JPH04213653A - 施釉コンクリートパネル - Google Patents
施釉コンクリートパネルInfo
- Publication number
- JPH04213653A JPH04213653A JP40104190A JP40104190A JPH04213653A JP H04213653 A JPH04213653 A JP H04213653A JP 40104190 A JP40104190 A JP 40104190A JP 40104190 A JP40104190 A JP 40104190A JP H04213653 A JPH04213653 A JP H04213653A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- cement
- layer
- panel
- top layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
- Panels For Use In Building Construction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は施釉コンクリートパネル
に関する。さらに詳しくは、パネルの反りなどの不具合
を招くことなく良好な成形性を確保するとともに釉の付
着力の向上を図ることができる施釉コンクリートパネル
に関する。
に関する。さらに詳しくは、パネルの反りなどの不具合
を招くことなく良好な成形性を確保するとともに釉の付
着力の向上を図ることができる施釉コンクリートパネル
に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従来
よりコンクリートパネルは、あらかじめ工場で製造され
るため現場で型枠を組んでコンクリートを打設する必要
がなく品質に優れるとともに、工期の大巾な短縮が図れ
るためプレハブ住宅や、ビル、工場、倉庫などの一般建
築物のカーテンウォール、床などに多用されている。
よりコンクリートパネルは、あらかじめ工場で製造され
るため現場で型枠を組んでコンクリートを打設する必要
がなく品質に優れるとともに、工期の大巾な短縮が図れ
るためプレハブ住宅や、ビル、工場、倉庫などの一般建
築物のカーテンウォール、床などに多用されている。
【０００３】かかるコンクリートパネルは、美観を向上
させたり耐久性を向上させるためにパネル表面に施釉が
行われるばあいがある。
させたり耐久性を向上させるためにパネル表面に施釉が
行われるばあいがある。
【０００４】一方、パネル製品として表面の成形性を高
める必要があるが、従来においては、この成形性を向上
させるのに、セメント混練物中のセメントの割合を増加
させたり、水セメント比を大きくしたり、また使用する
骨材の粒度を小さくするといった方法が採用されている
。
める必要があるが、従来においては、この成形性を向上
させるのに、セメント混練物中のセメントの割合を増加
させたり、水セメント比を大きくしたり、また使用する
骨材の粒度を小さくするといった方法が採用されている
。
【０００５】しかしながら、このような従来の方法によ
り成形性が高められたセメント成形体に釉薬処理を施す
ばあい、材料の分離によってセメント成形体の上層部分
と中層ないし下層部分との熱膨張率のバランスがくずれ
、焼成・冷却時にパネルが反ったり、パネルの表層強度
が低下してしまうといった不具合現象が発生していた。
り成形性が高められたセメント成形体に釉薬処理を施す
ばあい、材料の分離によってセメント成形体の上層部分
と中層ないし下層部分との熱膨張率のバランスがくずれ
、焼成・冷却時にパネルが反ったり、パネルの表層強度
が低下してしまうといった不具合現象が発生していた。
【０００６】本発明は、叙上の事情に鑑み、前記従来技
術の有する欠点が解消された施釉コンクリートパネルを
提供することを目的とする。すなわち、本発明の目的は
、パネルの反りや表層強度の低下といった不都合を招く
ことなく成形性を高めることができ、しかもパネル表面
への釉の付着力を向上させることができる施釉コンクリ
ートパネルを提供することを目的とする。
術の有する欠点が解消された施釉コンクリートパネルを
提供することを目的とする。すなわち、本発明の目的は
、パネルの反りや表層強度の低下といった不都合を招く
