緻密でなくなり、表面の平滑性および釉薬の密着
性に劣るという問題がある。
本発明は斜上の事情に鑑み、前記従来例の有する欠点が
解消されたコンクリートパネルを提供することを目的と
する。すなわち本発明の目的は、セメント混練物中にシ
リカヒユームを含ませることで、焼成時におけるクラッ
クの発生を防止することができるとともに、表面が平滑
でかつ釉薬の密着性に優れた施釉コンクリートパネルを
提供することである。
解消されたコンクリートパネルを提供することを目的と
する。すなわち本発明の目的は、セメント混練物中にシ
リカヒユームを含ませることで、焼成時におけるクラッ
クの発生を防止することができるとともに、表面が平滑
でかつ釉薬の密着性に優れた施釉コンクリートパネルを
提供することである。
［問題点を解決するための手段］
本発明の施釉コンクリートパネルは、表面に釉薬が焼付
けられたコンクリートパネルであって、該コンクリート
パネルの少なくとも表層部にシリカヒユームが含まれて
なることを特徴としている。
けられたコンクリートパネルであって、該コンクリート
パネルの少なくとも表層部にシリカヒユームが含まれて
なることを特徴としている。
［作 用］
本発明の施釉コンクリートパネルにおいては、セメント
粒子間にシリカヒユームが充填されるため、水セメント
比が低減され、さらにシリカヒユームとセメントのアル
カリ（セメントの成分中の水酸化カルシウムなど）が反
応硬化するため緻密なコンクリートかえられる。
粒子間にシリカヒユームが充填されるため、水セメント
比が低減され、さらにシリカヒユームとセメントのアル
カリ（セメントの成分中の水酸化カルシウムなど）が反
応硬化するため緻密なコンクリートかえられる。
［実施例］
つぎに図面に基づき本発明の施釉コンクリートパネルを
説明する。
説明する。
′！Ｊ１図は本発明の施釉コンクリートパネルにおける
セメント粒子とシリカヒユームの様子を示す概略説明図
である。
セメント粒子とシリカヒユームの様子を示す概略説明図
である。
第１図において（１）はセメント粒子、（２）はシリカ
ヒユームである。シリカヒユーム（２）はシリカガスを
集塵してえられる球形の超微粉末であり、セメント粒子
間の間隙を充填する。
ヒユームである。シリカヒユーム（２）はシリカガスを
集塵してえられる球形の超微粉末であり、セメント粒子
間の間隙を充填する。
シリカヒユーム（２）は、通常比表面積が約２００．０
００ ｃｌ／ ｇ−と極めて微細な粉末であるため、セ
メントに対し少量添加するだけでセメント各粒子は多数
のシリカヒユームで囲まれる。
００ ｃｌ／ ｇ−と極めて微細な粉末であるため、セ
メントに対し少量添加するだけでセメント各粒子は多数
のシリカヒユームで囲まれる。
本発明におけるシリカヒユーム（′２Ｊとしては、ニッ
ケパウダー（商品名）やハンナシリカ（商品名）など通
常市販されているものを用いることができる。
ケパウダー（商品名）やハンナシリカ（商品名）など通
常市販されているものを用いることができる。
シリカヒユーム（２はコンクリートパネル全体にゆきわ
たるように添加しパネル全体の緻密化を図ってもよいし
、パネルの中心部は通常の調合とし、その表層部のみに
シリカヒユーム（２）を添加するようにしてもよい。パ
ネル全体に添加するときは、パネル全体を緻密な構造と
することができる。
たるように添加しパネル全体の緻密化を図ってもよいし
、パネルの中心部は通常の調合とし、その表層部のみに
シリカヒユーム（２）を添加するようにしてもよい。パ
ネル全体に添加するときは、パネル全体を緻密な構造と
することができる。
シリカヒユーム（２）は、セメントに対し概ね１０〜４
５％（重量％、以下同じ）添加するのが好ましく、１０
％未満だと亀裂抑制効果に貧しいという問題があり、一
方、４５％を超えても効果に変化がない。
５％（重量％、以下同じ）添加するのが好ましく、１０
％未満だと亀裂抑制効果に貧しいという問題があり、一
方、４５％を超えても効果に変化がない。
シリカヒユーム（２］の添加は、スラリー状にして行な
えばよい。
えばよい。
添加されたシリカヒユーム（ａは、前述したように、セ
メント粒子（１）の周囲を従来その部分にあった水分に
おきかわるがごとくしてとり囲むため、シリカヒユーム
（′２Ｊ添加部分の水セメント比が小さくなるとともに
セメントの流動性が向上する。またシリカヒユーム（２
）はセメントのアルカリと反応硬化するため緻密なコン
クリートかえられる。
メント粒子（１）の周囲を従来その部分にあった水分に
おきかわるがごとくしてとり囲むため、シリカヒユーム
（′２Ｊ添加部分の水セメント比が小さくなるとともに
セメントの流動性が向上する。またシリカヒユーム（２
）はセメントのアルカリと反応硬化するため緻密なコン
クリートかえられる。
［発明の効果］
以上説明したとおり、本発明のコンクリートパネルにお
いては、パネルにシリカヒユームが添加されているので
、水セメント比を下げることができ、焼成時にパネル表
面にクラックが発生するのが防止される。また、水セメ
ント比の低下、セメント流動性の向上、シリカヒユーム
とセメントのアルカリとの反応硬化などによりコンリー
トが緻密なものとなるため、表面の平滑性および釉薬の