ことなく成形性を高めることができ、しかもパネル表面
への釉の付着力を向上させることができる施釉コンクリ
ートパネルを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の施釉コンクリー
トパネルは、表面に釉薬が焼付けられたコンクリートパ
ネルであって、該コンクリートパネルの基材層がシリカ
ヒュームを混入せしめたトップ層を有してなることを特
徴としている。
トパネルは、表面に釉薬が焼付けられたコンクリートパ
ネルであって、該コンクリートパネルの基材層がシリカ
ヒュームを混入せしめたトップ層を有してなることを特
徴としている。
【０００８】
【実施例】以下、添付図面に基づき本発明の施釉コンク
リートパネルを説明する。
リートパネルを説明する。
【０００９】図１は本発明の施釉コンクリートパネルの
一実施例の断面説明図である。
一実施例の断面説明図である。
【００１０】図において、（１） はベース層（２）
およびトップ層（３） からなる基材層であり、セメン
ト混練物を成形し、焼成し、ついで冷却したものである
。
およびトップ層（３） からなる基材層であり、セメン
ト混練物を成形し、焼成し、ついで冷却したものである
。
【００１１】セメント混練物は、セメント、骨材、水お
よび必要に応じ適宜添加される混和材または混和剤を練
り混ぜたものである。セメントとしてはポルトランドセ
メントや混合セメントなどを、また骨材としては発泡頁
岩、磁気質シャモット、抗火石などそれぞれ通常用いら
れているものを使用すればよく本発明においてとくに限
定されるものではない。また、パネルに要求される強度
や耐水性などの特性に応じて適宜の混和材または混和剤
を使用すればよい。
よび必要に応じ適宜添加される混和材または混和剤を練
り混ぜたものである。セメントとしてはポルトランドセ
メントや混合セメントなどを、また骨材としては発泡頁
岩、磁気質シャモット、抗火石などそれぞれ通常用いら
れているものを使用すればよく本発明においてとくに限
定されるものではない。また、パネルに要求される強度
や耐水性などの特性に応じて適宜の混和材または混和剤
を使用すればよい。
【００１２】ベース層（２） とトップ層（３） の厚
さは、本発明においてとくに限定されず、パネルの用途
や要求される強度などに応じて適宜選定すればよいが、
それぞれ概ね５０〜１５０ｍｍ および５〜１５ｍｍが
目安である。
さは、本発明においてとくに限定されず、パネルの用途
や要求される強度などに応じて適宜選定すればよいが、
それぞれ概ね５０〜１５０ｍｍ および５〜１５ｍｍが
目安である。
【００１３】本発明の特徴は、前記トップ層（３） 中
にシリカヒューム（鉄くずと石英、石炭、コークス、木
材を電気炉で２０００℃に溶融しフェロシリコンを製造
するときに発生するシリカガスを集塵してえられる超微
粉（平均粒径０．１５μｍ 程度）の ＳｉＯ２ のこ
とであり、たとえばエルケム社のマイクロシリカ（商品
名）などがある）が混入されていることである。トップ
層（３） にシリカヒュームを混入すると、該シリカヒ
ュームのベアリング効果によってセメント量一定で水セ
メント比を上げることなく良好な成形性をうることがで
きる。また、シリカヒュームがセメント粒子間に充填さ
れるため緻密な構造となり、釉面の付着力およびパネル
の表層強度の向上を図ることができる。
にシリカヒューム（鉄くずと石英、石炭、コークス、木
材を電気炉で２０００℃に溶融しフェロシリコンを製造
するときに発生するシリカガスを集塵してえられる超微
粉（平均粒径０．１５μｍ 程度）の ＳｉＯ２ のこ
とであり、たとえばエルケム社のマイクロシリカ（商品
名）などがある）が混入されていることである。トップ
層（３） にシリカヒュームを混入すると、該シリカヒ
ュームのベアリング効果によってセメント量一定で水セ
メント比を上げることなく良好な成形性をうることがで
きる。また、シリカヒュームがセメント粒子間に充填さ
れるため緻密な構造となり、釉面の付着力およびパネル
の表層強度の向上を図ることができる。
【００１４】好ましいシリカヒュームの混入率は、水セ
メント比や骨材の種類、粒度などにより異なるため一概
には言えないが、通常はセメントに対して１０〜３０重
量％である。
メント比や骨材の種類、粒度などにより異なるため一概
には言えないが、通常はセメントに対して１０〜３０重
量％である。
【００１５】（４） は基材層（１） の表面に設けら
れた釉薬層である。この釉薬層（４） は、乾燥後のセ
メント成形体の表面に生釉、フリット釉などの釉薬を塗
布して、焼成することで形成される。釉薬の塗布量はと
くに限定されないが、概ね０．５ 〜２ｋｇ／ｍ２ で
あり、ハケ塗り、スプレー塗り、流し塗りなどにより施
釉される。
れた釉薬層である。この釉薬層（４） は、乾燥後のセ
メント成形体の表面に生釉、フリット釉などの釉薬を塗
布して、焼成することで形成される。釉薬の塗布量はと
くに限定されないが、概ね０．５ 〜２ｋｇ／ｍ２ で
あり、ハケ塗り、スプレー塗り、流し塗りなどにより施
釉される。
【００１６】つぎに本発明の施釉コンクリートパネルの
製法について説明する。
製法について説明する。
【００１７】まずベース層を構成するセメント混練物を
打設し、その上にシリカヒュームが混入されたセメント
混練物を打設する。セメント混練物の打設は、型枠を用
いて行ってもよいし、型枠を用いずに連続的に行うよう
にしてもよい。
打設し、その上にシリカヒュームが混入されたセメント
混練物を打設する。セメント混練物の打設は、型枠を用
いて行ってもよいし、型枠を用いずに連続的に行うよう
にしてもよい。
【００１８】ステンレス製の板ソリなどを用いて表面の
成形を行ったのち３０〜６０℃で６時間程度養生が行わ
れる。養生後、コンクリート基材は２５０ 〜３５０
℃の温度で３〜５時間程度乾燥される。
成形を行ったのち３０〜６０℃で６時間程度養生が行わ
れる。養生後、コンクリート基材は２５０ 〜３５０
℃の温度で３〜５時間程度乾燥される。
【００１９】乾燥後に、コンクリート基材の表面に生釉
、フリット釉などの釉薬が塗布される。釉薬の塗布量は
とくに限定されないが、概ね０．５ 〜２ｋｇ／ｍ２
であり、ハケ塗り、スプレー塗り、流し塗りなどにより
施釉される。
、フリット釉などの釉薬が塗布される。釉薬の塗布量は
とくに限定されないが、概ね０．５ 〜２ｋｇ／ｍ２
であり、ハケ塗り、スプレー塗り、流し塗りなどにより
施釉される。
【００２０】施釉後、コンクリート基材はローラーハー
スキルンなどの焼成炉にて焼成される。焼成条件は、釉
薬の種類などにより異なるが８００ 〜９００ ℃の温
度で１時間程度焼成が行われる。
スキルンなどの焼成炉にて焼成される。焼成条件は、釉
薬の種類などにより異なるが８００ 〜９００ ℃の温
度で１時間程度焼成が行われる。
【００２１】焼成後のコンクリートパネルは強度向上の
ため必要に応じて水中浸漬および蒸気養生により再水和
が施される。
ため必要に応じて水中浸漬および蒸気養生により再水和
が施される。
【００２２】つぎに本発明の施釉コンクリートパネルを
実施例に基づいて説明するが、本発明はもとよりかかる
実施例にのみ限定されるものではない。
実施例に基づいて説明するが、本発明はもとよりかかる
実施例にのみ限定されるものではない。
【００２３】実施例１〜３
以下に示される配合のセメント混練物を調製し、ベース
層、トップ層の順に無型枠連続打設を行った。シリカヒ
ュームの使用量は、セメントに対して１０重量％（実施
例１）、２０重量％（実施例２）または３０重量％（実
施例３）であった。
層、トップ層の順に無型枠連続打設を行った。シリカヒ
ュームの使用量は、セメントに対して１０重量％（実施
例１）、２０重量％（実施例２）または３０重量％（実
施例３）であった。
【００２４】ベース層（各実施例共通）
ポルトランドセメント
３０．５重量％ 発
泡頁岩 ０〜２．５ ｍｍ＊
３６．７重量
％ ２．５ 〜５．０ ｍｍ＊
３２．８
重量％ 水結合材比＊＊
５０％
トップ層 ポルトランドセメント
２７重量％ 発
泡頁岩 ０〜２．５ ｍｍ＊
７３重量
％ 混和材（花王（株）製のマイティ １５
０） １．５ 重量％
（セメント重量基準）
水結合材比＊＊
５９％（実施例１）
５５％（実施
例２）
５２％（実施例３） ＊ 使用する骨
材の粒度範囲を示す。 ＊＊ 水と結合材（セメント＋シリカヒ
ューム）との重量比。
３０．５重量％ 発
泡頁岩 ０〜２．５ ｍｍ＊
３６．７重量
％ ２．５ 〜５．０ ｍｍ＊
３２．８
重量％ 水結合材比＊＊
５０％
トップ層 ポルトランドセメント
２７重量％ 発
泡頁岩 ０〜２．５ ｍｍ＊
７３重量
％ 混和材（花王（株）製のマイティ １５