密着性にすぐれたコンクリートパネルをうろことができ
る。
いては、パネルにシリカヒユームが添加されているので
、水セメント比を下げることができ、焼成時にパネル表
面にクラックが発生するのが防止される。また、水セメ
ント比の低下、セメント流動性の向上、シリカヒユーム
とセメントのアルカリとの反応硬化などによりコンリー
トが緻密なものとなるため、表面の平滑性および釉薬の
密着性にすぐれたコンクリートパネルをうろことができ
る。
第１図は本発明の施釉コンクリートパネルにおけるセメ
ント粒子とシリカヒユームの様子を示す概略説明図であ
る。 （図面の符号） （１）：セメント粒子 （２Ｊニジリカヒユーム 特許出願人 ナショナル住宅産業株式会社代理人弁理
士 朝日奈 宗太 ほか１名第１ 図 １：セメント粒子 ２：シリカヒューム
ント粒子とシリカヒユームの様子を示す概略説明図であ
る。 （図面の符号） （１）：セメント粒子 （２Ｊニジリカヒユーム 特許出願人 ナショナル住宅産業株式会社代理人弁理
士 朝日奈 宗太 ほか１名第１ 図 １：セメント粒子 ２：シリカヒューム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 表面に釉薬が焼付けられたコンクリートパネルであ
って、該コンクリートパネルの少なくとも表層部にシリ
カヒュームが含まれてなることを特徴とする施釉コンク
リートパネル。 ２ シリカヒュームの含有率がセメントに対し１０〜４
５重量％である特許請求の範囲第１項記載の施釉コンク
リートパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25800286A JPS63110341A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 施釉コンクリ−トパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25800286A JPS63110341A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 施釉コンクリ−トパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63110341A true JPS63110341A (ja) | 1988-05-14 |
Family
ID=17314168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25800286A Pending JPS63110341A (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | 施釉コンクリ−トパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63110341A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02160680A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-20 | Matsushita Electric Works Ltd | セメント板の製造方法 |
| JPH04213653A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-04 | Natl House Ind Co Ltd | 施釉コンクリートパネル |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219748A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-09-30 | 株式会社イナックス | 高強度セメント製品および施釉セメント製品の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-28 JP JP25800286A patent/JPS63110341A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219748A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-09-30 | 株式会社イナックス | 高強度セメント製品および施釉セメント製品の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02160680A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-20 | Matsushita Electric Works Ltd | セメント板の製造方法 |
| JPH04213653A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-04 | Natl House Ind Co Ltd | 施釉コンクリートパネル |
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