０） １．５ 重量％
（セメント重量基準）
水結合材比＊＊
５９％（実施例１）
５５％（実施
例２）
５２％（実施例３） ＊ 使用する骨
材の粒度範囲を示す。 ＊＊ 水と結合材（セメント＋シリカヒ
ューム）との重量比。
【００２５】打設してから６０℃で１２時間養生した。
【００２６】ついでコンクリート基材を３００ ℃で５
時間乾燥させたのちに、基材表面に釉薬（ホウ酸系フリ
ット、蛙目粘土、ＣＭＣ および水の配合比（重量比）
が１００：４：０．３：６０の釉薬。ガラス化温度：６
２３ ℃）を１ｋｇ／ｍ２ の厚さで塗布した。そして
、電気炉にて１時間（焼成温度：８５０ ℃）で焼成し
た。
時間乾燥させたのちに、基材表面に釉薬（ホウ酸系フリ
ット、蛙目粘土、ＣＭＣ および水の配合比（重量比）
が１００：４：０．３：６０の釉薬。ガラス化温度：６
２３ ℃）を１ｋｇ／ｍ２ の厚さで塗布した。そして
、電気炉にて１時間（焼成温度：８５０ ℃）で焼成し
た。
【００２７】焼成したのちに、水中に３０分間浸漬し、
最後に６０℃、９８％ＲＨ下で３日間養生を行って再水
和させた。
最後に６０℃、９８％ＲＨ下で３日間養生を行って再水
和させた。
【００２８】えられた施釉コンクリートパネルについて
釉面の状況を目視にて観察したところ、表面は平滑であ
りピンホールなどの欠陥は観察されなかった。また、Ｊ
ＩＳ Ａ１１０８ に準拠してトップ層の圧縮強度（ｋ
ｇ／ｃｍ２ ）を測定したところ、３６０ｋｇ／ｃｍ２
（実施例１）、４１０ｋｇ／ｃｍ２ （実施例２）お
よび４５０ｋｇ／ｃｍ２ （実施例３）であった。 なお、コンクリート表面の成形性はいずれの実施例も非
常に良好であり、短時間で容易に成形を行うことができ
た。
釉面の状況を目視にて観察したところ、表面は平滑であ
りピンホールなどの欠陥は観察されなかった。また、Ｊ
ＩＳ Ａ１１０８ に準拠してトップ層の圧縮強度（ｋ
ｇ／ｃｍ２ ）を測定したところ、３６０ｋｇ／ｃｍ２
（実施例１）、４１０ｋｇ／ｃｍ２ （実施例２）お
よび４５０ｋｇ／ｃｍ２ （実施例３）であった。 なお、コンクリート表面の成形性はいずれの実施例も非
常に良好であり、短時間で容易に成形を行うことができ
た。
【００２９】比較例１
トップ層にシリカヒュームをまったく混入せず、かつ水
結合材比を６５％にした以外は実施例１と同様にして施
釉コンクリートパネルを製造した。
結合材比を６５％にした以外は実施例１と同様にして施
釉コンクリートパネルを製造した。
【００３０】えられたパネルの釉面にはコンクリート表
面成形時に起因するピンホールが多数認められた。また
、実施例１と同様にして測定したトップ層の圧縮強度は
３５０ｋｇ／ｃｍ２ であった。
面成形時に起因するピンホールが多数認められた。また
、実施例１と同様にして測定したトップ層の圧縮強度は
３５０ｋｇ／ｃｍ２ であった。
【００３１】比較例２〜３
シリカヒュームの混入量を４０重量％（比較例２）また
は５０重量％（比較例３）とし、また水結合材比を５８
％（比較例２）または６２％（比較例３）とした以外は
実施例１と同様にして施釉コンクリートパネルを製造し
た。
は５０重量％（比較例３）とし、また水結合材比を５８
％（比較例２）または６２％（比較例３）とした以外は
実施例１と同様にして施釉コンクリートパネルを製造し
た。
【００３２】えられたパネルの釉面は平滑であり、ピン
ホールなどの欠陥は観察されなかったが、コンクリート
表面の成形性がわるく、表面がたれてしまうため成形が
非常に困難であった。なお、実施例１と同様にしてトッ
プ層の圧縮強度を測定したところ、それぞれ３９０ｋｇ
／ｃｍ２ （比較例２）および３６０ｋｇ／ｃｍ２ （
比較例３）であった。
ホールなどの欠陥は観察されなかったが、コンクリート
表面の成形性がわるく、表面がたれてしまうため成形が
非常に困難であった。なお、実施例１と同様にしてトッ
プ層の圧縮強度を測定したところ、それぞれ３９０ｋｇ
／ｃｍ２ （比較例２）および３６０ｋｇ／ｃｍ２ （
比較例３）であった。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の施釉コン
クリートパネルにおいては、コンクリート基材層のうち
のトップ層にシリカヒュームが混入されており、このシ
リカヒュームのベアリング効果によりセメント使用量を
増やしたり、水セメント比を大きくすることなく表面の
流動性を高めて成形性を向上させることができる。この
ため、焼成によってパネルに反りが生じることがなくな
る。さらに、シリカヒュームの充填効果により、トップ
層が緻密な構造となり、釉面の付着力およびパネルの圧
縮強度の向上を図ることができる。
クリートパネルにおいては、コンクリート基材層のうち
のトップ層にシリカヒュームが混入されており、このシ
リカヒュームのベアリング効果によりセメント使用量を
増やしたり、水セメント比を大きくすることなく表面の
流動性を高めて成形性を向上させることができる。この
ため、焼成によってパネルに反りが生じることがなくな
る。さらに、シリカヒュームの充填効果により、トップ
層が緻密な構造となり、釉面の付着力およびパネルの圧
縮強度の向上を図ることができる。
【図１】本発明の施釉コンクリートパネルの一実施例の
断面説明図である。
断面説明図である。
１ 基材層
２ ベース層
３ トップ層
４ 釉薬層
Claims (2)
- 【請求項１】 表面に釉薬が焼付けられたコンクリー
トパネルであって、該コンクリートパネルの基材層がシ
リカヒュームを混入せしめたトップ層を有してなること
を特徴とする施釉コンクリートパネル。 - 【請求項２】 前記トップ層のシリカヒュームの含有
率がセメントに対して１０〜３０重量％である請求項１
記載の施釉コンクリートパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40104190A JPH04213653A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 施釉コンクリートパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40104190A JPH04213653A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 施釉コンクリートパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04213653A true JPH04213653A (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=18510902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40104190A Pending JPH04213653A (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | 施釉コンクリートパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04213653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040043407A (ko) * | 2002-11-18 | 2004-05-24 | 광일산업 주식회사 | 유약층이 형성된 시멘트 몰탈 제품 및 그 제조방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63110341A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-14 | ナショナル住宅産業株式会社 | 施釉コンクリ−トパネル |
-
1990
- 1990-12-10 JP JP40104190A patent/JPH04213653A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63110341A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-14 | ナショナル住宅産業株式会社 | 施釉コンクリ−トパネル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040043407A (ko) * | 2002-11-18 | 2004-05-24 | 광일산업 주식회사 | 유약층이 형성된 시멘트 몰탈 제품 및 그 제조방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981013 |